標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 36969-2018 納米技術(shù) 原子力顯微術(shù)測定納米薄膜厚度的方法》是一項國家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范使用原子力顯微鏡(AFM)測量納米級薄膜厚度的過程。該標(biāo)準(zhǔn)適用于各類納米薄膜材料,包括但不限于金屬、半導(dǎo)體、聚合物及復(fù)合材料等。

標(biāo)準(zhǔn)首先定義了相關(guān)術(shù)語和定義,如納米薄膜、原子力顯微鏡及其工作模式等,為后續(xù)內(nèi)容的理解奠定基礎(chǔ)。接著,詳細(xì)描述了實驗準(zhǔn)備階段所需注意的事項,比如樣品制備要求、環(huán)境條件控制等,確保測試結(jié)果的有效性和可重復(fù)性。

在測量方法部分,《GB/T 36969-2018》介紹了利用接觸模式或輕敲模式下的原子力顯微鏡進(jìn)行表面形貌掃描的具體步驟,并強(qiáng)調(diào)了選擇合適探針的重要性以及如何正確設(shè)置儀器參數(shù)以獲得準(zhǔn)確數(shù)據(jù)。此外,還討論了不同類型的納米薄膜可能遇到的問題及其解決策略。

對于數(shù)據(jù)分析與處理環(huán)節(jié),本標(biāo)準(zhǔn)提出了基于高度信息直接讀取法、截面分析法等多種計算納米薄膜厚度的方式,并給出了具體的操作指導(dǎo)。同時,也對如何評估測量誤差、提高精度提出了建議。


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....

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  • 2018-12-28 頒布
  • 2018-12-28 實施
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GB/T 36969-2018納米技術(shù)原子力顯微術(shù)測定納米薄膜厚度的方法_第1頁
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GB/T 36969-2018納米技術(shù)原子力顯微術(shù)測定納米薄膜厚度的方法_第3頁
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文檔簡介

ICS1704020

J04..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T36969—2018

納米技術(shù)原子力顯微術(shù)測定

納米薄膜厚度的方法

Nanotechnology—Methodforthemeasurementofthenanofilm-thicknessby

atomicforcemicroscopy

2018-12-28發(fā)布2018-12-28實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T36969—2018

目次

前言

…………………………Ⅰ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語和定義

3………………1

原理

4………………………1

測試條件

5…………………2

環(huán)境條件

5.1……………2

操作條件

5.2……………2

設(shè)備

6………………………2

原子力顯微鏡

6.1………………………2

探針的選擇

6.2…………………………2

儀器的校準(zhǔn)

6.3…………………………2

樣品

7………………………2

樣品的制備

7.1…………………………2

樣品的清洗

7.2…………………………2

測試步驟

8…………………2

采集圖像數(shù)據(jù)前的準(zhǔn)備

8.1……………2

圖像數(shù)據(jù)的采集

8.2……………………2

數(shù)據(jù)處理與計算

9…………………………3

重復(fù)性和再現(xiàn)性

10…………………………4

測試報告

11…………………4

附錄資料性附錄薄膜臺階的制備

A()…………………5

參考文獻(xiàn)

………………………6

GB/T36969—2018

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國科學(xué)院提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC279)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位上海交通大學(xué)納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人李慧琴金承鈺梁齊何丹農(nóng)韋菲菲

:、、、、。

GB/T36969—2018

納米技術(shù)原子力顯微術(shù)測定

納米薄膜厚度的方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用原子力顯微術(shù)測量納米薄膜厚度的原理測試條件設(shè)備樣品測試步

(AFM)、、、、

驟和數(shù)據(jù)處理

。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于表面均勻平整的納米范圍厚度的無機(jī)材料薄膜較厚的和一些有機(jī)薄膜的膜厚測

、。

定也可參照執(zhí)行

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

原子力顯微鏡測量濺射薄膜表面粗糙度的方法

GB/T31227

測量不確定度評定與表示

JJF1059.1—2012

3術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件

。

31

.

原子力顯微術(shù)atomicforcemicroscopy

通過檢測探針和樣品表面的相互作用力吸引力或排斥力來控制探針和樣品間的距離從而獲得表

()

面形貌的掃描探針顯微鏡技術(shù)

定義

[GB/T27760—2011,3.1]

32

.

掃描長度scanlength

從開始到結(jié)束一次掃描的距離

。

33

.

全幅掃描raster

探針方向上逐步移動時在x方向上反復(fù)掃描也指這樣的運(yùn)動所掃描的區(qū)域

y,。

定義

[GB/T31226—2014,3.1.14]

4原理

首先利用原子力顯微鏡測試得到包含納米薄膜臺階在內(nèi)的微觀形貌原子力顯微鏡是使

(AFM)

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