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文檔簡介

CSEATechnicalspecificationof8YSZtargetforElectronBeamPhysicalVaporDeI本文件按照GB/T1.1—2020《標準化工作導(dǎo)則第1部分：標準化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定1電子束物理氣相沉積用8YSZ陶瓷靶材技術(shù)條件本文件規(guī)定了采用化學(xué)共沉淀法、電熔法合成的高純氧化釔部分穩(wěn)定氧化鋯（ZrO2(HfO2)-7~8本文件適用于電子束物理氣相沉積用8YSZ法GB/T20123鋼鐵總碳硫含量的測定高頻感應(yīng)爐燃燒YB/T5320金屬材料定量相分析X射線衍射K值法YS/T568.1氧化鋯、氧化鉿化學(xué)分析方法氧化鋯和氧化鉿合量的測定苦杏仁酸重量法YS/T568.2氧化鋯、氧化鉿化學(xué)分析方法鐵量的測定磺基水楊酸分光光度法YS/T568.3氧化鋯、氧化鉿化學(xué)分析方法硅量的測定硅鉬藍分光光度法YS/T568.4氧化鋯、氧化鉿化學(xué)分析方法鋁量的測定鉻天青S-氯化十四烷基吡啶分光光度法YS/T568.6氧化鋯、氧化鉿化學(xué)分析方法鈦量的測定二安替吡啉甲烷分光光度法YS/T568.8氧化鋯、氧化鉿化學(xué)分析方法氧化鋯中鋁、鈣、鎂、錳、鈉、鎳、鐵、鈦、鋅、鉬、4技術(shù)要求2化學(xué)成分/wt.%4.2外觀4.3晶體結(jié)構(gòu)4,4平均晶粒度4.5密度4.6密度均勻性4.7靶材尺寸靶材尺寸應(yīng)符合需方尺寸和形狀要求，直徑宜為φ（68.5±0.1）mm，長度不應(yīng)小于100mm。5.2質(zhì)量一致性檢驗5.2.1組批--3--5.2.3.1當靶材尺寸、外觀、密度與本文件不5.2.3.2其余項目檢驗結(jié)果與本文件不符時，允許對不合格項目取雙倍樣品復(fù)驗，仍不合格，應(yīng)判該Y2O3可按照YS/T568.8規(guī)定的方法供需雙方測試結(jié)果不一致時，應(yīng)采用供需雙方協(xié)商一致的具有國家相關(guān)檢測資質(zhì)的第三方檢測機5.3.2外觀靶材晶粒度測試應(yīng)按GB/T21649.1執(zhí)行，在放取至少3個不同視場，每個視場測量顆粒數(shù)量不少于10個，不規(guī)則顆粒取長軸尺寸作為顆粒尺寸，平均5.3.5密度靶材密度檢驗通過天平稱取靶材質(zhì)量，根據(jù)靶材尺

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