GB/T 26332.1-2018光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜第1部分：定義

ICS17180

N30.

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T263321—2018/ISO9211-12010

.代替:

GB/T26332.1—2010

光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜

第1部分定義

:

Opticsandphotonics—Opticalcoatings—

Part1Definitions

:

(ISO9211-1:2010,IDT)

2018-03-15發(fā)布2018-10-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T263321—2018/ISO9211-12010

.:

目次

前言

…………………………Ⅲ

范圍

1………………………1

基本定義

2…………………1

按功能定義薄膜

3…………………………4

常見(jiàn)的薄膜缺陷定義

4……………………4

其他術(shù)語(yǔ)和定義

5…………………………6

附錄資料性附錄常見(jiàn)的薄膜缺陷的顯微照片

A()……………………7

參考文獻(xiàn)

……………………16

Ⅰ

GB/T263321—2018/ISO9211-12010

.:

前言

光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜分為以下個(gè)部分

GB/T26332《》4:

第部分定義

———1:;

第部分光學(xué)特性

———2:;

第部分環(huán)境適應(yīng)性

———3:;

第部分規(guī)定的試驗(yàn)方法

———4:。

本部分為的第部分

GB/T263321。

本部分按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本部分代替光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第部分定義

GB/T26332.1—2010《1:》。

本部分與相比主要技術(shù)變化如下

GB/T26332.1—2010,:

更改了標(biāo)準(zhǔn)的名稱(chēng)

———;

刪除了微劃痕大濺點(diǎn)大微粒和孔徑錐角個(gè)術(shù)語(yǔ)

———“”“”“”“”4;

刪除了術(shù)語(yǔ)通光孔徑的別名有用區(qū)域

———“”“”;

附錄中的手繪圖片均改為顯微照片

———A;

對(duì)部分文字表述進(jìn)行了調(diào)整

———;

將術(shù)語(yǔ)細(xì)劃痕改為發(fā)狀劃痕

———“”“”;

將術(shù)語(yǔ)薄膜空隙改為薄膜空缺

———“”“”;

將術(shù)語(yǔ)相變改為相移

———“”“”;

將術(shù)語(yǔ)濺點(diǎn)改為噴濺點(diǎn)

———“”“”;

將術(shù)語(yǔ)裂紋改為斷裂

———“”“”;

將術(shù)語(yǔ)龜裂改為裂紋

———“”“”;

將術(shù)語(yǔ)污點(diǎn)改為色斑

———“”“”;

將術(shù)語(yǔ)剝離改為剝落

———“”“”。

本部分使用翻譯法等同采用光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜第部分定義

ISO9211-1:2010《1:》。

本部分由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出并歸口

。

本部分起草單位沈陽(yáng)儀表科學(xué)研究院有限公司浙江大學(xué)大連化學(xué)物理研究所同濟(jì)大學(xué)沈陽(yáng)

:、、、、

匯博光學(xué)公司杭州科汀光學(xué)技術(shù)有限公司

、。

本部分主要起草人高鵬陰曉俊費(fèi)書(shū)國(guó)孫龍章岳光王占山顧培夫程鑫彬鄧淞文王峰

:、、、、、、、、、、

趙帥鋒王瑞生王銀河徐秋玲殷波

、、、、。

本部分所替代標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為

:

———GB/T26332.1—2010。

Ⅲ

GB/T263321—2018/ISO9211-12010

.:

光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜

第1部分定義

:

1范圍

規(guī)定了在光學(xué)元器件及基片表面鍍制的光學(xué)薄膜的應(yīng)用功能分類(lèi)技術(shù)指標(biāo)的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T26332、

表述形式常規(guī)特性及試驗(yàn)測(cè)量方法但不擬用于規(guī)定鍍制方法

、,。

不適用于眼科光學(xué)眼鏡的光學(xué)薄膜

GB/T26332()。

的本部分界定了光學(xué)薄膜的相關(guān)術(shù)語(yǔ)包括基本定義按功能定義薄膜常見(jiàn)的薄膜

GB/T26332,、、

缺陷定義其他術(shù)語(yǔ)和定義

、。

2基本定義

21鍍膜表面

.

211

..

元件和基片的表面鍍膜surfacetreatmentofcomponentsandsubstrates

使用一種或多種材料在元件表面鍍膜用以改變?cè)砻娴墓鈱W(xué)物理或化學(xué)性質(zhì)

,,、。

注基片被視為是幾何完美和光學(xué)均質(zhì)的在實(shí)際操作中將基片及其表面作為一個(gè)整體進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)量

:。,。

212

..

入射介質(zhì)incidentmedium

光射入薄膜前經(jīng)過(guò)的介質(zhì)

。

213

..

出射介質(zhì)emergentmedium

光射出薄膜后進(jìn)入的介質(zhì)

。

注基片除了作為薄膜的機(jī)械支撐基底也是薄膜的入射和或出射介質(zhì)

:,()。

22鍍膜表面的光學(xué)特性

.

221概述

..

鍍膜表面的光學(xué)特性可以用分光光度值來(lái)描述這些特性與電磁波傳播的能量輻射或發(fā)光相關(guān)

,(),

并為波長(zhǎng)入射角偏振態(tài)的函數(shù)另外散射也是影響鍍膜表面光學(xué)特性的因素

、、。,。

注1在表述與光譜相關(guān)的函數(shù)時(shí)通常將波長(zhǎng)λ寫(xiě)入圓括號(hào)內(nèi)作為符號(hào)的一部分來(lái)表示

:,。

注2波長(zhǎng)λ可用波數(shù)σ或光子能量hν來(lái)代替h普朗克常數(shù)ν頻率建議波長(zhǎng)的單位為納米或微

: