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文檔簡(jiǎn)介
專利權(quán)利要求書寫試題及答案姓名:____________________
一、多項(xiàng)選擇題(每題2分,共10題)
1.以下哪些內(nèi)容不得寫入專利權(quán)利要求書中?
A.技術(shù)效果
B.技術(shù)方案
C.實(shí)施例
D.技術(shù)背景
2.以下哪些屬于獨(dú)立權(quán)利要求?
A.對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行概括性的說明
B.對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明
C.對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行實(shí)施例說明
D.對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行改進(jìn)說明
3.在專利權(quán)利要求書中,以下哪種表述方式最為恰當(dāng)?
A.“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
B.“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
C.“通過”表示技術(shù)方案的實(shí)施方式
D.“所述”指代前文出現(xiàn)的實(shí)施例
4.以下哪些屬于從屬權(quán)利要求?
A.對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行限定
B.對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行補(bǔ)充
C.對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行改進(jìn)
D.對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行實(shí)施例說明
5.在專利權(quán)利要求書中,以下哪種表述方式可能導(dǎo)致權(quán)利要求保護(hù)范圍過窄?
A.使用“至少”限定技術(shù)特征
B.使用“優(yōu)選地”限定技術(shù)特征
C.使用“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
D.使用“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
6.以下哪些屬于權(quán)利要求書撰寫的基本原則?
A.清晰性原則
B.簡(jiǎn)潔性原則
C.一致性原則
D.實(shí)用性原則
7.在專利權(quán)利要求書中,以下哪種表述方式可能導(dǎo)致權(quán)利要求保護(hù)范圍過寬?
A.使用“至少”限定技術(shù)特征
B.使用“優(yōu)選地”限定技術(shù)特征
C.使用“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
D.使用“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
8.以下哪些屬于權(quán)利要求書撰寫中的“上位限定”?
A.使用“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
B.使用“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
C.使用“至少”限定技術(shù)特征
D.使用“優(yōu)選地”限定技術(shù)特征
9.在專利權(quán)利要求書中,以下哪種表述方式可能導(dǎo)致權(quán)利要求保護(hù)范圍過寬?
A.使用“至少”限定技術(shù)特征
B.使用“優(yōu)選地”限定技術(shù)特征
C.使用“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
D.使用“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
10.以下哪些屬于權(quán)利要求書撰寫中的“下位限定”?
A.使用“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
B.使用“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
C.使用“至少”限定技術(shù)特征
D.使用“優(yōu)選地”限定技術(shù)特征
二、判斷題(每題2分,共10題)
1.專利權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)使用技術(shù)術(shù)語進(jìn)行撰寫。()
2.專利權(quán)利要求書中的技術(shù)特征應(yīng)當(dāng)按重要性順序排列。()
3.專利權(quán)利要求書中的技術(shù)特征可以省略其具體數(shù)值范圍。()
4.專利權(quán)利要求書中的技術(shù)特征可以使用“等”來表示多個(gè)選項(xiàng)。()
5.專利權(quán)利要求書中的技術(shù)特征可以使用“所述”來指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征。()
6.專利權(quán)利要求書中的獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行概括性說明。()
7.專利權(quán)利要求書中的從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行限定。()
8.專利權(quán)利要求書中的技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)包括實(shí)施例。()
9.專利權(quán)利要求書中的技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)與現(xiàn)有技術(shù)有顯著區(qū)別。()
10.專利權(quán)利要求書中的技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)能夠?qū)崿F(xiàn)其技術(shù)效果。()
三、簡(jiǎn)答題(每題5分,共4題)
1.簡(jiǎn)述專利權(quán)利要求書撰寫的基本原則。
2.解釋什么是“上位限定”和“下位限定”。
3.簡(jiǎn)述專利權(quán)利要求書中的獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求的主要區(qū)別。
4.在撰寫專利權(quán)利要求書時(shí),如何避免權(quán)利要求保護(hù)范圍過寬或過窄?
四、論述題(每題10分,共2題)
1.論述專利權(quán)利要求書在專利申請(qǐng)中的重要性及其對(duì)專利保護(hù)范圍的影響。
2.結(jié)合實(shí)際案例,分析專利權(quán)利要求書撰寫中常見的問題及解決方法。
五、單項(xiàng)選擇題(每題2分,共10題)
1.以下哪項(xiàng)不屬于專利權(quán)利要求書的基本組成部分?
A.獨(dú)立權(quán)利要求
B.從屬權(quán)利要求
C.技術(shù)背景
D.實(shí)施例
2.專利權(quán)利要求書中的“所述”一詞通常用于:
A.指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
B.引用專利文獻(xiàn)
C.說明技術(shù)方案的實(shí)施方式
D.表達(dá)技術(shù)方案的效果
3.在以下哪種情況下,可以使用“至少”一詞?
