標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 16841-2008 能量為300 keV~25 MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則》相比于其前版《GB/T 16841-1997》,主要在以下幾個方面進行了更新與完善:
-
技術(shù)內(nèi)容的更新:新版標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)電子束輻射加工技術(shù)的最新發(fā)展,修訂了部分技術(shù)參數(shù)和測量方法,以更準(zhǔn)確地反映當(dāng)前行業(yè)實踐和科學(xué)進步。這包括對劑量測量儀器的精度要求提升,以及對劑量分布測量和計算方法的優(yōu)化。
-
安全規(guī)范的加強:鑒于對輻射安全的更高要求,2008版標(biāo)準(zhǔn)在輻射防護和安全操作規(guī)程方面做了更為詳盡的規(guī)定,增強了對操作人員和環(huán)境的保護措施,確保輻射加工過程的安全性。
-
術(shù)語和定義的標(biāo)準(zhǔn)化:為了與國際標(biāo)準(zhǔn)接軌并提高標(biāo)準(zhǔn)的通用性,新版標(biāo)準(zhǔn)對相關(guān)專業(yè)術(shù)語進行了修訂和補充,使其更加清晰準(zhǔn)確,便于國內(nèi)外業(yè)界的交流與理解。
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測試與驗證方法的改進:提供了更為詳細(xì)和可操作性的測試方法指導(dǎo),包括對電子束能量、劑量率及總劑量的測量方法進行細(xì)化,以確保輻射加工設(shè)備性能評估的準(zhǔn)確性和一致性。
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質(zhì)量控制體系的強化:強調(diào)了建立和完善輻射加工裝置的質(zhì)量控制體系的重要性,新增或調(diào)整了有關(guān)質(zhì)量保證的要求,確保加工過程的穩(wěn)定性和產(chǎn)品的一致性。
-
參考文獻(xiàn)與標(biāo)準(zhǔn)的更新:引用了更多近期的科學(xué)研究成果和國際標(biāo)準(zhǔn),使得該標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)基礎(chǔ)更為堅實,提高了標(biāo)準(zhǔn)的權(quán)威性和實用性。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2008-09-19 頒布
- 2009-08-01 實施
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GB/T 16841-2008能量為300 keV~25 MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則-免費下載試讀頁文檔簡介
犐犆犛17.240
犃58
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜16841—2008/犐犛犗/犃犛犜犕51649:2005
代替GB/T16841—1997
能量為300犽犲犞~25犕犲犞電子束輻射
加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則
犌狌犻犱犲犳狅狉犱狅狊犻犿犲狋狉狔犻狀犪狀犲犾犲犮狋狉狅狀犫犲犪犿犳犪犮犻犾犻狋狔犳狅狉狉犪犱犻犪狋犻狅狀
狆狉狅犮犲狊狊犻狀犵犪狋犲狀犲狉犵犻犲狊犫犲狋狑犲犲狀300犽犲犞犪狀犱25犕犲犞
(ISO/ASTM51649:2005,Standardpracticefor
dosimetryinanelectronbeamfacilityforradiation
processingatenergiesbetween300keVand25MeV,IDT)
20080919發(fā)布20090801實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局
發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
書
犌犅/犜16841—2008/犐犛犗/犃犛犜犕51649:2005
目次
前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅲ
1范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
2規(guī)范性引用文件!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
3術(shù)語與定義!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!2
4意義和用途!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!7
5輻射源特性!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!7
6輻照裝置的主要類型!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!8
7劑量測量系統(tǒng)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!8
8加工參數(shù)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!9
9安裝確認(rèn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!9
10運行確認(rèn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!11
11性能確認(rèn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!12
12日常生產(chǎn)加工!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!13
13測量不確定度!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!14
14證書!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!14
15關(guān)鍵詞!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!15
附錄A(資料性附錄)電子束深度劑量分布、材料加工產(chǎn)率和輻射加工期間的溫升!!!!!!16
