電鍍行業(yè)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)匯編(doc 162頁(yè)).doc

電鍍方面國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)匯編名稱標(biāo)準(zhǔn)編號(hào)摘要金屬鍍覆和化學(xué)處理與有關(guān)過(guò)程術(shù)語(yǔ) GB/T 3138-1995 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電鍍、化學(xué)鍍、化學(xué)處理、電化學(xué)處理和與其有關(guān)過(guò)程的術(shù)語(yǔ)的定義。適用于電鍍、化學(xué)鍍、化學(xué)處理、電化學(xué)處理與有關(guān)過(guò)程所用術(shù)語(yǔ)?；瘜W(xué)腐蝕 chemical corrosion 金屬和非金屬在電解質(zhì)溶液、干燥氣體和高溫下發(fā)生化學(xué)作用而引起的腐蝕。雙電層 electric double electrode 帶電質(zhì)點(diǎn)在兩相不均勻分布或外電源向界面充電導(dǎo)致剩余電荷集中在界面兩側(cè)而形成的雙電層。雙極性電層 bipolar electrode 不與外電源連接而置于陰極和陽(yáng)極之間電解液中的導(dǎo)體，其面對(duì)著陽(yáng)極的一側(cè)起著陰極的作用，對(duì)著陰極的另一側(cè)起著陽(yáng)極作用的一種電極。分散能力 throwing power 在特定條件下，鍍液使電極（通常是陰極）上鍍層分布比初次電流分布更為均勻的能力。對(duì)于陽(yáng)極沉積過(guò)程，其定義類(lèi)似。分解電勢(shì) decomposition potential 能使電化學(xué)反應(yīng)以明顯速率持續(xù)進(jìn)行的最小電勢(shì)（不包括溶液的歐姆電壓降）。不溶性陽(yáng)極（惰性陽(yáng)極） inert anode 電流通過(guò)時(shí)不發(fā)生陽(yáng)極溶解反應(yīng)的陽(yáng)極。電化學(xué) electrochemistry 研究化學(xué)能與電能相互轉(zhuǎn)變及與此過(guò)程 有關(guān)的現(xiàn)象的科學(xué)。電化學(xué)極化（活化極化） activechemical corrosion 金屬在電解質(zhì)溶液中或金屬表面覆蓋液膜時(shí)，由于電化學(xué)反應(yīng)使金屬氧化的過(guò)程。電化當(dāng)量 electrochemical equivalent 電極上通過(guò)單位電量（例如1Ah,或1C）時(shí)，具有100%電流效率的電極反應(yīng)所產(chǎn)生或消耗的物質(zhì)的質(zhì)量稱為有關(guān)物質(zhì)的電化學(xué)當(dāng)量，通常以g/C或g/Ah表示。電導(dǎo)率（比電導(dǎo)） conductivity 單位截面積和單位長(zhǎng)度的導(dǎo)體之電導(dǎo)，通常以S/m表示。電泳 electrophoresis 液體介質(zhì)中帶電的膠體微粒在外電場(chǎng)的作用下相對(duì)液體的遷移現(xiàn)象。電動(dòng)勢(shì) electromotive force 原電池開(kāi)路時(shí)兩極間的電勢(shì)差。鈍化電勢(shì) passivation potential 金屬電極陽(yáng)極極化時(shí)，金屬陽(yáng)極溶解速率突然下降的電勢(shì)。通常腐蝕電流在達(dá)到鈍化電勢(shì)前經(jīng)歷一極大值。腐蝕電勢(shì) corrosion potential 金屬材料在特定的腐蝕環(huán)境中自發(fā)建立的穩(wěn)定電極電勢(shì)。電流密度 current density 單位面積電極上通過(guò)的電流強(qiáng)度，通常以A/dm2表示。電流效率 current efficiency 電極上通過(guò)單位電量時(shí)，電極反應(yīng)生成物的實(shí)際質(zhì)量與電化當(dāng)量之比，通常以%表示。