標(biāo)準(zhǔn)解讀

GB/T 44223-2024是一項(xiàng)針對(duì)納米技術(shù)領(lǐng)域中動(dòng)態(tài)光散射法粒度分析儀的技術(shù)要求標(biāo)準(zhǔn)。此標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)規(guī)定了此類分析儀的性能指標(biāo)、測(cè)試方法、校準(zhǔn)規(guī)范以及安全使用等方面的要求,旨在確保粒度分析結(jié)果的準(zhǔn)確性和重復(fù)性,適用于采用動(dòng)態(tài)光散射原理測(cè)量納米粒子大小分布的儀器。

標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容概覽包括:

  1. 范圍:明確標(biāo)準(zhǔn)適用的儀器類型和應(yīng)用領(lǐng)域,即用于納米尺度粒子粒度分析的動(dòng)態(tài)光散射法儀器。

  2. 術(shù)語(yǔ)和定義:對(duì)關(guān)鍵術(shù)語(yǔ)進(jìn)行界定,如動(dòng)態(tài)光散射、粒度分布、分散介質(zhì)等,以便統(tǒng)一理解和操作標(biāo)準(zhǔn)。

  3. 符號(hào)與單位:規(guī)定了標(biāo)準(zhǔn)中使用的符號(hào)及其對(duì)應(yīng)的計(jì)量單位,確保量值表達(dá)的一致性和準(zhǔn)確性。

  4. 要求

    • 儀器性能:規(guī)定了儀器的分辨率、精度、穩(wěn)定性、靈敏度等核心性能指標(biāo)。
    • 光學(xué)系統(tǒng):描述了光源、檢測(cè)器及光學(xué)路徑的設(shè)計(jì)與性能要求,以保證光散射信號(hào)的有效收集與分析。
    • 分散系統(tǒng):闡述了樣品分散的均勻性、穩(wěn)定性的要求及分散介質(zhì)的選擇原則。
    • 數(shù)據(jù)處理與分析軟件:明確了軟件應(yīng)具備的功能,如自動(dòng)測(cè)量、數(shù)據(jù)分析算法、結(jié)果輸出格式等。
    • 環(huán)境條件:指出了儀器正常工作所需的溫度、濕度等環(huán)境條件。
  5. 試驗(yàn)方法:詳細(xì)說(shuō)明了如何進(jìn)行儀器的校準(zhǔn)、性能驗(yàn)證及日常測(cè)試的操作步驟,包括樣品準(zhǔn)備、測(cè)試流程、數(shù)據(jù)采集與處理方法。

  6. 檢驗(yàn)規(guī)則:制定了儀器出廠檢驗(yàn)、型式檢驗(yàn)的項(xiàng)目、方法及合格判定準(zhǔn)則,確保每臺(tái)儀器符合標(biāo)準(zhǔn)要求。

  7. 標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存:規(guī)定了產(chǎn)品的標(biāo)識(shí)信息、包裝要求及在運(yùn)輸和貯存過(guò)程中的保護(hù)措施。

  8. 安全要求:強(qiáng)調(diào)了儀器使用過(guò)程中的安全注意事項(xiàng),防止操作人員受傷或儀器損壞。


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....

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  • 即將實(shí)施
  • 暫未開(kāi)始實(shí)施
  • 2024-07-24 頒布
  • 2025-02-01 實(shí)施
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GB/T 44223-2024納米技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射法粒度分析儀技術(shù)要求_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

ICS

17.040.30

CCS

N51

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T44223—2024

納米技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射法

粒度分析儀技術(shù)要求

Nanotechnologies—Technicalrequirementsfordynamiclight

scatteringparticlesizeanalyzers

2024-07-24發(fā)布2025-02-01實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T44223—2024

目次

前言

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1

范圍

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1

2

規(guī)范性引用文件

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1

3

術(shù)語(yǔ)和定義

···························································································

1

4

工作原理和結(jié)構(gòu)

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2

5

技術(shù)要求

······························································································

3

6

正常工作條件

·························································································

5

7

檢驗(yàn)項(xiàng)目和試驗(yàn)方法

·················································································

5

附錄A(資料性)

粒度標(biāo)準(zhǔn)樣品

······································································

7

附錄B(資料性)

