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文檔簡介
人用藥品國際注冊的藥學(xué)研究技術(shù)要求規(guī)范的指導(dǎo)原則
(Q6A)1、介紹1·1規(guī)范——質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)開發(fā)期間產(chǎn)品的全部性質(zhì)遵循GMP確認(rèn)的生產(chǎn)工藝原料藥的檢驗(yàn)、生產(chǎn)過程中的檢驗(yàn)穩(wěn)定性試驗(yàn)規(guī)范以上為控制原料、制劑質(zhì)量的一致性規(guī)范:確定藥物的質(zhì)量、確保安全、有效的性質(zhì)1·2目標(biāo)建立全球性的新藥規(guī)范1·3范圍用于確保新原料藥及制劑在投放市場(出廠)和貨架壽命期質(zhì)量的測試方法及認(rèn)可標(biāo)準(zhǔn)只涉及批準(zhǔn)上市的新原料藥及制劑(包括復(fù)方制劑)提供了新原料藥及制劑的常規(guī)的認(rèn)可標(biāo)準(zhǔn)和專門的認(rèn)可標(biāo)準(zhǔn)劑型2、一般概念2·1定期試驗(yàn)2·2出廠和貨架壽命的認(rèn)可標(biāo)準(zhǔn)(制劑)2·3生產(chǎn)過程中的檢驗(yàn)2·4設(shè)計(jì)和開發(fā)中可供考慮的問題微生物試驗(yàn)容器中滲出物的測定顆粒度試驗(yàn)崩解試驗(yàn)代替溶出度試驗(yàn)2·5供制定規(guī)范的數(shù)據(jù)2·6參數(shù)的提出以參數(shù)代替常規(guī)檢驗(yàn)例:用最終滅菌工藝的溫度和壓力參數(shù)來替代無菌檢驗(yàn)2·7方法的選擇例:光譜法代替色譜法(在不降解的前提下)2·8藥典方法和可接受標(biāo)準(zhǔn)(限度)無菌灼熾殘?jiān)蛩峄曳郑┘?xì)菌內(nèi)毒素顏色/澄清度粒子溶出度(儀器)崩解度(儀器)上述為USP.JP.EP.已協(xié)調(diào)項(xiàng)目微生物污染防腐作用(試驗(yàn)范圍和可接受準(zhǔn)則)浸出物的量含量均勻度質(zhì)量均勻度溶出度(介質(zhì)和可接受限度)崩解度(介質(zhì)和可接受限度)上述為第四階段協(xié)調(diào)項(xiàng)目2·9技術(shù)發(fā)展2·10原料對其制劑的影響2·11參考標(biāo)準(zhǔn)品原料或已知雜質(zhì)用于:*含量測定雜質(zhì)應(yīng)嚴(yán)格控制、鑒定,純度應(yīng)定量測定*鑒別*純度試驗(yàn)3、指導(dǎo)原則3·1規(guī)范的定義和合理性的評價(jià)定義:一系列試驗(yàn),有關(guān)分析方法和限量、范圍的可接受標(biāo)準(zhǔn)或其他試驗(yàn)的可接受標(biāo)準(zhǔn)*“符合規(guī)范”:按所述方法試驗(yàn),結(jié)果符合規(guī)定政府管理機(jī)構(gòu)達(dá)成共識申報(bào)者的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)出廠試驗(yàn)生產(chǎn)過程中試驗(yàn)規(guī)范定期試驗(yàn)其他不必每批檢的試驗(yàn)合理性評價(jià)方法和限度的合理性研究開發(fā)藥典標(biāo)準(zhǔn)毒理和臨床數(shù)據(jù)加速和長期穩(wěn)定性研究分析方法的合理誤差范圍生產(chǎn)中可變因素3·2常規(guī)試驗(yàn)/標(biāo)準(zhǔn)新原料藥性狀狀態(tài)、顏色鑒別應(yīng)具專屬性IRHPLC/UVHPLC/MSGC/MS含量測定專屬性強(qiáng),指示穩(wěn)定*用同法測含量和雜質(zhì)(HPLC)*用非專屬性方法,應(yīng)以另一分析方法來補(bǔ)充完善
雜質(zhì)(圖1)*有機(jī)雜質(zhì)*無機(jī)雜質(zhì)*殘留溶劑新制劑外觀描述大小、形狀、顏色鑒別應(yīng)具專屬性IRHPLC/UV含量測定專屬性強(qiáng),指示穩(wěn)定*用同法測含量和雜質(zhì)(HPLC)*含量均勻度的結(jié)果用于含量測定*用非專屬性方法,應(yīng)以另一分析方法來補(bǔ)充完善雜質(zhì)(圖2)*有機(jī)雜質(zhì)*無機(jī)雜質(zhì)*殘留溶劑*降解產(chǎn)物(原料中的和總的)3·3專屬性試驗(yàn)/標(biāo)準(zhǔn)新原料藥理化性質(zhì)*水溶液的pH*熔點(diǎn)/熔距*折光率粒子大?。▓D3)