腐蝕速率，腐蝕電流 corrosion rate, corrosion current 腐蝕速率是材料特定表面上單位時(shí)間物質(zhì)轉(zhuǎn)變的量?；虬捶ɡ诙桑g速率是腐蝕電勢(shì)下的電流。電極 electrode 置于導(dǎo)電介質(zhì)（如電解液、熔融物、固體、或氣體）中的導(dǎo)體。電流通過(guò)它流入或流出導(dǎo)電介質(zhì)。電極電勢(shì) electrode potential 在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下，某電極與標(biāo)準(zhǔn)氫電極（作為負(fù)極）組成原電池，所測(cè)得的電動(dòng)勢(shì)稱為該電極的氫標(biāo)準(zhǔn)電極電勢(shì)，或簡(jiǎn)稱電極電勢(shì)。各種電極的氫標(biāo)準(zhǔn)電極電勢(shì)可以表示出電極與溶液界面間電勢(shì)差的相對(duì)大小。電解質(zhì) electrolyte 本身具有離子導(dǎo)電性或在一定條件下（例如高溫熔融或溶于溶劑形成溶液）能夠呈現(xiàn)離子導(dǎo)電 性的物質(zhì)。電解液 electrolytic solution 具有離子導(dǎo)電性的溶液。電離度 degree of ionization 溶液中的電解質(zhì)以自由離子存在的摩爾數(shù)與其總摩爾數(shù)之比，通常以%表示。去極化 depolarization 在電解質(zhì)溶液或電極中加入某種去極劑而使電極極化降低的現(xiàn)象。平衡電極電勢(shì) equilibrium electrode potential 電極反應(yīng)處于熱力學(xué)平衡狀態(tài)的電極電勢(shì)。正極 positive electrode 在原電池的兩個(gè)電極中電勢(shì)較正的電極。負(fù)極 negative electrode 在原電池的兩個(gè)電極中電勢(shì)較負(fù)的電極。陰極 cathode 發(fā)生還原反應(yīng)的電極，即反應(yīng)物于其上獲得電子的電極。陰極極化 cathodic polarization 當(dāng)有電流通過(guò)時(shí)，陰極的電極電勢(shì)向負(fù)的方向偏移的現(xiàn)象。陰極性鍍層 cathodic coating 比基體金屬的電極電勢(shì)更正的金屬鍍層。陽(yáng)極 aonde 發(fā)生氧化反應(yīng)的電極，即能接受反應(yīng)物所給出電子的電極。陽(yáng)極泥 anode slime 在電流作用下，陽(yáng)極溶解過(guò)程中產(chǎn)生的不溶性殘?jiān)?。?yáng)極極化 anodic polarization 當(dāng)有電流通過(guò)時(shí)，陽(yáng)極的電極電勢(shì)向正的方向偏移的現(xiàn)象。陽(yáng)極性鍍層 anodic coating 比基體金屬的電極電勢(shì)更負(fù)的金屬鍍層。遷移數(shù) transport number 電流通過(guò)電解質(zhì)溶液時(shí)，溶液中某種離子攜帶的電流與通過(guò)的總電流之比稱為該離子的遷移數(shù)。超電勢(shì) overpotential 電極上有電流通過(guò)時(shí)的電極電勢(shì)與熱力學(xué)平衡電極電勢(shì)的差值。擴(kuò)散層 diffusion layer 電流通過(guò)時(shí)在電極表面附近存在著濃度梯度的溶液薄層。雜散電流 stray current 在需要通過(guò)電流的線路以外的其他回路（例如鍍槽槽體或加熱器等）中流過(guò)的電流。導(dǎo)電鹽 conducting salt 添加到電解液中能夠提高溶液電導(dǎo)率的鹽類(lèi)物質(zhì)。體積電流密度 volume current density 單位體積電解質(zhì)溶液中通過(guò)的電流密度。通常以A/L表示。沉積速率 deposition rate 單位時(shí)間內(nèi)鍍件表面沉積出金屬的百度。通常以u(píng)m/h表示。初次電流分布 primary current distribution 不存在電極極化時(shí)，電流在電極表面上的分布。局部腐蝕 local corrosion 腐蝕破壞主要集中在表面局部區(qū)域，而其他部分幾乎未遭受腐蝕的一種現(xiàn)象。