剛撓印制電路板濕法去鉆污及凹蝕技術(shù)三個(gè)步驟_第1頁(yè)
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剛撓印制電路板濕法去鉆污及凹蝕技術(shù)三個(gè)步驟去鉆污及凹蝕是剛-撓印制電路板數(shù)控鉆孔后,化學(xué)鍍銅或者直接電鍍銅前的一個(gè)重要工序,要想剛撓印制電路板實(shí)現(xiàn)可靠電氣互連,就必須結(jié)合剛撓印制電路板其特殊的材料構(gòu)成,針對(duì)其主體材料聚酰亞胺和丙烯酸不耐強(qiáng)堿性的特性,選用合適的去鉆污及凹蝕技術(shù)。剛撓印制電路板去鉆污及凹蝕技術(shù)分濕法技術(shù)和干法技術(shù)兩種,下面就這兩種技術(shù)與各位同行進(jìn)行共同探討。剛撓印制電路板濕法去鉆污及凹蝕技術(shù)由以下三個(gè)步驟組成:1、膨松(也叫溶脹處理)。利用醇醚類膨松藥水軟化孔壁基材,破壞高分子結(jié)構(gòu),進(jìn)而增加可被氧化之表面積,以使其氧化作用容易進(jìn)行,一般使用丁基卡必醇使孔壁基材溶脹。2、氧化。目的是清潔孔壁并調(diào)整孔壁電荷, 目前,國(guó)內(nèi)傳統(tǒng)用三種方式。 (1)濃硫酸法:由于濃硫酸具有強(qiáng)的氧化性和吸水性, 能將絕大部分樹(shù)脂碳化并形成溶于水的烷基磺化物而去除,反應(yīng)式如下: CmH2nOn+H2SO4--mC+nH2O除孔壁樹(shù)脂鉆污的效果與濃硫酸的濃度、處理時(shí)間和溶液的溫度有關(guān)。用于除鉆污的濃硫酸的濃度不得低于 86%,室溫下20-40秒,如果要凹蝕,應(yīng)適當(dāng)提高溶液溫度和延長(zhǎng)處理時(shí)間。濃硫酸只對(duì)樹(shù)脂起作用,對(duì)玻璃纖維無(wú)效,采用濃硫酸凹蝕孔壁后,孔壁會(huì)有玻璃纖維頭突出,需用氟化物(如氟化氫銨或者氫氟酸)處理。采用氟化物處理突出的玻璃纖維頭時(shí),也應(yīng)該控制工藝條件,防止因玻璃纖維過(guò)腐蝕造成芯吸作用, 一般工藝過(guò)程如下:H2SO4:10%NH4HF2:5-10g/l溫度:30℃時(shí)間:3-5分鐘按照此方法對(duì)打孔以后的剛 -撓印制電路板去鉆污及凹蝕,然后對(duì)孔進(jìn)行金屬化,通過(guò)金相分析,發(fā)現(xiàn)內(nèi)層鉆污根本沒(méi)去徹底,導(dǎo)致銅層與孔壁附著力低下,為此在金相分析做熱應(yīng)力實(shí)驗(yàn)時(shí)( 288℃,10±1秒),孔壁銅層脫落而導(dǎo)致內(nèi)層斷路。況且,氟化氫銨或者氫氟酸有巨毒, 廢水處理很困難。更主要的是聚酰亞胺在濃硫酸中呈惰性,所以此方法不適應(yīng)剛 -撓印制電路板的去鉆污及凹蝕。2)鉻酸法:由于鉻酸具有強(qiáng)烈的氧化性,其浸蝕能力強(qiáng),所以它能使孔壁

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