A.技術(shù)方案包含多個(gè)技術(shù)特征
B.技術(shù)特征具有可選性
C.技術(shù)特征具有特定數(shù)值范圍
D.技術(shù)特征是必要的技術(shù)特征
4.以下哪種表述方式會(huì)導(dǎo)致權(quán)利要求保護(hù)范圍過窄?
A.使用“至少”限定技術(shù)特征
B.使用“優(yōu)選地”限定技術(shù)特征
C.使用“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
D.使用“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
5.專利權(quán)利要求書中的技術(shù)特征應(yīng)當(dāng):
A.按照重要性順序排列
B.嚴(yán)格按照技術(shù)術(shù)語撰寫
C.可以省略其具體數(shù)值范圍
D.必須與現(xiàn)有技術(shù)相同
6.以下哪種表述方式會(huì)導(dǎo)致權(quán)利要求保護(hù)范圍過寬?
A.使用“至少”限定技術(shù)特征
B.使用“優(yōu)選地”限定技術(shù)特征
C.使用“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
D.使用“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
7.專利權(quán)利要求書中的獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng):
A.對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行概括性說明
B.對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明
C.對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行實(shí)施例說明
D.對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行改進(jìn)說明
8.以下哪種表述方式屬于“上位限定”?
A.使用“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
B.使用“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
C.使用“至少”限定技術(shù)特征
D.使用“優(yōu)選地”限定技術(shù)特征
9.專利權(quán)利要求書中的從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng):
A.對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行限定
B.對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行補(bǔ)充
C.對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行改進(jìn)
D.對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行實(shí)施例說明
10.以下哪種表述方式屬于“下位限定”?
A.使用“包括”連接兩個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征
B.使用“所述”指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征
C.使用“至少”限定技術(shù)特征
D.使用“優(yōu)選地”限定技術(shù)特征
試卷答案如下:
一、多項(xiàng)選擇題(每題2分,共10題)
1.C
2.A
3.B
4.A
5.A
6.ABC
7.A
8.A
9.A
10.A
解析思路:
1.專利權(quán)利要求書應(yīng)明確、具體,不包括技術(shù)背景和實(shí)施例。
2.獨(dú)立權(quán)利要求是對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行概括性說明的要求。
3.使用技術(shù)術(shù)語確保權(quán)利要求書的準(zhǔn)確性和專業(yè)性。
4.從屬權(quán)利要求是對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的限定和補(bǔ)充。
5.“至少”用于限定技術(shù)特征的最小范圍。
6.清晰性、簡(jiǎn)潔性、一致性和實(shí)用性是撰寫權(quán)利要求書的基本原則。
7.“上位限定”通過概括性描述來限定技術(shù)特征。
8.“下位限定”通過具體化描述來限定技術(shù)特征。
9.獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)概括性說明,從屬權(quán)利要求應(yīng)限定和補(bǔ)充。
二、判斷題(每題2分,共10題)
1.錯(cuò)
2.錯(cuò)
3.對(duì)
4.對(duì)
5.對(duì)
6.對(duì)
7.對(duì)
8.錯(cuò)
9.對(duì)
10.對(duì)
解析思路:
1.專利權(quán)利要求書應(yīng)使用一般性語言,避免使用非技術(shù)術(shù)語。
2.技術(shù)特征應(yīng)按照重要性順序排列,以突出關(guān)鍵技術(shù)。
3.技術(shù)特征的具體數(shù)值范圍應(yīng)明確,避免模糊表述。
4.“等”用于表示相同或類似的技術(shù)特征,不能表示多個(gè)選項(xiàng)。
5.“所述”用于指代前文出現(xiàn)的技術(shù)特征,避免重復(fù)。
6.獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)概括技術(shù)方案,從屬權(quán)利要求應(yīng)限定和補(bǔ)充。
7.技術(shù)方案應(yīng)包括實(shí)施例,以證明其可實(shí)施性。
8.技術(shù)方案應(yīng)與現(xiàn)有技術(shù)有顯著區(qū)別,以具有新穎性。
9.技術(shù)方案應(yīng)能夠?qū)崿F(xiàn)其技術(shù)效果,以具有實(shí)用性。
三、簡(jiǎn)答題(每題5分,共4題)
1.專利權(quán)利要求書撰寫的基本原則包括:清晰性、簡(jiǎn)潔性、一致性、實(shí)用性、概括性、限定性等。
2.“上位限定”是指通過概括性描述來限定技術(shù)特征,如使用“包括”等詞語連接多個(gè)技術(shù)特征。
3.獨(dú)立權(quán)利要求是對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行概括性說明的要求,從屬權(quán)利要求是對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案進(jìn)行限定和補(bǔ)充。
4.避免權(quán)利要求保護(hù)范圍過寬或過窄的方法包括:精確使用技術(shù)術(shù)語、明確技術(shù)特征的限定條件、合理使用“至少”、“優(yōu)選地”等限定詞。
四、論述題(每題10分,共2題)
1.專利權(quán)利要求書在專利申請(qǐng)中的重要性在于:明確界定專利保護(hù)范圍、保障專利權(quán)人的權(quán)益、防
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