極化 polarization 電極上有電流通過(guò)時(shí)，電極電勢(shì)偏離其平衡值的現(xiàn)象。極化度 polarizability 電極電勢(shì)隨電流密度的變化率，它相當(dāng)于改變單位電流密度所引起的電勢(shì)的變化。極化曲線 polarization curve 描述電極電勢(shì)與通過(guò)電極的電流密度之間的關(guān)系的曲線。極間距 interelectrode distance 原電池或電解槽中兩電極（正、負(fù)極或陰、陽(yáng)極）之間的距離。乳化 emulsification 一種液體以極微小液滴均勻地分散在互不相溶液的另一種液體的現(xiàn)象。應(yīng)力腐蝕 stress corrosion 金屬材料在應(yīng)力和腐蝕環(huán)境共同作用下而發(fā)生的開(kāi)裂現(xiàn)象。析氣 gassing 在電解過(guò)程中電極上有明顯可見(jiàn)的氣體析出現(xiàn)象。活化 activation 用調(diào)整有效離子濃度，達(dá)到理想行為以消除電極表面的鈍化狀態(tài)。活度 activity 在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下，溶液中組分的熱力學(xué)濃度，即校正真實(shí)溶液與理想溶液性質(zhì)的偏差而使用的有效濃度。標(biāo)準(zhǔn)電極電勢(shì) standard electrode potential 在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下，電極反應(yīng)中所有反應(yīng)物與產(chǎn)物的活度（或逸度）均等于1的平衡電勢(shì)。濃差極化 concentration polarization 電極有電流通過(guò)時(shí)，由電極表面附近的反應(yīng)物或產(chǎn)物濃度變化引起的極化。鈍化 passivation 在一定溶液中使金屬陽(yáng)極極化超過(guò)一定數(shù)值后，金屬溶解速率不但不增大，反而劇烈減小，這種使金屬表面由活化態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)殁g態(tài)的過(guò)程稱為鈍化。由陽(yáng)極極化引起的鈍化為電化學(xué)鈍化，而由溶液中某些鈍化劑的作用引起的鈍化則稱為化學(xué)鈍化。點(diǎn)腐蝕 spot corrosion 在金屬表面出現(xiàn)的點(diǎn)狀腐蝕。配位化合物 complex compound 金屬離子或原子與一定數(shù)目的帶負(fù)電的基團(tuán)或電中性的極性分子形成具有配位鍵的化合物。復(fù)鹽 double salt 兩種鹽以一定比例共同結(jié)晶而成的化合物。它實(shí)質(zhì)上是以晶體形式存在的配位化合物。氫脆 hydrogen embrittlement 金屬或合金吸收氫原子和有應(yīng)力存在下而引起的脆性。滲氫 seepage hydrogen 金屬制件在浸蝕、除油或電鍍等過(guò)程中常有吸附氫原子的這種現(xiàn)象。界面張力 interfacial tension 兩相界面間存在的使界面收縮的作用力稱為界面張力。若其中一相為氣體則稱為表面張力。臨界電流密度 critical current density 在電鍍所需電極電勢(shì)的范圍內(nèi)能夠維持反應(yīng)進(jìn)行的最高或最低電流密度。高于最高電流密度時(shí)，電勢(shì)移動(dòng)超出所需范圍，將有新的副反應(yīng)發(fā)生。低于最低電流密度時(shí)，電極反應(yīng)速率降低而達(dá)不到生產(chǎn)上的要求. 半電池 half-cell 單一電極與電解質(zhì)溶液所構(gòu)成的體系。原電池 galvanic cell 將化學(xué)能直接轉(zhuǎn)變?yōu)殡娔艿难b置。一個(gè)原電池可以看作是由兩個(gè)半電池組成的。鹽橋 salt bridge 連接兩個(gè)半電池用于減小液接電勢(shì)的裝置，通常為盛有濃度較高的電解質(zhì)溶液（例如飽和的KCl溶液）的玻璃管. pH值 pH value 氫離子活度的常用對(duì)數(shù)的負(fù)值?