等離子清洗機(jī)工作原理

等離子清洗機(jī)工作原理1、何謂等離子清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就能夠使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)成分子級(jí)。等離子清洗器除了含有超清洗功效外，在特定條件下還可根據(jù)需要變化某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中檔離子清洗器的輝光放電不僅加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

等離子清洗機(jī)的應(yīng)用，來源于20世紀(jì)初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應(yīng)用越來越廣，現(xiàn)在已在眾多高科技領(lǐng)域中，居于核心技術(shù)的地位，等離子清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響最大，首推電子資訊工業(yè)，特別是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。

等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于多個(gè)電子元件的制造，能夠確信，沒有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)，就沒有今天這樣發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。另外，等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上，并且是產(chǎn)品提高的核心技術(shù)，例如說光學(xué)元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面解決、微感測器的制造，超微機(jī)械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步，才干開發(fā)完畢。

等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域，該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反映，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多個(gè)領(lǐng)域，涉及化工、材料和電機(jī)，因此將極具挑戰(zhàn)性，也充滿機(jī)會(huì)，由于半導(dǎo)體和光電材料在將來得快速成長，此方面應(yīng)用需求將越來越大。

2、等離子清洗機(jī)的技術(shù)原理2.1什么是等離子體

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，普通物質(zhì)以固態(tài)、業(yè)態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在某些特殊的狀況下能夠以第四中狀態(tài)存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱位物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中存在下列物質(zhì)。處在高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處在激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反映過程中生成的紫外線；未反映的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。2.2如何用人工辦法制得等離子體除了在自己已存在的等離子體以外，用人工辦法在一定范疇內(nèi)也能夠制得等離子體。最早是在1927年，當(dāng)水銀蒸氣在高壓電場中的放電時(shí)由科研人員發(fā)現(xiàn)等離子體。背面的發(fā)現(xiàn)是通過多個(gè)形式，如電弧放電、輝光放電、激光、火焰或者沖擊波等，都能夠使處在低氣壓狀態(tài)的氣體物質(zhì)轉(zhuǎn)變成等離子體狀態(tài)。如在高頻電場中處在低氣壓狀態(tài)的氧氣、氮?dú)?、甲烷、水蒸氣等氣體分子在輝光放電的狀況下，能夠分解出加速運(yùn)動(dòng)的原子和分子，這樣產(chǎn)生的電子和解離成點(diǎn)有正、負(fù)電荷的原子和分子。這樣產(chǎn)生的電子在電場中加速時(shí)會(huì)獲得高能量，并與周邊的分子或原子發(fā)生碰撞，成果使分子和原子中又激發(fā)出電子，而本身又處在激發(fā)狀態(tài)或離子狀態(tài)，這時(shí)物質(zhì)存在的狀態(tài)即為等離子體狀態(tài)。在普通資料中常能夠見到用下述反映式表述的等離子體形成過程。如氧氣等離子體形成過程即可用下列6個(gè)反映式來表達(dá)：第一種反映式表達(dá)氧氣分子在得到外界能量后變成氧氣陽離子，并放出自由電子過程，第二個(gè)反映式表達(dá)氧氣分子在得到外界能量后分解形成兩個(gè)氧原子自由基的過程。第三個(gè)反映式表達(dá)氧氣分子在含有高能量的激發(fā)態(tài)自由電子作為下轉(zhuǎn)變成激發(fā)態(tài)。第四第五反映式則表達(dá)激發(fā)態(tài)的氧氣分子進(jìn)一步發(fā)生轉(zhuǎn)變，在第四個(gè)反映式中，氧氣餓飯腦子回到普通狀態(tài)的同時(shí)發(fā)出光能（紫外線）。在第五個(gè)反映式中，激發(fā)態(tài)的氧氣分子分解成兩個(gè)氧原子自由基。第六個(gè)反映式表達(dá)氧氣分子在激發(fā)態(tài)自由電子的作用下，分解成氧原子自由基和氧原子陽離子的過程，當(dāng)這些反映持續(xù)不停發(fā)生，就形成氧氣等離子體，其它氣體的等離子體的形成過程也可用相似的反映式描述。固然實(shí)際反映要比這些反映式描述的更為復(fù)雜。

