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1、第二章 PN 結(jié),pn結(jié)是大多數(shù)半導(dǎo)體器件都會(huì)涉及到的結(jié)構(gòu)。因而半導(dǎo)體器 件的特性與工作過程同pn結(jié)的特性和原理密切相關(guān)。因而 pn結(jié)對(duì)于半導(dǎo)體器件的學(xué)習(xí)是特殊重要的。在pn結(jié)基本結(jié) 構(gòu)和原理的學(xué)習(xí)過程中,我們會(huì)遇到一些非?;竞椭匾?概念,是以后的學(xué)習(xí)過程中會(huì)不斷提到的,因而一定要理解 這些概念的物理涵義和基本性質(zhì)。 重點(diǎn)概念:空間電荷區(qū)、耗盡區(qū)、勢(shì)壘區(qū)、內(nèi)建電場(chǎng)、內(nèi)建電勢(shì)差、反偏、勢(shì)壘電容等等 分析pn結(jié)模型的基礎(chǔ):載流子濃度、費(fèi)米能級(jí)、電中性條件、載流子的漂移與擴(kuò)散、雙極輸運(yùn)方程,2.1 pn結(jié)的基本結(jié)構(gòu),若在同一半導(dǎo)體內(nèi)部,一邊是P 型,一邊是N 型,則會(huì) 在P 型區(qū)和N 型區(qū)的交界

2、面附近形成pn 結(jié),它的行為 并不簡(jiǎn)單等價(jià)于一塊P型半導(dǎo)體和N 型半導(dǎo)體的串聯(lián)。 這種結(jié)構(gòu)具有特殊的性質(zhì):?jiǎn)蜗驅(qū)щ娦浴?PN 結(jié)是許多重要半導(dǎo)體器件的核心,零偏(熱平衡)pn結(jié) p型半導(dǎo)體與n型半導(dǎo)體的能帶圖 pn結(jié)的能帶圖 內(nèi)建電勢(shì)差,Ec,Ev,EFi,EF,Ec,Ev,EFi,EF,耗盡近似:認(rèn)為在勢(shì)壘區(qū)中全部自由載流子都被耗盡。,電場(chǎng)強(qiáng)度,p,n,E,-xp,xn,eNd,eNa,內(nèi)建電場(chǎng)由空間電荷區(qū)的電荷所產(chǎn)生,電場(chǎng)強(qiáng)度的大小和電荷密度的關(guān)系由泊松方程確定:,其中為電勢(shì),E為電場(chǎng)強(qiáng)度,為電荷密度,s為介電常數(shù)。從圖可知,電荷密度(x)為:,耗盡區(qū)假設(shè),耗盡近似:認(rèn)為在勢(shì)壘區(qū)中 全部自

3、由載流子都被耗盡。,則p側(cè)空間電荷區(qū)內(nèi)電場(chǎng)可以積分求得:,邊界條件:x=-xp時(shí),E=0,相應(yīng),n側(cè)空空間電荷區(qū)電場(chǎng):,邊界條件:x=xn時(shí),E=0,p側(cè)電場(chǎng)和n側(cè)電場(chǎng)在界面處(x=0)連續(xù),即:,-xp,xn,eNd,eNa,-xp,xn,x=0,E,因而兩側(cè)空間電荷區(qū)的寬度xp和xn有關(guān)系:,空間電荷區(qū)整體保持電中性,空間電荷區(qū)主要向低摻雜一側(cè)延伸,根據(jù)電場(chǎng)強(qiáng)度和電勢(shì)的關(guān)系,將p區(qū)內(nèi)電場(chǎng)積分可得電勢(shì):,確定具體的電勢(shì)值需要選擇參考點(diǎn),假設(shè)x=xp處的電勢(shì)為0,則可確定積分常數(shù)值C1和p區(qū)內(nèi)的電勢(shì)值為:,同樣的,對(duì)n區(qū)內(nèi)的電勢(shì)表達(dá)式積分,可求出:,當(dāng)x=0時(shí),電勢(shì)值連續(xù),因而利用p區(qū)電勢(shì)公式