；w材料 basis material(substrate) 能在其上沉積金屬或形成膜層的材料。輔助陽(yáng)極 auxiliary anode 為了改善被鍍制件表面上的電流分布而使用的附加陽(yáng)極。輔助陰極 auxiliary cathode 制件上某些電流過(guò)于集中的部位附加某種形狀的陰極，以避免毛刺和燒焦等缺陷，這種附加的陰極就是輔助陰極。接觸電勢(shì) contact potential 兩種不同的導(dǎo)電材料接觸時(shí)，在界面上所產(chǎn)生的電勢(shì)差。晶間腐蝕 intercrystalline corrosion 沿著晶粒邊界所發(fā)生的選擇性腐蝕。溶度積 solubility product 在一定溫度下難溶電解質(zhì)飽滿和溶液中相應(yīng)的離子之濃度的乘積，其中各離子濃度的冪次與它在該電解質(zhì)電離方程式中的系數(shù)相同。溶解度 solubility 在一定的溫度和壓力下，在100g溶劑中所能溶解溶質(zhì)最大的克數(shù)。微觀覆蓋能力 microcovering power 在一定的條件下電鍍液中金屬離子在孔隙或劃痕中電沉積的能力。槽電壓 tank voltage 電解時(shí)單元電解槽兩極間總電勢(shì)差。靜態(tài)電極電勢(shì) static electrode potential 無(wú)外電流通過(guò)時(shí)，金屬電極在電解液中的電極電勢(shì)。螯合物 chelate compound 中心離子與配位體多位配合形成的具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的配位化合物。整平作用 leveling action 鍍液使鍍層表面比基體表面更平滑的能力。覆蓋能力 covering power 在特定的電鍍條件下，鍍液沉積金屬覆蓋鍍件整個(gè)表面的能力。主要表面 signiflcant surface 制件上電鍍前后的規(guī)定表面，該表面上的鍍層對(duì)于制件的外觀和（或）使用性能是極為重要的。沖擊電流 striking current 電鍍過(guò)程中通過(guò)的瞬時(shí)大電流?；瘜W(xué)氣相沉積 chemecal vapor deposition 用熱誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)或蒸氣氣相還原于基體凝聚產(chǎn)生沉積層的過(guò)程 。物理氣相沉積 physical vapor deposition 通常在高真空中用蒸發(fā)和隨后凝聚單質(zhì)化合物的方法沉積覆蓋層的過(guò)程。化學(xué)鈍化 chemical passivation 用含有氧化劑的溶液處理金屬制件，使其表面形成很薄的鈍態(tài)保護(hù)膜的過(guò)程?；瘜W(xué)氧化 chemical oxidation 通過(guò)化學(xué)處理使金屬表面形成氧化膜的過(guò)程。陽(yáng)極氧化 anodizing 金屬制件作為陽(yáng)極在一定的電解液中進(jìn)行電解，使其表面形成一層具有某種功能（如防護(hù)性，裝飾性或其它功能）的氧化膜的過(guò)程。化學(xué)鍍（自催化鍍） autocalytic plating 在經(jīng)活化處理的基體表面上，鍍液中金屬離子被催化還原形成金屬鍍層的過(guò)程。激光電鍍 laser electroplating 在激光作用下的電鍍。閃鍍 flash(flash plate) 通電時(shí)間極短產(chǎn)生薄層的電鍍。電鍍 electroplating 利用電解在制件表面形成均勻、致密、結(jié)合良好的金屬或合金沉積層的過(guò)程。機(jī)械鍍 mechanical plating 在細(xì)金屬粉和合適的化學(xué)試劑存在下，用堅(jiān)硬的小圓球撞擊金屬表面，以使細(xì)金屬粉覆蓋該表面。浸鍍 immersion plate 由一種金屬?gòu)娜芤褐兄脫Q另一種金屬的置換反應(yīng)產(chǎn)生的金屬沉積物。電鑄 electroforming 通過(guò)電解使金屬沉積在鑄模上制造或復(fù)制金屬制品（能將鑄模和金屬沉積物分開(kāi)）的過(guò)程。疊加電流電鍍 supermposed current electroplating 在直流電流上疊加脈沖電流或交流電流的電鍍。