GB/T 26332.1-2018光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜第1部分：定義

ICS17180

N30.

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T263321—2018/ISO9211-12010

.代替:

GB/T26332.1—2010

光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜

第1部分定義

:

Opticsandphotonics—Opticalcoatings—

Part1Definitions

:

(ISO9211-1:2010,IDT)

2018-03-15發(fā)布2018-10-01實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T263321—2018/ISO9211-12010

.:

目次

前言

…………………………Ⅲ

范圍

1………………………1

基本定義

2…………………1

按功能定義薄膜

3…………………………4

常見的薄膜缺陷定義

4……………………4

其他術(shù)語和定義

5…………………………6

附錄資料性附錄常見的薄膜缺陷的顯微照片

A()……………………7

參考文獻(xiàn)

……………………16

Ⅰ

GB/T263321—2018/ISO9211-12010

.:

前言

光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜分為以下個部分

GB/T26332《》4:

第部分定義

———1:;

第部分光學(xué)特性

———2:;

第部分環(huán)境適應(yīng)性

———3:;

第部分規(guī)定的試驗方法

———4:。

本部分為的第部分

GB/T263321。

本部分按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本部分代替光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第部分定義

GB/T26332.1—2010《1:》。

本部分與相比主要技術(shù)變化如下

GB/T26332.1—2010,:

更改了標(biāo)準(zhǔn)的名稱

———;

刪除了微劃痕大濺點大微粒和孔徑錐角個術(shù)語

———“”“”“”“”4;

刪除了術(shù)語通光孔徑的別名有用區(qū)域

———“”“”;

附錄中的手繪圖片均改為顯微照片

———A;

對部分文字表述進(jìn)行了調(diào)整

———;

將術(shù)語細(xì)劃痕改為發(fā)狀劃痕

———“”“”;

將術(shù)語薄膜空隙改為薄膜空缺

———“”“”;

將術(shù)語相變改為相移

———“”“”;

將術(shù)語濺點改為噴濺點

———“”“”;

將術(shù)語裂紋改為斷裂

———“”“”;

將術(shù)語龜裂改為裂紋

———“”“”;

將術(shù)語污點改為色斑

———“”“”;

將術(shù)語剝離改為剝落

———“”“”。

本部分使用翻譯法等同采用光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜第部分定義

ISO9211-1:2010《1:》。

本部分由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會提出并歸口

。

本部分起草單位沈陽儀表科學(xué)研究院有限公司浙江大學(xué)大連化學(xué)物理研究所同濟(jì)大學(xué)沈陽

:、、、、

匯博光學(xué)公司杭州科汀光學(xué)技術(shù)有限公司

、。

本部分主要起草人高鵬陰曉俊費(fèi)書國孫龍章岳光王占山顧培夫程鑫彬鄧淞文王峰

:、、、、、、、、、、

趙帥鋒王瑞生王銀河徐秋玲殷波

、、、、。

本部分所替代標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為

:

———GB/T26332.1—2010。

Ⅲ

GB/T263321—2018/ISO9211-12010

.:

光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜

第1部分定義

:

1范圍

規(guī)定了在光學(xué)元器件及基片表面鍍制的光學(xué)薄膜的應(yīng)用功能分類技術(shù)指標(biāo)的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T26332、

表述形式常規(guī)特性及試驗測量方法但不擬用于規(guī)定鍍制方法

、,。

不適用于眼科光學(xué)眼鏡的光學(xué)薄膜

GB/T26332()。

的本部分界定了光學(xué)薄膜的相關(guān)術(shù)語包括基本定義按功能定義薄膜常見的薄膜

GB/T26332,、、

缺陷定義其他術(shù)語和定義

、。

2基本定義

21鍍膜表面

.

211

..

元件和基片的表面鍍膜surfacetreatmentofcomponentsandsubstrates

使用一種或多種材料在元件表面鍍膜用以改變元件原表面的光學(xué)物理或化學(xué)性質(zhì)

,,、。

注基片被視為是幾何完美和光學(xué)均質(zhì)的在實際操作中將基片及其表面作為一個整體進(jìn)行檢驗測量

:。,。

212

..

入射介質(zhì)incidentmedium

光射入薄膜前經(jīng)過的介質(zhì)

。

213

..

出射介質(zhì)emergentmedium

光射出薄膜后進(jìn)入的介質(zhì)

。

注基片除了作為薄膜的機(jī)械支撐基底也是薄膜的入射和或出射介質(zhì)

:,()。

22鍍膜表面的光學(xué)特性

.

221概述

..

鍍膜表面的光學(xué)特性可以用分光光度值來描述這些特性與電磁波傳播的能量輻射或發(fā)光相關(guān)

,(),

并為波長入射角偏振態(tài)的函數(shù)另外散射也是影響鍍膜表面光學(xué)特性的因素

、、。,。

注1在表述與光譜相關(guān)的函數(shù)時通常將波長λ寫入圓括號內(nèi)作為符號的一部分來表示

:,。

注2波長λ可用波數(shù)σ或光子能量hν來代替h普朗克常數(shù)ν頻率建議波長的單位為納米或微

: