復(fù)旦半導(dǎo)體物理習(xí)題及答案2.ppt_第1頁
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文檔簡介

1、第三次作業(yè),1、計算能量在 到 之間單位體積中的量子態(tài)數(shù)。 解:導(dǎo)帶底附近狀態(tài)密度為: 由狀態(tài)密度定義: 所以單位體積量子態(tài)數(shù): 兩邊積分:,第三次作業(yè),第三次作業(yè),2、試證明實(shí)際硅、鍺中導(dǎo)帶附近狀態(tài)密度公式為 解:對于實(shí)際半導(dǎo)體硅、鍺,在它們的導(dǎo)帶附近,等能面是旋轉(zhuǎn)橢球面,選極值能量為 則: 橢球的解析表達(dá)式: 橢球體積:,第三次作業(yè),k空間中量子態(tài)數(shù)和能量的關(guān)系為: 狀態(tài)密度: 其中令,第三次作業(yè),3、i.在室溫下,鍺的有效態(tài)密度Nc=1.051019cm-3,Nv=5.71018cm-3,試求鍺的載流子有效質(zhì)量mn*和mp*。計算77K時的Nc和Nv。已知300K時,Eg=0.67eV。

2、77K時Eg=0.76eV。求這兩個溫度時鍺的本征載流子濃度。ii.77K時,鍺的電子濃度為1017cm-3,假定受主濃度為零,而EcED0.01eV,求鍺中施主濃度ND為多少? 解:i.根據(jù)Nc和Nv的定義: 室溫下,T300K T77K,,第三次作業(yè),由 300K時, 77K時, ii.77K處于低溫弱電離區(qū),此時: 由 電離施主濃度,第三次作業(yè),4、利用前一題所給的Nc和Nv數(shù)值及Eg=0.67eV,求溫度為300K和500K時,含施主濃度ND=51015cm-3 ,受主濃度NA=2109cm-3的鍺中電子及空穴濃度為多少? 解:300K時,處于強(qiáng)電離區(qū), 500K時,處于高溫本征激發(fā)區(qū)

3、, 雜質(zhì)補(bǔ)償情況下:,第三次作業(yè),5、摻有濃度為1.51023砷原子/m-3和51022銦原子/m-3的鍺材料,分別計算300K和600K時費(fèi)米能級的位置以及多子和少子的濃度(本征載流子濃度數(shù)值查P61圖3-7) 解:300K時,處于強(qiáng)電離區(qū),查圖得:,第三次作業(yè),600K時,處于高溫本征激發(fā)區(qū),查圖得: 雜質(zhì)補(bǔ)償情況下:,第三次作業(yè),6、試計算摻磷的硅、鍺在室溫下開始發(fā)生弱簡并時的雜質(zhì)濃度為多少? 解:由弱簡并條件: 當(dāng) ,發(fā)生弱簡并 又有, 對于鍺: 對于硅:,第四次作業(yè),1.計算本征Si在室溫時的電導(dǎo)率,設(shè)電子和空穴遷移率分別為1350cm2/V.s和500cm2/V.s。當(dāng)摻入百萬分之

4、一的As后,設(shè)雜質(zhì)全部電離,計算電導(dǎo)率。比本征Si電導(dǎo)率大了多少倍? 解:本征時,n0=q0=ni=1.5e16(m-3) 摻As后:ND5e22(cm-3)*1/1000000= 5e16(cm-3) 讀圖413,un=900cm2/V.s,第四次作業(yè),2.設(shè)電子遷移率為0.1m2/V.s,Si的電導(dǎo)有效質(zhì)量mc0.26m0,加以強(qiáng)度為1e4V/m的電場,求平均自由時間和平均自由程。 解:(1) (2),第四次作業(yè),3.分別計算摻有下列雜質(zhì)的Si,在室溫時的載流子濃度、遷移率和電阻率(單位:cm-3) (1)3e15硼;(2)1.3e16硼1.0e16磷; (3) 1.3e16磷1.0e16

5、硼;(4) 3e15磷1e17鎵1e17砷。 解 室溫下,近似認(rèn)為雜質(zhì)全部電離,: (1) (2) (3) (4),第四次作業(yè),如圖121,設(shè)樣品長8mm 寬2mm 厚0.2mm的Ge,在樣品長度兩端加1.0V的電壓,得到10mA沿x方的電流,再沿樣品垂直方向(z)加0.1T的磁場,則再樣品寬度兩端測得電壓Vac為10mV,設(shè)材料主要是一種載流子導(dǎo)電,求: (1)材料的導(dǎo)電類型;(2)霍耳系數(shù);(3)載流子濃度;(4)載流子遷移率 解:(1)Vac10mV0 所以是電子導(dǎo)電,為N型半導(dǎo)體。 (2) 霍耳系數(shù)為負(fù),同樣說明為N型半導(dǎo)體 (3) (4),第四次作業(yè),InSb電子遷移率為7.8m2/V.s,空穴遷移率為780m2/V.s,本征載流子濃度為1.6e16cm-3,求300K時, (1)本征材

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