光亮電鍍 bright plating 在適當(dāng)?shù)臈l件下，從鍍槽中直接得到具有光澤鍍層的電鍍。合金電鍍 alloy plating 在電流作用下，使兩種或兩種以上金屬（也包括非金屬元素）共沉積的過(guò)程。多層電鍍 multilayer plating 在同一基體上先后沉積上幾層性質(zhì)或材料不同金屬層的電鍍。沖擊鍍 strik plating 在特定的溶液中以高的電流密度，短時(shí)間電沉積出金屬薄層，以改善隨后沉積鍍層與基體間結(jié)合力的方法。金屬電沉積 metal electrodeposition 借助于電解使用權(quán)溶液中金屬離子在電極上還原并形成金屬相的過(guò)程。包括電鍍、電鑄、電解精煉等。刷鍍 brush plating 用一個(gè)同陽(yáng)極連接并能提供電鍍需要的電解液的電極或刷，在作為陰極的制件上移動(dòng)進(jìn)行選擇電鍍的方法。周期轉(zhuǎn)向電鍍 periodic reverse plating 電流方向周期性變化的電鍍。轉(zhuǎn)化膜 conversion coating 金屬經(jīng)化學(xué)或電化學(xué)處理所形成的含有該金屬化合物的表面膜層，例如鋅或鎘上的鉻酸鹽膜或鋼上的氧化膜。掛鍍 rack plaitng 利用掛具吊掛制件進(jìn)行的電鍍。復(fù)合電鍍（彌散電鍍） composite plating 用電化學(xué)法或化學(xué)法使用權(quán)金屬離子與均勻懸浮在溶液中的不溶液性非金屬或其他金屬微粒同時(shí)沉積而獲得復(fù)合鍍層的過(guò)程。脈沖電鍍 pulse plating 用脈沖電源代替直流電源的電鍍。鋼鐵發(fā)藍(lán)(鋼鐵化學(xué)氧化） blueing(chemical oxide) 將鋼鐵制件在空氣中加熱或浸入氧化 性溶液中，使其表面形成通常為藍(lán)（黑）色的氧化膜的過(guò)程。高速電鍍 high speed electrodeposition 為獲得高的沉積速率，采用特殊的措施，在極高的陰極電流密度下進(jìn)行電鍍的過(guò)程。滾鍍 barrel plating 制件在回轉(zhuǎn)容器中進(jìn)行電鍍。適用于小型零件。塑料電鍍 plating on plastics 在塑料制件上電沉積金屬鍍層的過(guò)程。磷化 phosphating 在鋼鐵制件表面上形成一層難溶的磷酸鹽保護(hù)膜的處理過(guò)程。鍍前處理 preplating 為使制件材質(zhì)暴露出真實(shí)表面和消除內(nèi)應(yīng)力及其他特殊目的所需除去油污、氧化物及內(nèi)應(yīng)力等種種前置技術(shù)處理。鍍后處理 postplating 為使鍍件增強(qiáng)防護(hù)性能、裝飾性及其他特殊目的而進(jìn)行的（如鈍化、熱熔、封閉和除氫等等）電鍍后置技術(shù)處理?；瘜W(xué)拋光 chemical polishing 金屬制件在一定的溶液中進(jìn)行陽(yáng)極極化處理以獲得平整而光亮的過(guò)程?；瘜W(xué)除油 alkaline degreasing 借皂化和乳化作用在堿性溶液中清除制件表面油污的過(guò)程。電拋光 electropolishing 金屬制件在合適的溶液中進(jìn)行陽(yáng)極極化處理以使表面平滑、光亮的過(guò)程。電解浸蝕 electrolytic pickling 金屬制件作為陽(yáng)極或陰極在電解質(zhì)溶液中進(jìn)行電解以清除制件表面氧化物和銹蝕物的過(guò)程。浸亮 bright dipping 金屬制件在溶液中短時(shí)間浸泡形成光亮表面和過(guò)程。機(jī)械拋光 mechanical polishing 借助高速旋轉(zhuǎn)的抹有拋光膏的拋光輪以提高金屬制件表面平整和光亮程度的機(jī)械加工過(guò)程。有機(jī)溶劑除油 solvent degreasing 利用有機(jī)溶劑清除制件表面油污的過(guò)程。光亮浸蝕 bright pickling 用化學(xué)或電化學(xué)方法除去金屬制件表面的氧化物或其他化合物使之呈現(xiàn)光亮的過(guò)程。粗化 roughening 用機(jī)械法或化學(xué)法除去金屬制件表面得到微觀粗糙，使之由憎液性變?yōu)橛H液性，以提高鍍層與制件表面之間的結(jié)合力的一種非導(dǎo)電材料化學(xué)鍍前處理工藝。