4、可求出:,pp0,np0,nn0,pn0,-xp,xn,x=0,E,p,n,=0,=Vbi,電勢(shì)和距離是二次函數(shù)關(guān)系,即拋物線關(guān)系,空間電荷區(qū)內(nèi)的載流子濃度變化,顯然,x=xn時(shí),=Vbi,因而可以求出:,空間電荷區(qū)寬度,p,n,xp+xn,由整體的電中性條件要求,我們已經(jīng)知道:,將該式代入用電勢(shì)公式求出的Vbi式,可得到:,空間電荷區(qū)寬度與摻雜濃度有關(guān),熱平衡狀態(tài)下pn結(jié)處存在著空間電荷區(qū)和接觸電勢(shì)差 內(nèi)建電場(chǎng)從n區(qū)空間電荷區(qū)邊界指向p區(qū)空間電荷區(qū),內(nèi)建電場(chǎng)在p、n交界處最強(qiáng) 因?yàn)槭菬崞胶鉅顟B(tài),p區(qū)、n區(qū)及空間電荷區(qū)內(nèi)具有統(tǒng)一的費(fèi)米能級(jí) 空間電荷區(qū)內(nèi)的漂移電流和擴(kuò)散電流向平衡,無(wú)宏觀電流。

5、p、n兩側(cè)的空間電荷總數(shù)量相等,對(duì)外部保持整體的電中性 空間電荷區(qū)內(nèi)無(wú)(幾乎)自由載流子、因而又稱為耗盡區(qū); 空間電荷區(qū)內(nèi)形成內(nèi)建電場(chǎng),表現(xiàn)為電子的勢(shì)壘,因而又稱為勢(shì)壘區(qū) 空間電荷區(qū)的寬度與摻雜濃度密切相關(guān),這一關(guān)系給出了內(nèi)建電勢(shì)差在p、n兩側(cè)的分配關(guān)系。這也解釋了為什么對(duì)于單邊突變結(jié)(p+n或pn+)來(lái)說,電壓主要降落在輕摻雜一側(cè)。外加電壓同樣會(huì)分配在pn結(jié)兩側(cè),其分配比例不變。,因?yàn)樵谕瑯拥暮谋M假設(shè)下,求解泊松方程的過程是完全相同的,只是將整個(gè)電場(chǎng)積分后的電勢(shì)差Vbi代換為Vbi-Vapp,零偏狀態(tài)下 內(nèi)建電勢(shì)差形成的勢(shì)壘維持著p區(qū)和n區(qū)內(nèi)載流子的平衡 內(nèi)建電場(chǎng)造成的漂移電流和擴(kuò)散電流相平

6、衡,pn結(jié)的單向?qū)щ娦?pn 結(jié)兩端加正向偏壓V后, V基本上全降落在耗盡區(qū)的勢(shì)壘上;由于耗盡區(qū)中載流子濃度很小,與中性P區(qū)和N區(qū)的體電阻相比耗盡區(qū)電阻很大。 勢(shì)壘高度由平衡時(shí)的eVbi降低到了e(Vbi-V) ;正向偏置電壓V在勢(shì)壘區(qū)中產(chǎn)生的電場(chǎng)與自建電場(chǎng)方向相反,勢(shì)壘區(qū)中的電場(chǎng)強(qiáng)度減弱,并相應(yīng)的使空間電荷數(shù)量減少,勢(shì)壘區(qū)寬度變窄。,產(chǎn)生了凈擴(kuò)散流; 電子:N區(qū) P區(qū)空穴:P區(qū) N區(qū) 熱平衡時(shí)載流子漂移流與擴(kuò)散流相互抵消的平衡被打破:勢(shì)壘高度降低,勢(shì)壘區(qū)中電場(chǎng)減弱,相應(yīng)漂移運(yùn)動(dòng)減弱,因而使得漂移運(yùn)動(dòng)小于擴(kuò)散運(yùn)動(dòng),產(chǎn)生了凈擴(kuò)散流。,在空間電荷區(qū)的兩側(cè)產(chǎn)生了過剩載流子; 通過勢(shì)壘區(qū)進(jìn)入P區(qū)的電子

