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在半導(dǎo)體制造工藝中,化學(xué)機械拋光——Chemical-mechanicalpolishing,CMP技術(shù)在單晶硅襯底和多層金屬互連結(jié)構(gòu)的層間全局平坦化等方面得到了廣泛應(yīng)用,成為制造主流芯片的關(guān)鍵技術(shù)之一。CMP是目前最佳也是唯一能夠?qū)崿F(xiàn)全局平坦化的技術(shù),但是在CMP過程中,往往在材料的表面引入一些缺陷,如碟型凹陷,腐蝕,刮痕和各種污染等。為了解決這些存在的問題,各種新技術(shù),如固體磨料拋光墊,無磨料化學(xué)機械拋光,電化學(xué)拋光等已成為CMP主要的研究方向。因此,拋光液在CMP過程中得到了廣泛的應(yīng)用。拋光液混合分配系統(tǒng)又稱為“拋光液供應(yīng)系統(tǒng)”,是一種用于輸送CMP拋光液的設(shè)備或系統(tǒng)。它通常由多個組件組成,包括泵、管道、閥門、過濾器、傳感器等,用于將CMP拋光液從存儲容器輸送到CMP拋光機,并確保液體的流量和壓力穩(wěn)定,以滿足CMP拋光工藝的需求。如上圖表/數(shù)據(jù),摘自QYResearch最新報告“全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場研究報告2023-2029.據(jù)調(diào)研團隊最新報告“全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場報告2023-2029”顯示,預(yù)計2029年全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場規(guī)模將達到12.1億美元,未來幾年年復(fù)合增長率CAGR為4.9%。拋光液混合分配系統(tǒng),全球市場總體規(guī)模如上圖表/數(shù)據(jù),摘自QYResearch最新報告“全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場研究報告2023-2029.全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場前20強生產(chǎn)商排名及市場占有率(基于2022年調(diào)研數(shù)據(jù);目前最新數(shù)據(jù)以本公司最新調(diào)研數(shù)據(jù)為準)如上圖表/數(shù)據(jù),摘自QYResearch報告“全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場研究報告2023-2029,排名基于2022數(shù)據(jù)。目前最新數(shù)據(jù),以本公司最新調(diào)研數(shù)據(jù)為準。全球范圍內(nèi)拋光液混合分配系統(tǒng)生產(chǎn)商主要包括Merck、Kinetics、STICO.,LTD、Mitsubishi、ToyokoKagaku、吉姆西半導(dǎo)體、DFS(Exyte)、Oceanbridge、AIRWATER、FathGroup等。2022年,全球前十強廠商占有大約70.0%的市場份額。目前,全球核心廠商主要分布在北美、歐洲、中國、日本等拋光液混合分配系統(tǒng),全球市場規(guī)模,按產(chǎn)品類型細分,集中式拋光液供給系統(tǒng)處于主導(dǎo)地位如上圖表/數(shù)據(jù),摘自QYResearch最新報告“全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場研究報告2023-2029.就產(chǎn)品類型而言,目前集中式拋光液供給系統(tǒng)是最主要的細分產(chǎn)品,占據(jù)大約54.2%的份額。拋光液混合分配系統(tǒng),全球市場規(guī)模,按應(yīng)用細分,半導(dǎo)體是最大的下游市場,占有58.2%份額。如上圖表/數(shù)據(jù),摘自QYResearch最新報告“全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場研究報告2023-2029.就產(chǎn)品應(yīng)用而言,目前半導(dǎo)體是最主要的需求來源,占據(jù)大約58.2%的份額。全球拋光液混合分配系統(tǒng)規(guī)模,主要生產(chǎn)地區(qū)份額(按產(chǎn)值)如上圖表/數(shù)據(jù),摘自QYResearch最新報告“全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場研究報告2023-2029.全球主要市場拋光液混合分配系統(tǒng)規(guī)模如上圖表/數(shù)據(jù),摘自QYResearch最新報告“全球拋光液混合分配系統(tǒng)市場研究報告2023-2029.主要驅(qū)動因素:一方面,我國半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率尚有較大提升空間。我國的半導(dǎo)體設(shè)備起步較晚且大多依賴進口,國產(chǎn)自給率仍然較低。伴隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)國際競爭形勢變化以及中美貿(mào)易摩擦的影響,在美國、荷蘭和日本對我國半導(dǎo)體設(shè)備出口施加管制的背景下,為了降低出口管制帶來的風(fēng)險、保障我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈安全,提高半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率及實現(xiàn)國產(chǎn)替代的需求較為迫切。另一方面,全球半導(dǎo)體制造產(chǎn)能東移過程將提升國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備的需求。