固體形態(tài)(圖4:1-3#)光學(xué)活性(圖5)水分無機(jī)雜質(zhì)微生物限度(圖6)新制劑(片、膠曩、顆粒劑)溶出度/崩解度(圖71-4#)硬度/脆碎度劑量單位均勻度*含量均勻度*質(zhì)量均勻度水分微生物限度*需氧菌總數(shù)*霉菌和酵母菌總數(shù)*不得檢出的特定致病菌(如:金葡、大腸、沙門、假單胞梭菌)(圖8)3·4口服液體(含顆粒劑、干混懸劑)a、劑量單位均勻度(含量、質(zhì)量)重量差異、裝量和裝量均勻度b、pHc、微生物限度d、抗微生物防腐劑含量(液體制劑)e、抗氧劑f、滲出物g、乙醇含量h、溶出度(口服混懸劑和干混懸劑)I、粒子大小分布J、再分散性(口服混懸劑)k、流動(dòng)性(較粘稠的溶液或懸浮液)l、比重(口服懸浮劑、較粘稠或非水溶液劑)m、溶化時(shí)間(干粉末劑)n、水分(需要溶化后口服的)3·5非腸道制劑a、制劑單位均勻度(含量、質(zhì)量)重量差異、裝量和裝量均勻度*需溶化的粉末應(yīng)考慮質(zhì)量均勻度b、pHc、無菌d、內(nèi)毒素e、熱源f、微粒*可見微粒(外源性物質(zhì))*溶液澄清度*幾乎可見微粒g、水分(非水的和需溶化的)h、抗微生物防腐劑含量I、抗氧劑含量J、滲出物k、給藥系統(tǒng)功能性試驗(yàn)注射能力的控制、壓力、密封性等l、滲透摩爾濃度制劑的張力m、粒子大小分布(注射用混懸液)*粒子體積分布情況*溶出度n、再分散性(注射用混懸劑)o、溶化時(shí)間(需要溶化的)術(shù)語(1)認(rèn)可的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定(Acceptancecriteria):數(shù)值限度、范圍或?qū)Ψ治龇椒ǖ姆治鼋Y(jié)果所建立的可接受的(認(rèn)可的)其他合適的衡量值。手性(Chiral):不與它的鏡象重疊的一些物體,如分子、構(gòu)型、宏觀物體(如結(jié)晶)等。本術(shù)語已應(yīng)用到那些分子是手性的樣品,即使它們的宏觀集合是外消旋的。復(fù)方制劑(Combination):含有多于一種原料藥成分的制劑。降解產(chǎn)物(Degradation):藥物分子長時(shí)間放置和/或受光、溫度、pH、水的作用或與輔料反應(yīng)、與直接容器/密閉系統(tǒng)反應(yīng),發(fā)生化學(xué)變化而產(chǎn)生新分子稱分解產(chǎn)物。術(shù)語(2)對映體(Enantiomers):作為原料藥,有相同分子式,在分子內(nèi)部,有不同的原子空間排列,不與其鏡象重疊的化合物。雜質(zhì)(Impurity):⑴新原料藥中,不被定義為新化學(xué)實(shí)體的任何成份。⑵制劑中,不被定義為是原料或輔料化學(xué)實(shí)體的任何成份。已鑒定雜質(zhì)(Identifiedimpurity):已獲知結(jié)構(gòu)特征的雜質(zhì)。新藥制劑(Newdrugproduct):一種藥物的制劑形式(如片劑、膠囊劑、溶液劑、霜?jiǎng)?,他們以前未在地區(qū)或成員國注冊過。通常含有一種藥物成份,但不一定含有輔料。術(shù)語(3)新原料藥(Newdrugsubstance):以前沒有在任何地區(qū)或成員國注冊過的治療成份(也指新分子實(shí)體或新化學(xué)實(shí)體),它可以是以前被批準(zhǔn)藥物的復(fù)合物、簡單的酯或鹽。多晶體(Polymorphism):相同藥物以不同晶體形式存在。它包括溶劑化物、水合物(也被稱為偽多晶型物)和無定形物。質(zhì)量(Quality):原料藥或制劑對其預(yù)期使用目的的合適性,包括鑒別、藥效和純度等屬性。外消旋體(Racemate):兩種對映體等摩爾混合物(固體、液體、氣體或溶液),它沒有光學(xué)活性。術(shù)語(4)試劑(Reagent):被用于新藥生產(chǎn)的,除原料或溶劑以外的物質(zhì)。溶劑(Solvent):一種無機(jī)或有機(jī)液體,在新原料藥合成或新藥制劑生產(chǎn)中去制備溶液或混懸液的溶媒。規(guī)范(Specification):一系列試驗(yàn)、有關(guān)的分析方法、認(rèn)可的數(shù)值限度和范圍或所述試驗(yàn)的其他標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,它建立起一套與其使用目的相符合的原料或制劑的標(biāo)準(zhǔn)?!胺弦?guī)范”是指原料藥或制劑在按照所列的分析方法進(jìn)行試驗(yàn)時(shí)符合規(guī)定。規(guī)范是有關(guān)政府與申請者達(dá)到共識的有約束力的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。術(shù)語(5)專屬性試驗(yàn)(Specifictest):根據(jù)特殊的原料藥和制劑的特定性質(zhì)或用途而設(shè)計(jì)的試驗(yàn)。特定雜質(zhì)(Specifiedimpurity):一種未鑒定或已鑒定的雜質(zhì),單獨(dú)列入新原料藥或新藥制劑的規(guī)范中,并設(shè)立限
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