2.3等離子體的種類

（1）低溫和高溫可分為高溫等離子體和低溫等離子體兩類，在等離子體中，不同微粒的溫度事實(shí)上是不同的，所含有的溫度是與微粒的動(dòng)能即運(yùn)動(dòng)速度質(zhì)量有關(guān)，把等離子體中存在的離子的溫度用Ti表達(dá)，電子的溫度用Te表達(dá)，而原子、分子或原子團(tuán)等中性粒子的溫度用Tn表達(dá)，對(duì)于Te大大高于Ti和Tn的場合，即低壓體氣的場合，此時(shí)氣體的壓力只有幾百個(gè)帕斯卡，當(dāng)采用直流電壓或高頻電壓做電場時(shí)，由于電子本身的質(zhì)量很小，在電池中容易得到加緊，從而可獲得平均可達(dá)數(shù)電子伏特的高能量，對(duì)于電子，此能量的對(duì)應(yīng)溫度為幾萬度（K），而弟子由于質(zhì)量較大，很難被電場加速，因此溫度僅幾千度。由于氣體粒子溫度較低（含有低溫特性），因此把這種等離子體稱為低溫等離子體。當(dāng)氣體處在高壓狀態(tài)并從外界獲得大量能量時(shí)，粒子之間的互相碰撞頻率大大增加，多個(gè)微粒的溫度基本相似，即Te基本與Ti及Tn相似，我們把這種條件下得到的等離子體稱為高溫等離子體，太陽就是自己界中的高溫等離子體。由于高溫等離子體對(duì)物體表面的作用過于強(qiáng)強(qiáng)烈，因此在實(shí)際應(yīng)用中極少使用，現(xiàn)在投入使用的只有低溫等離子體，由于在本文中將低溫等離子體簡稱為等離子體，但愿不會(huì)引發(fā)讀者誤解。

（2）活潑氣體和不活潑氣體等離子體，根據(jù)產(chǎn)生等離子體時(shí)應(yīng)用的氣體的化學(xué)性質(zhì)不同，可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類，不活潑氣體如氬氣（Ar）、氮?dú)猓∟2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）等，活潑氣體如氧氣（O2）、氫氣（H2）等，不同類型的氣體在清洗過程中的反映機(jī)理是不同的，活潑氣體的等離子體含有更強(qiáng)的化學(xué)反映活性，這將在背面結(jié)合具體應(yīng)用實(shí)例介紹。

2.4等離子體與物體表面的作用

在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還存在受到能量激勵(lì)狀態(tài)的電中性的原子或原子團(tuán)（又成自由基），以及等離子體發(fā)射出的光線，其中波的長短、能量的高低在等離子體與物質(zhì)表面互相作用時(shí)有著重要作用。

2.4.1原子團(tuán)等自由基與物體表面的反映

由于這些自由基呈電重型，存在壽命較長，并且在離子體中的數(shù)量多于離子，因此自由基在等離子體中發(fā)揮著重要作用，自由基的作用重要體現(xiàn)在化學(xué)反映過程中能量傳遞的"活化"作用，處在激發(fā)狀態(tài)的自由基含有較高的能量，因此易于與物體表面分子結(jié)合時(shí)會(huì)形成新的自由基，新形成的自由基同樣處在不穩(wěn)定的高能量狀態(tài)，很可能發(fā)生分解反映，在變成較小分子同時(shí)生成新的自由基，這種反映過程還可能繼續(xù)進(jìn)行下去，最后分解成水、二氧化碳之類的簡樸分子。在另某些狀況下，自由基與物體表面分子結(jié)合的同時(shí)，會(huì)釋放出大量的結(jié)合能，這種能量又成為引發(fā)新的表面反映推動(dòng)力，從而引發(fā)物體表面上的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反映而被去除。

2.4.2電子與物體表面的作用

首先電子對(duì)物體表面的撞擊作用，可促使吸附在物體表面的氣體分子發(fā)生分解和解吸，另首先大量的電子撞擊有利引發(fā)化學(xué)反映。由于電子質(zhì)量極小，因此比離子的移動(dòng)速度要快的多，當(dāng)進(jìn)行等離子體解決時(shí)，電子要比離子更早達(dá)成物體表面，并使表面帶有負(fù)電荷，這有助于引發(fā)進(jìn)一步反映。

