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文檔簡介
1.試述等壓時(shí)物質(zhì)自由能G隨溫度上升而下降以及液相自由能GL隨溫度上升而下降的斜率大于固相GS的答:(1G 爾關(guān)系式
dF(x,yF
Fdxydy y
得
G
G
G
G T
PdG
GdP=0
G SL>SS
T
G T P
P即液相自由能GL隨溫度上升而下降GS的斜率。24-1及式(4-6)ΔT是影響凝固ΔG的決定因素。答:過冷度ΔT 是影響凝固相變驅(qū)動力ΔG的決定因素的理由如下:GVTm表示液-固平衡凝固點(diǎn)T>Tm時(shí),ΔG=Gs-GL﹥0,此 T=Tm時(shí),ΔG=Gs-GL=0,此 T<Tm時(shí),ΔG=Gs-GL<0,此時(shí) 所以ΔG即為相變驅(qū)動力。
G
H
TVTm(其中:ΔHm—熔化潛熱,ΔT(TmT—過冷度素。(1)r<r*Gr(晶體半徑)增大而升高(r=r*時(shí),產(chǎn)生的晶核處于介穩(wěn)狀態(tài),微小晶體既可消散也可生長;r>r*Gr增大而降低(ΔG雖在一定范圍仍為正值,r增大而減小ΔG*的意義如下:由形核功的:
V G
Sm SL
HmT
(均質(zhì)形核
=163T 23coscos3 LS S
(非均質(zhì)形核 THm ΔG*∝ΔT-2,ΔTΔG*越大,ΔT→0時(shí),ΔG*→∞(形核能壘趨于無窮大1819
2
2SLVsHm
r*=2SLVS2
V HVm
V G
3 Sm
SL
mT163T 223coscos3* LS
THm 積小得多時(shí)便可達(dá)到臨界晶核半徑。ΔG1(23coscos3)G
23coscos30~1之間變化(4-1所示4 ΔGf()顯然接觸角
hoho
首先,非均質(zhì)形核必須滿足在液相中分布有一些雜質(zhì)顆粒或鑄型表面來提供形核基底。其次,接觸角 180180G*=ΔG* acaN (aN—結(jié)晶相點(diǎn)陣間隔,aC—雜質(zhì)點(diǎn)陣間隔δσSC4-11G*G*稍許增大使501001022倍。由此也可以推論,非均質(zhì)形核的形核率可SS力學(xué)性質(zhì),即結(jié)晶物質(zhì)的熔融熵
(Hm(
~f為單個(gè)原子的熔融熵-(或略Sm的Sm更高的物質(zhì)(C、Si等非金屬,及一些金屬間化合物)為光滑界面。H~H mkTmJackson-值時(shí)相對自由能與界面原子占據(jù)2<5時(shí),ΔFSx中心位置的兩旁(x=0或x=1處有一定距離)晶體生長的固-液界面結(jié)構(gòu),也具有重要影響。對于密排晶面,η/ν值是高的,對于非密排晶面,η/ν值是低值越小。這說明非密排晶面作為晶體表面(固-液界面)時(shí),微觀界面結(jié)構(gòu)容易成為粗糙界面。舉例來看,若將=2
=0.5同時(shí)代入判別式,單個(gè)原子的熔融熵為:
Hmk/~ ~2k
4k,對于一摩爾,熔融熵
粗糙度減小,容易形成光滑界面。濃度小的物質(zhì)結(jié)晶時(shí),界面生長易按臺階的側(cè)面擴(kuò)展方式進(jìn)行(固-液界面原子層厚度小,從而即使<2液界面也可能有光滑界面結(jié)構(gòu)特征。易程度的差別,奧氏體生長過程仍具有輕微的各向異性趨勢,其低指數(shù)面的<100>,生長過程具有(1)只有依靠在界面上出現(xiàn)臺階,然后從液相擴(kuò)散來的原子沉積在臺階邊緣,依靠臺階向側(cè)面生長“側(cè)面生長R1與實(shí)際過冷度ΔT1RDHmT (D為原子的擴(kuò)散系數(shù),R為氣體常數(shù),μ1為常數(shù)1R
b二維晶核臺階生長的速度
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