全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展經(jīng)歷了從美國到日本,再到韓國和中國臺灣,然后到中國大陸的產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移過程。中國大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)經(jīng)歷了較長的發(fā)展周期,在國家戰(zhàn)略及產(chǎn)業(yè)政策的大力支持下,半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈高速發(fā)展,為國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)和銷售創(chuàng)造了良好的市場環(huán)境。國內(nèi)半導(dǎo)體廠商產(chǎn)能持續(xù)擴張,進而帶動對上游設(shè)備廠商的需求。隨著5G、物聯(lián)網(wǎng)、新能源汽車、云計算及大數(shù)據(jù)等新興領(lǐng)域的快速發(fā)展,新型芯片創(chuàng)造的增量需求為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的增長注入了新活力,國內(nèi)半導(dǎo)體廠商的產(chǎn)能保持擴張趨勢,資本開支規(guī)模將繼續(xù)增長,因此未來中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模仍有望保持在較高水平。主要阻礙因素:半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的關(guān)鍵支撐行業(yè),其需求受下游半導(dǎo)體廠商資本支出及終端消費市場需求波動的影響較大。如果未來宏觀經(jīng)濟發(fā)生劇烈波動,導(dǎo)致計算機、消費電子、網(wǎng)絡(luò)通信、汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)等終端市場需求下降,則可能導(dǎo)致半導(dǎo)體制造廠商面臨產(chǎn)能過剩的局面。當前世界政治經(jīng)濟形勢劇烈變化,國際貿(mào)易摩擦不斷加劇,若西方國家進一步提高對國內(nèi)重點半導(dǎo)體設(shè)備或下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的貿(mào)易壁壘,可能導(dǎo)致國內(nèi)半導(dǎo)體下游企業(yè)降低資本開支預(yù)算并減少對半導(dǎo)體設(shè)備的需求,從而對半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)產(chǎn)生負面影響。半導(dǎo)體設(shè)備市場的快速增長以及我國巨大的市場規(guī)模和進口替代預(yù)期,還將吸引更多的潛在進入者,因此可能面臨市場競爭加劇的風(fēng)險?;瘜W(xué)機械拋光設(shè)備行業(yè)屬于典型的技術(shù)密集型行業(yè),涉及集成電路、機械、材料、物理、力學(xué)、化學(xué)、化工、電子、計算機、儀器、光學(xué)、控制、軟件工程等多學(xué)科領(lǐng)域,是多門類跨學(xué)科知識的綜合應(yīng)用,研發(fā)制造難度大。。如果不能緊跟國內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備制造技術(shù)的發(fā)展趨勢,充分關(guān)注客戶多樣化、獨特的工藝需求,或者后續(xù)研發(fā)投入不足,將面臨因無法保持持續(xù)創(chuàng)新能力而導(dǎo)致市場競爭力下降的風(fēng)險。作為高新技術(shù)企業(yè),核心技術(shù)優(yōu)勢以及持續(xù)研發(fā)能力是公司的核心競爭力,也是保持技術(shù)領(lǐng)先和市場競爭優(yōu)勢的關(guān)鍵因素。擁有多項核心技術(shù),為保護核心技術(shù),通過與核心技術(shù)人員簽訂相關(guān)協(xié)議、規(guī)范研發(fā)過程管理、申請專利等保護措施防止核心技術(shù)泄露,但上述措施并不能完全保證核心技術(shù)不會泄露。若在經(jīng)營過程中因核心技術(shù)信息保管不善、核心技術(shù)人員流失等原因?qū)е潞诵募夹g(shù)泄露,將對業(yè)務(wù)發(fā)展和研發(fā)進程造成不利影響。為滿足客戶工藝需求,半導(dǎo)體設(shè)備中各核心模塊的技術(shù)和控制系統(tǒng)會不斷升級。在下游半導(dǎo)體制造廠商技術(shù)快速發(fā)展的背景下,半導(dǎo)體設(shè)備廠商的技術(shù)迭代升級也面臨著巨大挑戰(zhàn)。行業(yè)發(fā)展機遇:近年來,我國陸續(xù)推出了多項產(chǎn)業(yè)支持政策,推動了半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展并加速了半導(dǎo)體設(shè)備的國產(chǎn)化進程?!秶壹呻娐樊a(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》明確指出:鼓勵企業(yè)在集成電路關(guān)鍵裝備和材料領(lǐng)域進行技術(shù)突破;《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2019年版)》中將化學(xué)機械拋光機作為集成電路生產(chǎn)裝備之一列入目錄;《中華人民共和國國民經(jīng)濟和社會發(fā)展第十四個五年規(guī)劃和2035年遠

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