2.4.3離子與物體表面的作用

普通指的是帶正電荷的陽離子的作用，陽離子有加速?zèng)_向帶負(fù)電荷表面的傾向，此時(shí)使物體表面獲得相稱大的動(dòng)能，足以撞擊去除表面上附著的顆粒性物質(zhì)，我們?cè)谶@種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象，而通過離子的沖擊作用可極大增進(jìn)物體表面化學(xué)反映發(fā)生的幾率。

2.4.4紫外性與物體表面的反映

紫外性含有很強(qiáng)的光能，可使附著在物體表面物質(zhì)的分子鍵發(fā)生斷裂而分解，并且紫外線含有很強(qiáng)的穿透能力，可透過物體的表面進(jìn)一步達(dá)數(shù)微米而產(chǎn)生作用。

總而言之，可知等離子清洗是運(yùn)用等離子體內(nèi)的多個(gè)含有高能量的物質(zhì)和活化作用，將附著在物體表面的污垢徹底剝拜別除。

3離子清洗機(jī)/等離子清洗設(shè)備的構(gòu)造及工作原理研究

3.1離子清洗機(jī)/等離子清洗設(shè)備的基本構(gòu)造

根據(jù)用途的不同，可選用多個(gè)構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備，并可通過選用不同種類的氣體，調(diào)節(jié)裝置的特性參數(shù)等辦法使工藝流程實(shí)現(xiàn)最佳化，但等離子體清洗裝置的基本構(gòu)造大致是相似的，普通裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電極、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分構(gòu)成。普通使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源普通用13.56M赫茲的無線電波，設(shè)備的運(yùn)行過程以下：

（1）被清洗的工件送入真空室并加以固定，啟動(dòng)運(yùn)行裝置，開始排氣，使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)成10Pa左右的原則真空度。普通排氣時(shí)間大概需要2min。

（2）向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在100Pa。

根據(jù)清洗材質(zhì)的不同，可分別選用氧氣、氫氣、氬氣或氮?dú)獾葰怏w。

（3）在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體完全籠罩在被解決工件，開始清洗作業(yè)。普通清洗解決持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

（4）清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入空氣，并使氣壓升至一種大氣壓。

3.2等離子清洗的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)與濕法清洗相比，等離子清洗的優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)在下列8個(gè)方面：

（1）在通過等離子清洗后來，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥解決即可送往下道工序。

（2）不使用三氯乙甲ODS有害溶劑，清洗后也不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，屬于有助于環(huán)保的綠色清洗辦法。

（3）用無線電波范疇的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，它的方向性不強(qiáng)，因此它能夠進(jìn)一步物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完畢清洗任務(wù)，因此不必過多考慮被清洗物體形狀的影響，并且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與用氟里昂清洗的效果相似甚至更加好。

（4）整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘即可完畢，因此含有效率高的特點(diǎn)。

（5）等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種真空度在工廠實(shí)際生產(chǎn)中很容易實(shí)現(xiàn)。這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過程不需要使用價(jià)格昂貴的有機(jī)溶劑，因此它的運(yùn)行成本要低于傳統(tǒng)的清洗工藝。

（6）由于不需要對(duì)清洗液進(jìn)行運(yùn)輸、貯存、排放等解決方法，因此生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生。

（7）等離子清洗的最大技術(shù)特點(diǎn)是：它不分解決對(duì)象，可解決不同的基材，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、據(jù)四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可用等離子體較好地解決，因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。并且還能夠有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜構(gòu)造進(jìn)行部分清洗。（8）在完畢清晰去污的同時(shí)，還能變化材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。

3.3離子清洗機(jī)/等離子清洗設(shè)備的原理理論分析

我們先簡樸的定義什么是等離子體，等離子體是一團(tuán)含有正離子、電子、自由基及中性氣體原子所構(gòu)成的會(huì)發(fā)光的氣體團(tuán)，如日光燈、霓紅燈發(fā)亮的狀態(tài)，就是屬于等離子體發(fā)亮的狀態(tài)。等離子體的產(chǎn)生最重要是靠電子去撞擊中性氣體原子，使中性氣體原子解離而產(chǎn)生等離子體，但中性氣體原子核對(duì)其外圍的電子有一束縛的能量，我們稱它為束縛能，而外界的電子能量必須不不大于此束縛能，才會(huì)有能力解離此中性氣體原子，但是，另外界的電子往往是能量局限性的，沒有解離中性氣體原子的能力，因此，我們必須用外加能量的辦法給原子電子能量，使電子有運(yùn)用解離此中性氣體原子。