7、和進(jìn)入N區(qū)的空穴分別在界面(-xp和xn)處積累,從而產(chǎn)生了過剩載流子。這稱為正向注入,由于注入的載流子對(duì)它進(jìn)入的區(qū)域來(lái)說都是少子,所以又稱為少子注入。對(duì)于注入的少子濃度遠(yuǎn)小于進(jìn)入?yún)^(qū)多子濃度的情況稱為小注入。 邊界上注入的過剩載流子,不斷向體內(nèi)擴(kuò)散,經(jīng)過大約幾個(gè)擴(kuò)散長(zhǎng)度后,又恢復(fù)到了平衡值。,外加偏壓時(shí)勢(shì)壘區(qū)附近的載流子分布 準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí) 用準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)代替費(fèi)米能級(jí)的位置,給出的是對(duì)應(yīng)的載流子在非平衡態(tài)條件下的密度 導(dǎo)帶電子準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)EFN和價(jià)帶空穴準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)EFP 類似于平衡態(tài)非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度公式: 非平衡態(tài)下的載流子濃度可寫為:,(2.1),(2.2),變換上兩式,(2.3),(2.4

8、),(2.5),(2.6),小注入:由于注入的載流子對(duì)它進(jìn)入的區(qū)域來(lái)說都是少子,所以又稱為少子注入。對(duì)于注入的少子濃度遠(yuǎn)小于進(jìn)入?yún)^(qū)多子濃度的情況稱為小注入。,pn結(jié)的零偏、正偏和反偏,考慮小注入情況在視類區(qū)域內(nèi)空穴密度近似等于熱平 衡時(shí)的空穴密度,其費(fèi)米能級(jí)近似為熱平衡狀態(tài)時(shí)的空穴費(fèi)米能級(jí),正向偏壓下,反向偏壓下,在x=xn處的邊界處的空穴密度為:,在x=-xp處的邊界處的電子密度為:,加正向電壓、反向電壓時(shí)的載流子密度和電流密度分布,由此,我們可以得出PN結(jié)處于正偏和反偏條件時(shí),耗盡區(qū)邊界處的少數(shù)載流子分布,正偏,反偏,正偏電流圖像 當(dāng)電流由P區(qū)歐姆接觸進(jìn)入時(shí),幾乎全部為空穴的漂移電流;空穴

9、在外電場(chǎng)作用下向電源負(fù)極漂移; 由于少子濃度遠(yuǎn)小于多子濃度可以認(rèn)為這個(gè)電流完全由多子空穴攜帶。 空穴沿x方向進(jìn)入電子擴(kuò)散區(qū)以后,一部分與N區(qū)注入進(jìn)來(lái)的電子不斷地復(fù)合,其攜帶的電流轉(zhuǎn)化為電子擴(kuò)散電流;,另一部分未被復(fù)合的空穴繼沿x方向漂移,到達(dá)-xp的空穴電流,通過勢(shì)壘區(qū); 若忽略勢(shì)壘區(qū)中的載流子產(chǎn)生-復(fù)合,則可看成它全部到達(dá)了xn處,然后以擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)繼續(xù)向前,在N區(qū)中的空穴擴(kuò)散區(qū)內(nèi)形成空穴擴(kuò)散流;,在擴(kuò)散過程中,空穴還與N區(qū)漂移過來(lái)的電子不斷地復(fù)合,使空穴擴(kuò)散電流不斷地轉(zhuǎn)化為電子漂移電流; 直到空穴擴(kuò)散區(qū)以外,空穴擴(kuò)散電流全部轉(zhuǎn)化為電子漂移電流。忽略了少子漂移電流后,電子電流便構(gòu)成了流出N區(qū)歐姆

10、接觸的正向電流。,空穴電流與電子電流之間的相互轉(zhuǎn)化,都是通過在擴(kuò)散區(qū)內(nèi)的復(fù)合實(shí)現(xiàn)的,因而正向電流實(shí)質(zhì)上是一個(gè)復(fù)合電流。,反偏電流圖像 pn在反向偏置下, P區(qū)的多子空穴受外電場(chǎng)的作用向P區(qū)的歐姆接觸負(fù)電極漂移,同時(shí)增強(qiáng)的空間電荷區(qū)電場(chǎng)也不斷地把N區(qū)的少子空穴拉過來(lái); N區(qū)的電子受外電場(chǎng)作用向N區(qū)的歐姆接觸正電極漂移,同時(shí)空間電荷區(qū)自建電場(chǎng)亦不斷地把P區(qū)的少子電子拉過來(lái); N區(qū)邊界xn處的空穴被勢(shì)壘區(qū)的強(qiáng)電場(chǎng)驅(qū)向P區(qū),而P區(qū)邊界-xp處的電子被驅(qū)向N區(qū),當(dāng)這些少數(shù)載流子被電場(chǎng)驅(qū)走后,內(nèi)部的少子就來(lái)補(bǔ)充,形成反偏下的空穴擴(kuò)散電流和電子擴(kuò)散電流。這種情況好象少數(shù)載流子不斷地被抽向?qū)Ψ?,所以稱為少數(shù)載

