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微酸性檸檬酸鹽無氰鍍金清潔生產(chǎn)推薦技術(shù)技術(shù)說明其工藝規(guī)范見下表:成分及工藝參數(shù)配方1配方2配方3氰化金鉀(g/L)6~84~63~6SbEDTA(g/L)0.1~O.5檸檬酸鉀60~8020~28檸檬酸銨(g/L)80~120EDTA(g/L)10~20檸檬酸(g/L)20~60HD-961A添加劑(g/L)0.1~0.3HD-96lB添加劑(g/L)2~4pH值4.8~5.65~65~5.8溫度(℃)50~6045~5060~70電流密度(A/dm2)直流0.1~0.7脈沖0.5~0.7,通斷比l:9,頻率l00Hz雙脈沖1:(0.3~0.8)陽極鈦板不銹鋼不銹鋼網(wǎng)板SbEDTA的加入可以增加鍍層的致密性和耐蝕性,但它的加入量只能是微量,加入的量過多,形成的鍍層就成為合金鍍層從而改變了鍍層的根本性質(zhì)。使用方波脈沖電源可以降低鍍層的孔隙率。應(yīng)采用不溶性陽極(如鉑鈦),若采用不銹鋼陽極,使用前必須進行電解或機械拋光,否則會產(chǎn)生腐蝕,污染鍍液。由于陽極為不溶性金屬,故必須定期的補充金鹽。適用范圍(替代的落后技術(shù))由于鍍液中有檸檬酸的存在,即使pH值為3時,鍍液中KAu(CN)2仍然十分穩(wěn)定,而且鍍液可以使用較低的金離子濃度,雖然電流效率低,但可以使用較大的電流密度,因此,沉積速度并不低,而且鍍層致密,孔隙率低,耐蝕性和鍍層的外觀均超過氰化物鍍金層。鍍液對印制版的膠黏劑無溶解作用,因此更適合印制電路的電鍍。主要環(huán)境、經(jīng)濟指標鍍液中的金以[Au(CN)2]-的形式存在,鍍液穩(wěn)定,毒性低,是一種低氰化
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