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中國(guó)濺射靶材市場(chǎng)應(yīng)用結(jié)構(gòu)及企業(yè)格局分析

靶材:濺射薄膜制備的源頭材料,又稱濺射靶材,特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition,PVD)工藝,是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。

濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈基本呈金字塔型分布。產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)。其中,靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個(gè)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

濺射靶材的制備工藝主要分熔融鑄造法和粉末冶金法兩種。熔融鑄造法的優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低,密度高,可大型化,缺點(diǎn)是需要后續(xù)加工和熱處理工藝降低其孔隙率,難以做到成分均勻化。粉末冶金法優(yōu)點(diǎn)是靶材成分均勻,節(jié)約原材料,生產(chǎn)效率高;缺點(diǎn)是密度低,雜質(zhì)含量高。

為推動(dòng)濺射靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展,增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力和國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力,帶動(dòng)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造和產(chǎn)品升級(jí)換代,進(jìn)一步促進(jìn)國(guó)民經(jīng)濟(jì)持續(xù)、快速、健康發(fā)展,我國(guó)推出了一系列支持濺射靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展的政策。

目前,全球的靶材制造行業(yè),特別是高純度的靶材市場(chǎng),呈現(xiàn)寡頭壟斷格局,主要由幾家美日大企業(yè)把持,如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛發(fā)科,以及美國(guó)霍尼韋爾、普萊克斯等。

國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)龍頭包括有研新材、隆華科技、江豐電子以及阿石創(chuàng)。2018年底,進(jìn)口靶材免稅結(jié)束,國(guó)家實(shí)行對(duì)內(nèi)補(bǔ)貼,對(duì)外征稅的模式,拉開靶材行業(yè)國(guó)產(chǎn)替代的大幕。有研新材、隆華科技、江豐電子、阿石創(chuàng)等靶材龍頭企業(yè),在各自的細(xì)分領(lǐng)域進(jìn)行技術(shù)突破進(jìn)而形成自己的核心優(yōu)勢(shì),使國(guó)產(chǎn)替代成為可能

濺射靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中,在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn),需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此,半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是最高的,價(jià)格也最為昂貴。

一、顯示面板靶材

顯示屏玻璃基板尺寸不斷增大,預(yù)計(jì)帶來靶材需求增加。隨著各時(shí)代顯示屏玻璃基板以及一些設(shè)備顯示屏的尺寸逐漸增大,顯示面板用濺射靶材的需求預(yù)計(jì)會(huì)不斷增大。

二、半導(dǎo)體用濺射靶材

半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一,也是對(duì)靶材的成分、組織和性能要求最高的領(lǐng)域。具體來講,半導(dǎo)體芯片的制作過程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝等三大環(huán)節(jié),其中,在晶圓制造和芯片封裝這兩個(gè)環(huán)節(jié)中都需要用到金屬濺射靶材。

三、太陽能電池用濺射靶材

我國(guó)太陽能電池用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模從4.6億元增至23.3億元,每年增速維持在30%以上。未來伴隨光伏行業(yè)的增長(zhǎng)以及薄膜電池產(chǎn)量的提升,太陽能用濺射靶材也有望保持較高速度的增長(zhǎng)。

四、磁記錄靶材

2018年濺射靶材市場(chǎng)中,磁記錄市場(chǎng)規(guī)模約28.6%,僅次于顯示市場(chǎng),同比增速為11%;磁記錄靶材市場(chǎng)目前主要被東曹、賀利氏等海外靶材企業(yè)占據(jù)。國(guó)內(nèi)生產(chǎn)磁記錄靶材的企業(yè)數(shù)量和產(chǎn)能有限,國(guó)產(chǎn)替代化具有較為廣闊的存量空間。

隨著消費(fèi)電子等終端應(yīng)用市場(chǎng)的飛速發(fā)展,高純?yōu)R射靶材的市場(chǎng)規(guī)模日益擴(kuò)大,呈現(xiàn)高速增長(zhǎng)的勢(shì)頭。靶材所屬的新材料領(lǐng)域,目前已經(jīng)得到了國(guó)家的高度重視和大力支持。在鍍

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