11、流子的抽取。,勢(shì)壘高度和載流子濃度的對(duì)應(yīng)關(guān)系偏壓對(duì)空間電荷區(qū)邊界處注入的非平衡載流子濃度的調(diào)制理想pn結(jié)電流-電壓關(guān)系 正偏狀態(tài)的pn結(jié),正偏電流的大小隨正偏電壓的增加而指數(shù)增加。反偏時(shí)趨于飽和 當(dāng)產(chǎn)生非平衡載流子的外部作用撤除以后,非平衡載 流子也就逐漸消失,半導(dǎo)體最終恢復(fù)到平衡態(tài)。 半導(dǎo)體由非平衡態(tài)恢復(fù)到平衡態(tài)的過程,也就是非平衡載流子逐步消失的過程,稱為非平衡載流子的復(fù)合。,PN結(jié)電容,小節(jié) 勢(shì)壘高度和載流子濃度的對(duì)應(yīng)關(guān)系偏壓對(duì)空間電荷區(qū)邊 界處注入的非平衡載流子濃度的調(diào)制理想pn結(jié)電流-電壓 關(guān)系 正偏狀態(tài)的pn結(jié),正偏電流的大小隨正偏電壓的增加而指 數(shù)增加。反偏時(shí)趨于飽和 隨著溫度的

12、升高,反偏飽和電流增大,相同正向電流下的 偏壓降低 利用溫度特性可以制成對(duì)溫度敏感的二極管,作為溫度探 測(cè)器件。但同時(shí)二極管的溫度特性要求二極管要正確應(yīng) 用,避免形成溫度正反饋導(dǎo)致燒毀 當(dāng)pn結(jié)二極管的中性區(qū)長(zhǎng)度遠(yuǎn)小于擴(kuò)散長(zhǎng)度時(shí)為短二極 管,擴(kuò)散區(qū)縮短,擴(kuò)散區(qū)內(nèi)的復(fù)合作用可以忽略。雙極晶 體管中的EB結(jié)通常就是一個(gè)短pn結(jié),再利用上述兩個(gè)邊界條件,可得穩(wěn)態(tài)輸運(yùn)方程最終的解為:,對(duì)于WnLp的條件,我們還可以對(duì)上式做進(jìn)一步的簡(jiǎn)化,因?yàn)榇藭r(shí)有:,再利用上述兩個(gè)邊界條件,可得穩(wěn)態(tài)輸運(yùn)方程最終的解為:,單邊突變結(jié):一側(cè)高摻雜,而另一側(cè)低摻雜的突變結(jié),p+n或pn+,單邊突變結(jié)空間電荷區(qū)主要向輕摻雜一側(cè)擴(kuò)展,單邊突變結(jié)的勢(shì)壘主要降落在輕摻雜一側(cè),注入到p(n)型區(qū)中的電子(空穴)會(huì)進(jìn)一步擴(kuò)散和復(fù)合,因此公式給出的實(shí)際上是耗盡區(qū)邊界處的非平衡少數(shù)載流子濃度。 上述邊界條件雖然是根據(jù)pn結(jié)正偏條件導(dǎo)出的,但是對(duì)于反偏情況也是適用的。因而當(dāng)反偏電壓足夠高時(shí),從上述兩式可見,耗盡區(qū)邊界處的少數(shù)載流子濃度基本為零。,pn在反向偏置下, P區(qū)的多子空穴受外電場(chǎng)的作用向P區(qū)的歐姆接觸負(fù)電極漂移,同時(shí)增

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