要外加能量給電子，最簡樸的辦法就是用平行電極板加始終流電壓，電子在電極中，會(huì)被帶正電的電極所吸引而加速，在加速的過程中電子能夠累積能量，當(dāng)電子的能量達(dá)成某一程度時(shí)，就有能力來解離中性氣體原子，能產(chǎn)生高密度等離子體的辦法有諸多個(gè)，在此我們簡樸的介紹某些能產(chǎn)生高密度等離子體的辦法。

3.3.1感應(yīng)偶合式等離子體產(chǎn)生法（ICP）感應(yīng)偶合式等離子體與（Inductively－Couplede－Plasma，ICP）的工作原理，就是在線圈上加上一種高頻電源，當(dāng)線圈上的電流變化時(shí)，就可有安培定律懂得，當(dāng)感應(yīng)產(chǎn)生一變動(dòng)磁場，同時(shí)可由法拉第定律懂得此變動(dòng)之磁場會(huì)感應(yīng)出一種反映方向的電場，此電場會(huì)加速等離子體中的電子而形成一線圈電流相反的二次電流。并且隨著與加于線圈上的電流不停變化，而感應(yīng)出的電場也不停變化，這不停變化電場與平板式高調(diào)波等離子體同樣能用來加速電子以維持等離子體，所不同的是電場與電極方向不同。在平板式高調(diào)波等離子體中電子受電場影響而運(yùn)動(dòng)方向垂直于電極，因此會(huì)有許多電子逃離等離子體跑到電極上，使能量消耗在加熱電極上，而在感應(yīng)偶合式等離子中，電子受感應(yīng)電場的影響而使運(yùn)動(dòng)方向與電極平行，因此不會(huì)有太多的電子損耗在電極上，固能夠維持線圈周邊相稱高的電子密度。ICP的重要優(yōu)點(diǎn)為：

（1）等離子體密度高、解離率高，能夠在相稱大的壓力范疇上保持高密度等離子體。

（2）平板式ICP可大面積操作。

（3）ICP等離子體中的電子溫度低、離子動(dòng)能低、等離子體電位低。

（4）等離子體密度及離子轉(zhuǎn)擊基板的動(dòng)能可分開控制。

（5）設(shè)備簡樸。

但其唯一的缺點(diǎn)為線圈電極可能被離子打出而污染鍍膜品質(zhì)，普通改善的辦法有：

（1）將線圈電極的一端接地以減少線圈電極之電位，即減少電容效應(yīng)。

（2）并聯(lián)始終流電壓以避免離子轉(zhuǎn)擊。

（3）可使使用方法拉第屏蔽（Faraday''sshielding）以消除電容效應(yīng)。

（4）將線圈以介電材料被覆（coating）以減少等離子體電位。

3.3.2陰極等離子體產(chǎn)生法（HCF）

在一金屬管裝物，可為圓形、方形、橢圓形或其它形狀，在外加一高調(diào)波在此管狀物上，會(huì)產(chǎn)生一種自我偏壓，故造成整支管子都是帶一偏壓，這使得電子無論是往哪一方向作運(yùn)動(dòng)，都會(huì)被排斥，因此，電子在管內(nèi)會(huì)作來回振蕩的運(yùn)動(dòng)，固電子在碰撞到電極板前，能走更長的距離，這就是表達(dá)電子會(huì)有更多的機(jī)會(huì)或幾率與中性氣體原子產(chǎn)生碰撞，從而產(chǎn)生等離子體。

3.3.3電子回旋共振電漿產(chǎn)生法（ECR）

此為微波（Microwave）與磁場共同組合的一種等離子體產(chǎn)生法，電子在磁場中會(huì)作旋轉(zhuǎn)的運(yùn)動(dòng)，當(dāng)磁場強(qiáng)度越來越強(qiáng)時(shí)，電子旋轉(zhuǎn)的速度會(huì)越快，在磁場強(qiáng)度為875GA/m時(shí)，電子旋轉(zhuǎn)的頻率為2.45G赫茲，此頻率恰巧為微波的頻率，因頻率相近而產(chǎn)生共振，此共振現(xiàn)象就有助于電子吸取微波的能量，因擁有較高能量的電子，這將有助于等離子體的產(chǎn)生。