樣品制備方法

······································································

8

參考文獻(xiàn)

··································································································

9

GB/T44223—2024

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)

定起草。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任。

本文件由中國(guó)科學(xué)院提出。

本文件由全國(guó)納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC279)歸口。

本文件起草單位:國(guó)家納米科學(xué)中心、中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院、北京市科學(xué)技術(shù)研究院分析測(cè)試研究

所(北京市理化分析測(cè)試中心)、珠海真理光學(xué)儀器有限公司、丹東百特儀器有限公司、華南師范大

學(xué)、濟(jì)南微納顆粒儀器股份有限公司、珠海歐美克儀器有限公司、合肥鴻蒙標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院有限公司、

廣州特種承壓設(shè)備檢測(cè)研究院、上海思百吉儀器系統(tǒng)有限公司、冷能(廣東)科技有限公司、中國(guó)計(jì)量

大學(xué)、山東理工大學(xué)、北京信立方科技發(fā)展股份有限公司、成都精新粉體測(cè)試設(shè)備有限公司、安泰科技

股份有限公司、安東帕(上海)商貿(mào)有限公司、中國(guó)合格評(píng)定國(guó)家認(rèn)可中心、北京粉體技術(shù)協(xié)會(huì)、中國(guó)

顆粒學(xué)會(huì)。

本文件主要起草人:朱曉陽(yáng)、高潔、劉俊杰、黃鷺、高原、張福根、董青云、寧輝、韓鵬、任飛、

沈興志、竇曉亮、尹宗杰、黎小宇、劉斌、于明州、劉偉、牛亞偉、周已欣、李艷萍、宋緒東、肖歷、

徐彥、王寧、周素紅、韓秀芝。

GB/T44223—2024

納米技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射法

粒度分析儀技術(shù)要求

1范圍

本文件給出了動(dòng)態(tài)光散射法粒度分析儀的原理,規(guī)定了其性能、電源電壓適應(yīng)性、環(huán)境適應(yīng)性、安

全性、機(jī)械結(jié)構(gòu)、試驗(yàn)條件等技術(shù)要求,描述了其準(zhǔn)確性、重復(fù)性的試驗(yàn)方法。

本文件適用于測(cè)量納米級(jí)及亞微米級(jí)顆粒的平均粒徑、粒徑分布等參數(shù)的粒度分析儀的試驗(yàn)、檢

測(cè)、運(yùn)行和維護(hù)。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文

件,僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本

文件。

GB/T29022—2021粒度分析動(dòng)態(tài)光散射法(DLS)

GB/T30544.6—2016納米科技術(shù)語(yǔ)第6部分:納米物體表征

JJG1104—2015動(dòng)態(tài)光散射粒度分析儀

3術(shù)語(yǔ)和定義

GB/T29022—2021、GB/T30544.6—2016界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。

3.1

平均流體動(dòng)力學(xué)粒徑averagehydrodynamicdiameter

xDLS

反映粒度分布中值的流體動(dòng)力學(xué)直徑。

注1:平均粒徑直接測(cè)定,既可以不計(jì)算粒徑分布,也可以從光強(qiáng)加權(quán)分布、體積加權(quán)分布或數(shù)量加權(quán)分布,以及

擬合(轉(zhuǎn)換)的密度函數(shù)中計(jì)算得到。顆粒平均粒徑的確切意義與計(jì)算方法相關(guān)。

注2:累積量法給出散射光強(qiáng)加權(quán)的諧平均粒徑,有時(shí)也稱為Z均粒徑。

注3:根據(jù)ISO9276?2,算術(shù)、幾何、諧平均值也可以從粒度分布計(jì)算得到。

注4:由密度函數(shù)(線性坐標(biāo))和變換的密度函數(shù)(對(duì)數(shù)坐標(biāo))計(jì)算得到的平均值可能會(huì)有顯著差異(見(jiàn)

ISO9276?1)。

注5:xDLS與顆粒形狀和散射矢量(進(jìn)而與探測(cè)角度、激光波長(zhǎng)和懸浮液介質(zhì)的折射率)相關(guān)。

注6:又稱平均粒徑。

[來(lái)源:GB/T29022—2021,3.2]

3.2

多分散指數(shù)polydispersityindex;PI

用于描述粒度分布寬度的

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