KLA-Tencor近日推出Archer 100光學疊對測量系統(tǒng)-新品速遞

精品文檔-下載后可編輯KLA-Tencor近日推出Archer100光學疊對測量系統(tǒng)-新品速遞KLA-Tencor,Inc.近日正式推出Archer100光學疊對測量系統(tǒng)，這個45奈米的生產(chǎn)工具在設計上可明顯增加浸潤式顯影與未來雙圖樣顯影技術的準確性與生產(chǎn)能力。在市場居地位的Archer平臺已經(jīng)過全面性的重新設計，可解決先進顯影的獨特挑戰(zhàn)，準確度和TMU(總測量不確定度)的改善幅度超過30%以上，系統(tǒng)使用率提升多達20%，同時在MAM時間以及實際上所有其它關鍵規(guī)格上也有重大斬獲。KLA-TencorParametricSolutionsGroup集團副總裁JosephLaia提到：“Archer100系統(tǒng)特別將目標鎖定在解決顧客重要的疊對挑戰(zhàn)上，提供具有能力的技術平臺，可支持45奈米和以下的浸潤式技術及新一代的雙重圖樣顯影?！比找嬖黾拥膱D樣密度加上193奈米的浸潤顯影方法的結合，使得45奈米節(jié)點和以下的工藝在圖樣基礎的良率面臨到全新的挑戰(zhàn)。在浸潤顯影中，獨特的效果需要全新的分析能力以及數(shù)量更多的取樣，以確保準確的校準以及偵測疊對錯誤的。Archer100系統(tǒng)全新的μAIM(MicroAIM)目標選項以嚴密地仿真疊對感光芯片結構的方式，為疊對工具提供更多信息，但利用的仍然只有芯片上相同的小型區(qū)域而已。這個健全而耐用的目標技術即使在面臨各種變化的曝光情況以及制程條件之下，仍能提供的穩(wěn)定性，因而能夠大幅增加可靠度。透過全新的照明系統(tǒng)，Archer100可有效地解決低對比測量(例如非晶碳硬罩薄膜)的問題，改善測量的準確度以及45奈米和以下疊對預算的耐用性，獲得大量的記憶生產(chǎn)。使用典型生產(chǎn)取樣的系統(tǒng)產(chǎn)量每小時超過80晶圓，擁有高速的MAM時間，可促進生產(chǎn)能力。與先前的Archer系統(tǒng)相比，整體的生產(chǎn)能力已增加了20%以上。Archer100疊對測量系統(tǒng)技術摘要：重新設計的光這可提供更佳的步進重復(site-by-site)比對；低相差的特性則可符合緊縮的45奈米疊對預算；更嚴謹?shù)碾A段容差可提供更高的重復性；新的成像系統(tǒng)具有低對比薄膜及低像素失真等特性，能夠改善訊噪比；先進的照明模式可降低工具位移變化的情況；Archer100平臺是專為可應用于雙重圖樣顯影上的延遲升級所設計。結合以上功能之后，TMU規(guī)格的改善幅度超過現(xiàn)在工具多達30%以上，達到1.4nmTMU(總測量不確定度)。Archer100系統(tǒng)的增強功能還可提供較短的MAM時間、加強的演算以及內建的診斷功能，提供浸潤式顯影與雙重圖樣顯影時所需的高階制程穩(wěn)定性與生產(chǎn)力。光學設計的圖樣薄膜化：Archer100全新的照明系統(tǒng)功能已經(jīng)過改良，能夠管理較低的對比測量，例如非晶碳硬罩。這個低對比層的測量功能可提供更高的準確度與穩(wěn)定性，因此在掃描儀比對與顯影工藝控制上也有更佳的效果。先進的ArcherAnalyzer疊對分析軟件選項利用了先進的算法與資料篩選功能，以便分析系統(tǒng)的工具結果，并實時決定提供晶圓片批是否符合先前決定的參數(shù)(例如疊對錯誤預測(MEP))，并且提供重要的顯影單元校正。這個掃描儀校正資料讓顯影器能夠快速地滿足顯影工具效能的差異，將周期時間及良率減少的情況減至。Archer100系統(tǒng)的增強型RecipeDatabaseManagerPlus(RDM+)讓操作人員可離線存取集中式數(shù)據(jù)庫，以利用先前獲得證明的配方組件，包括配方比較與配方驗證功能。它還能夠降低設定時間，并且在大量制造的情況下仍然可以增加可靠度與配方成功率。Archer100系統(tǒng)的新功能之一為“自動配方優(yōu)化(AutomaticRecipeOptimization,ARO)”演算法，即使是經(jīng)驗不多的操作人員，仍然可以輕易地在離線狀態(tài)下建立化的配方，釋放晶圓廠中極具價值的工程資源。ARO除了可免除人力的介入以外