3.3.4電容耦合式與感應(yīng)耦合式離子體的差別性能比較

傳統(tǒng)型的離子設(shè)備普通又稱電容耦合等離子機(jī)（capacitorcoupledplasma，CCP或CP）或電場耦合式等離子機(jī)（electricfieldcoupledplasma），由于兩電極間所形成電容之間產(chǎn)生電場的等效電路故稱之。這種電容式的等離子體系統(tǒng)雖行之有年，卻有其據(jù)點(diǎn)存在，當(dāng)粒子被RF電場加速時(shí)，其粒子順著電場方向來回碰撞，因此造成兩個(gè)問題，一為粒子因向上下電機(jī)板加速產(chǎn)生碰撞造成動(dòng)能的損耗，二為由于晶片普通置于其中一電極，在粒子向兩極加速的中過程中，易于對(duì)晶片上的元件造成損傷，又由于粒子動(dòng)能的損耗使得電漿的效率無法提高，因此其密度只能維持在109ion/cm3的數(shù)量級(jí)，因此電容式電漿用于蝕刻時(shí)，基本上是含有物物理蝕刻和化學(xué)蝕刻雙重作用的合成，限于等離子體密度無法提高，單位面積內(nèi)的活化離子數(shù)目以及化學(xué)蝕刻反映也受到了帶電粒子數(shù)目的限制，在低壓狀況下（1.333mPa下列），由于離子數(shù)目過低而造成等離子體無法維持的狀況，因此電容耦合式電漿很難用于低壓下蝕刻并且也不是很有效率，為了避免此一困擾，使用者將制成的壓力提高到及幾毫帕或幾十豪帕的范疇，此壓力范疇若應(yīng)用于CVD就較好，但是若應(yīng)用于蝕刻就會(huì)產(chǎn)生等向蝕刻的效應(yīng)，此效應(yīng)和化學(xué)蝕刻并沒有太大差別，由于在此壓力范疇內(nèi)，粒子的meanfree－path已小到0.1mm下列，粒子進(jìn)入晶片表面法向分量與切向分量已沒任何差別。因此其縱向蝕刻速率與橫向蝕刻速率幾近相等，即所謂的"等向蝕刻"。

20世紀(jì)80年代末期，出現(xiàn)了磁場耦合方式的等離子體，或稱感應(yīng)耦合式（InductivelyCoupledPlasma，ICP）在特性上取代了電場耦合方式（即電容式等離子體），該種等離子體在構(gòu)造上由電感產(chǎn)生感應(yīng)磁場，再運(yùn)用此磁場產(chǎn)生感應(yīng)而得到二次感應(yīng)而得到二次感應(yīng)電流圍繞此磁場，由于此構(gòu)造類似變壓器原理，因此又稱之為變壓器耦合待離子體（transformercoupledplasma）此構(gòu)造的優(yōu)點(diǎn)在于帶電粒子功效損耗的缺點(diǎn)而使得效率大大提高，借而提高電漿密度，更有利的一點(diǎn)是由于粒子的加速方向平行于晶牌片表面的切線方向，因此不至于造成對(duì)元件的損傷，這種封閉式的加速途徑使得粒子之間的碰撞幾率大大增加，因此，磁場耦合式等離子體的密度高達(dá)1011－1013ion/cm3數(shù)量級(jí)。更重要的一點(diǎn)是由于其效率高、密度大，等離子體在壓力低于0.133mPa下列的范疇仍可維持1011－1013ion/cm2的數(shù)量級(jí)。由于此一優(yōu)點(diǎn)，等離子體系統(tǒng)的工作壓力能夠延伸到0.133mpa下列，低工作壓力得好處在于粒子的mean－free－path大，借由偏移壓場能夠輔助帶電粒子向晶片的入射方向，不致因受到太多的碰撞而產(chǎn)生散射效應(yīng)，此入射方向決定蝕刻角度的核心參數(shù)。在0.133－1.133mPa的壓力范疇下操作，其蝕刻角度能夠到近于90度的垂直效果，此乃高密度等離子體的重要特性之一。

3.3.5等離子清洗機(jī)機(jī)理分析

電漿與材料表面可產(chǎn)生的