附錄B(資料性附錄)束寬度及束寬度劑量不均勻度的測量!!!!!!!!!!!!!!!!25
附錄C(資料性附錄)通過深度劑量分布確定電子束能量!!!!!!!!!!!!!!!!!26
附錄D(資料性附錄)能量大于300keV的電子加速器的特性!!!!!!!!!!!!!!!33
參考文獻(xiàn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!35
Ⅰ
書
犌犅/犜16841—2008/犐犛犗/犃犛犜犕51649:2005
前言
本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO/ASTM51649:2005《能量為300keV~25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)
導(dǎo)則》(英文版)。
為便于使用,本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改:
a)按照漢語習(xí)慣對一些編寫格式進行了修改。
b)對于ISO/ASTM51649:2005引用的其他國際標(biāo)準(zhǔn)中有被等同采用為我國標(biāo)準(zhǔn)的,本部分用
引用我國的這些國家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)代替對應(yīng)的國際標(biāo)準(zhǔn),其余未有等效采用為我國標(biāo)準(zhǔn)的
國際標(biāo)準(zhǔn),在本標(biāo)準(zhǔn)中均被直接引用。
c)原國際標(biāo)準(zhǔn)中的附錄編號A1、A2、A3、A4改為附錄A、附錄B、附錄C、附錄D。
本標(biāo)準(zhǔn)代替GB/T16841—1997《能量為300keV~25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則》。本
標(biāo)準(zhǔn)與GB/T16841—1997相比主要變化如下:
———重新規(guī)定了標(biāo)準(zhǔn)的適用“范圍”(1997版的第1章;本版的第2章);
———增加了部分術(shù)語,并對原標(biāo)準(zhǔn)的部分術(shù)語進行了重新定義(本版第3章);
———增加了“劑量計系統(tǒng)的校準(zhǔn)”條和具體的要求(見本版的7.3.1,7.3.2,7.3.3,注4);
———用“安裝確認(rèn)”、“運行確認(rèn)”、“性能確認(rèn)”和“日常生產(chǎn)加工”替代了“裝置確認(rèn)”、“加工確認(rèn)”和
“日常生產(chǎn)加工”(見1997版的第7章、第8章、第9章;本版的第9章、第10章、第11章、第12
章);
———增加了“加工參數(shù)”章和相關(guān)內(nèi)容(見本版第8章);
———增加了不確定度的分類標(biāo)準(zhǔn)和評定準(zhǔn)則(見第13章);
———細(xì)化了用深度劑量分布方法確定電子束初始能量的方法和條件(見本版附錄A);
———重新描述了“微波功率加速器”和“射頻功率型加速器”的性能特征(見本版附錄D中D.1.2和
D.1.3)。
本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A、附錄B、附錄C和附錄D為資料性附錄。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國核能標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國核能標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國計量科學(xué)研究院。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:張彥立、張輝、龔曉明、劉智綿、夏渲。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次發(fā)布情況為:GB/T16841—1997。
Ⅲ
犌犅/犜16841—2008/犐犛犗/犃犛犜犕51649:2005
能量為300犽犲犞~25犕犲狏電子束輻射
加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則
1范圍
1.1本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子束輻射加工中為保證全部產(chǎn)品接受到產(chǎn)生預(yù)期輻射效應(yīng)所需的劑量,在安裝確
認(rèn)、運行確認(rèn)、性能確認(rèn)(IQ、OQ和PQ)和日常加工中所涉及的劑量測量程序,以及有關(guān)可能影響這些
過程和用以監(jiān)控產(chǎn)品中吸收劑量的其他程序。
注1:劑量計選擇和校準(zhǔn)的指南見GB/T16640;使用劑量測量系統(tǒng)的專用指南見GB/T16639、ISO/ASTM51275
ISO/ASTM51276、ISO/ASTM51431、ISO/ASTM51631、ISO/ASTM51650和ISO/ASTM51956;對能量大
于5MeV的電子束所用較大體積劑量計的劑量測量系統(tǒng)指南見ASTME1026、ISO/ASTM51205、ISO/
ASTM51401、ISO/ASTM51538、ISO/ASTM51540;有關(guān)脈沖輻射劑量學(xué)的論述見ICRU第34號報告。
1.2本標(biāo)準(zhǔn)適用的電子束的能量范圍:300keV~25MeV。
1.3劑量測量只是輻照加工全面質(zhì)量管理的一個組成部分,在醫(yī)療保健產(chǎn)品的輻射滅菌和食品保藏等
特別應(yīng)用中,除了劑量測量外,還需要進行其他方面的測量。
1.4ISO和ASTM已經(jīng)頒布了適用于食品輻照和醫(yī)療保健產(chǎn)品專用標(biāo)準(zhǔn)。食品輻照的專用標(biāo)準(zhǔn)見
ISO/ASTM51431,醫(yī)療保健產(chǎn)品的輻射滅菌的專用標(biāo)準(zhǔn)見GB18280。在使用中GB18280的規(guī)定優(yōu)
先于其他標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定。
1.5本標(biāo)準(zhǔn)不涉及與使用相關(guān)的安全問題。本標(biāo)準(zhǔn)的使用者負(fù)責(zé)建立適用的安全和健康標(biāo)準(zhǔn),并在使
用前確定其適用的限制范圍。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T1650
溫馨提示
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