氧化鋅基薄膜光電性能及其在紫外探測(cè)器中的應(yīng)用研究的開(kāi)題報(bào)告

氧化鋅基薄膜光電性能及其在紫外探測(cè)器中的應(yīng)用研究的開(kāi)題報(bào)告一、選題背景及意義隨著現(xiàn)代科技的不斷發(fā)展，人們對(duì)光電器件的研究越來(lái)越深入，尤其是在紫外探測(cè)器領(lǐng)域。紫外探測(cè)器是一種將紫外光轉(zhuǎn)換為電信號(hào)的光電轉(zhuǎn)換器件，它廣泛應(yīng)用于環(huán)保監(jiān)測(cè)、醫(yī)療、軍事等領(lǐng)域，因此該領(lǐng)域的研究具有重要的意義。氧化鋅基薄膜是紫外探測(cè)器中常用的材料之一，它具有優(yōu)良的光電性能，包括高感應(yīng)度、快速響應(yīng)和穩(wěn)定的電性能等。因此，對(duì)氧化鋅基薄膜的研究可以為紫外探測(cè)器的研制提供重要的支撐。二、研究?jī)?nèi)容和目的本文擬通過(guò)實(shí)驗(yàn)方法，研究氧化鋅基薄膜的光電性能，以及其在紫外探測(cè)器中的應(yīng)用情況，具體研究?jī)?nèi)容如下：1.利用化學(xué)氣相沉積技術(shù)制備氧化鋅基薄膜。2.對(duì)不同制備條件下的氧化鋅基薄膜進(jìn)行表征，包括薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、形貌、成分等。3.對(duì)氧化鋅基薄膜的光電性能進(jìn)行測(cè)試，主要包括薄膜的光導(dǎo)率、光吸收系數(shù)、光敏功率等。4.研究氧化鋅基薄膜在紫外探測(cè)器中的應(yīng)用情況。通過(guò)以上研究，旨在了解氧化鋅基薄膜的制備方法、特性和在紫外探測(cè)器中的應(yīng)用情況，為紫外探測(cè)器技術(shù)的發(fā)展提供科學(xué)依據(jù)。三、研究方法和步驟1.制備氧化鋅基薄膜利用化學(xué)氣相沉積技術(shù)，采用不同的實(shí)驗(yàn)條件制備氧化鋅基薄膜。2.表征氧化鋅基薄膜對(duì)不同實(shí)驗(yàn)條件下的氧化鋅基薄膜進(jìn)行表征，包括X射線衍射、掃描電子顯微鏡等。3.測(cè)試氧化鋅基薄膜的光電性能采用測(cè)試系統(tǒng)測(cè)試氧化鋅基薄膜的光導(dǎo)率、光吸收系數(shù)、光敏功率等參數(shù)。4.應(yīng)用研究將氧化鋅基薄膜應(yīng)用于紫外探測(cè)器中，研究其性能。四、預(yù)期成果本文的預(yù)期成果如下：1.成功制備出氧化鋅基薄膜。2.通過(guò)表征，研究氧化鋅基薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、形貌、成分等特性。3.測(cè)試氧化鋅基薄膜的光電性能。4.研究氧化鋅基薄膜在紫外探測(cè)器中的應(yīng)用情況。五、進(jìn)度計(jì)劃1.前期工作綜述氧化鋅基薄膜的制備方法和性能，閱讀相關(guān)文獻(xiàn)資料，制定研究方案和方法。2.制備氧化鋅基薄膜并進(jìn)行表征2019年10月-2020年3月3.測(cè)試氧化鋅基薄膜的光電性能2020年4月-2020年6月4.研究氧化鋅基薄膜在紫外探測(cè)器