標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 26332.1-2010 光學(xué)和光學(xué)儀器 光學(xué)薄膜 第1部分:定義》這一國家標(biāo)準(zhǔn)主要針對光學(xué)薄膜領(lǐng)域的術(shù)語進(jìn)行了標(biāo)準(zhǔn)化定義。它為該領(lǐng)域內(nèi)的專業(yè)人員提供了統(tǒng)一的交流基礎(chǔ),確保了在學(xué)術(shù)研究、產(chǎn)品開發(fā)以及國際貿(mào)易中對相關(guān)概念的理解一致。

標(biāo)準(zhǔn)中涵蓋了多個關(guān)鍵術(shù)語及其定義,包括但不限于“光學(xué)薄膜”、“多層膜”、“反射率”、“透射率”等。例如,“光學(xué)薄膜”被定義為為了改變或控制光波特性(如反射、透射、偏振等)而設(shè)計并沉積于基底表面的一層或多層材料;“多層膜”則指由兩種或以上不同折射率材料交替堆疊而成的復(fù)合結(jié)構(gòu),用于實現(xiàn)特定的光學(xué)性能要求。

此外,還詳細(xì)說明了一些與光學(xué)薄膜性能密切相關(guān)的參數(shù)定義,比如“中心波長”指的是薄膜設(shè)計時所針對的主要工作波段中的某一特定波長值;“帶寬”描述的是薄膜能夠有效工作的波長范圍寬度。


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  • 2011-01-14 頒布
  • 2011-06-01 實施
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GB/T 26332.1-2010光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分:定義_第1頁
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文檔簡介

ICS17.180N30中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T26332.1-2010/ISO9211-1:1994光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分:定義Opticsandopticalinstruments--Opticalcoatings-Part1:Definitions(ISO9211-1:1994.IDT)2011-01-14發(fā)布2011-06-01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布中國國家標(biāo)準(zhǔn)化餐理委員會

GB/T26332.1-2010/IS09211-1:1994次前言::····范圍……規(guī)范性引用文件3術(shù)語和定義·按功能定義薄膜75常見的薄膜缺陷定義6其他定義…………·附錄A(資料性附錄)常見薄膜缺陷類型圖解

GB/T26332.1-2010/ISO9211-1:1994GB/T26332《光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜》分為4個部分:第1部分:定義第2部分:光學(xué)特性第3部分:環(huán)境適應(yīng)性第4部分:規(guī)定的試驗方法本部分為GB/T26332的第1部分。本部分等同采用ISO9211-1:1994《光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分:定義》英文版)本部分采用國際標(biāo)準(zhǔn)的方法為翻譯法。本部分的附錄A為資料性附錄。本部分由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出并歸口本部分起草單位:沈陽儀表科學(xué)研究院、沈陽匯博光學(xué)技術(shù)有限公司、浙江大學(xué)、杭州科汀光學(xué)技術(shù)有限公司、國家儀器儀表元器件質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心、杭州照相機械研究所。本部分主要起草人:陰曉俊、費書國、高鵬、王瑞生、趙帥鋒、章岳光、顧培夫、馬敬、金秀、楊文華、徐秋玲、杜健、虞仲曉

GB/T26332.1-2010/ISO9211-1:1994光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分:定義1范圍(B/T26332的本部分?jǐn)⑹隽顺劭乒鈱W(xué)(眼鏡)之外的所有鍍膜的光學(xué)元器件及基片的鍍膜表面,并制定了相關(guān)參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)表述.定義了表面特性參數(shù)及其檢驗、檢測方法.而不說明其加工方法。本部分定義了與光學(xué)薄膜相關(guān)的術(shù)語。這些術(shù)語分為4類:基本定義、按功能定義薄膜、常見的薄膜缺陷定義和其他定義2規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過GB/T26332的本部分的引用而成為本部分的條款。凡是注日期的引用文件·其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本部分.然而·鼓勵根據(jù)本部分達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本部分。GB/T1185-2006光學(xué)零件表面疵病(ISO10110-7:1996.NEQ)GB3102.6—1993光及有關(guān)電磁輻射的量和單位GB/T8322—2008分子吸收光譜法術(shù)語(ISO6286:1982.NEQ)ISO9211-4:2006光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第4部分:規(guī)定的試驗方法ISO10110-8:1997光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)元件和系統(tǒng)制圖準(zhǔn)備第8部分:表面結(jié)構(gòu)IEC50(845):1987國際電工詞匯845章:照明CIEPublication38:1977材料的輻射測量和光度特性及相應(yīng)測量方法術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本部分3.1鍍膜表面surfacetreatment3.1.1元件和基片的鍍膜表面surfacetreatmentofcomponentsandsubstrates在光學(xué)元件表面“鍍膜”.能夠改變光學(xué)元件的光學(xué)、物理或化學(xué)特性。作為所鍍薄膜載體的光學(xué)元件稱為“基片”。理想的基片是幾何完美和光學(xué)均質(zhì)的,應(yīng)將基片及其表面作為一個整體進(jìn)行檢驗測量光在鍍膜表面的透射與反射方向是由光學(xué)薄膜、人射介質(zhì)及出射介質(zhì)共同決定的。3.1.2入射介質(zhì)incidentmedium光射入薄膜前經(jīng)過的介質(zhì)

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