敏化 sensitization 將粗化處理過(guò)的非導(dǎo)電制件于敏化液中浸漬，使其表面吸附一層還原性物質(zhì)，以便隨后進(jìn)行活化處理時(shí)，可在制件表面還原貴金屬離子以形成活化層或催化膜，從而加速化學(xué)鍍反應(yīng)的過(guò)程。汞齊化 amalgamation(blue dip) 將銅或銅合金等金屬制件浸在汞鹽溶液中，使用權(quán)制件表面形成汞齊的過(guò)程。刷光 brushing 旋轉(zhuǎn)的金屬或非金屬刷輪（或刷子）對(duì)制件表面進(jìn)行加工以清除表面上殘存的附著物，并使表面呈現(xiàn)一定光澤的過(guò)程。乳化除油 emulsion degreasing 用含有有機(jī)溶劑、水和乳化劑的液體除去制件表面油污的過(guò)程。除氫 removal of hydrogen(de-embrittlement) 金屬制件在一定溫度下加熱或采用其他處理方法以驅(qū)除金屬內(nèi)部吸收氫的過(guò)程。退火 annealing 退火是一種熱處理工藝，將鍍件加熱到一定溫度，保溫一定時(shí)間后緩慢冷卻的熱處理工藝。退火處理可消除鍍層中的吸收氫，減小鍍層內(nèi)應(yīng)力，從而降低其脆性；也可以改變鍍層的晶粒狀態(tài)或相結(jié)構(gòu)，以改善鍍層的力學(xué)性質(zhì)或使其具有一定的電性、磁性或其他性能。逆流漂洗 countercurrent rinsing 制件的運(yùn)行方向與清洗水流動(dòng)方向相反的多道清洗過(guò)程。封閉 sealing 在鋁件陽(yáng)極氧化后，為降低經(jīng)陽(yáng)極氧化形成氧化膜的孔隙率，經(jīng)由在水溶液或蒸汽介質(zhì)中進(jìn)行的物理、化學(xué)處理。其目的在于增大陽(yáng)極覆蓋層的抗污能力及耐蝕性能。改善覆層中著色的持久性或賦予別的所需要的性質(zhì)。著色能力 dyeing power 染料在陽(yáng)極氧化膜或鍍層上的附著能力。退鍍 stripping 退除制件表面鍍層的過(guò)程。熱抗散 thermal diffusion 加熱處理鍍件，使基體金屬和沉積金屬（一種或多種）擴(kuò)散形成合金的過(guò)程。熱熔 hot melting 為了改善錫或錫鉛合金等鍍層的外觀及化學(xué)穩(wěn)定性，在比鍍覆金屬的熔點(diǎn)稍高的溫度下加熱處理鍍件，使鍍層表面熔化并重新結(jié)晶的過(guò)程。著色 colouring 讓有機(jī)或無(wú)機(jī)染料吸附在多孔的陽(yáng)極氧化膜上使之呈現(xiàn)各種顏色的過(guò)程。脫色 decolorization 用脫色劑去除已著色的氧化膜上顏色的過(guò)程。噴丸 shot blasting 用硬而小的球，如金屬丸噴射金屬表面的過(guò)程，其作用是加壓強(qiáng)化該表面，使之硬化具有裝飾的效果. 噴砂 sand blasting 噴射砂粒流沖擊制件表面達(dá)到去污、除油或粗化的過(guò)程。噴射清洗 spray rinsing 用噴射的細(xì)液流沖洗制件以提高清洗效果，并節(jié)約用水的清洗方法。超聲波清洗 ultrasonic cleaning 用超聲波作用于清洗溶液，以更有效地除去制件表面油污及其他雜質(zhì)的方法。弱浸蝕 acid dipping 金屬制件在電鍍前浸入一定的溶液中，以除去表面上極薄的氧化膜并使表面活化的過(guò)程。強(qiáng)浸蝕 pickling 將金屬制件浸在較高濃度和一定溫度的浸蝕液中，以除去其上的氧化物和銹蝕物等過(guò)程。緞面加工 satin finish 使制件表面成為漫反射層的處理過(guò)程。經(jīng)過(guò)處理的表面具有緞面狀非鏡面閃爍光澤。滾光 barrel burnishing 將制件裝在盛有磨料和滾光液的旋轉(zhuǎn)容器中進(jìn)行滾磨出光的過(guò)程。磨光 grinding 借助粘有磨料的磨輪對(duì)金屬制件進(jìn)行拋磨以提高制件表面平整度的機(jī)械加工過(guò)程。水的軟化 softening of water 除去水中鈣鎂等離子以降低其硬度的過(guò)程。匯流排 busbar 連接整流器（或直流發(fā)電機(jī)）與鍍槽供導(dǎo)電用的銅排或鋁排。陽(yáng)極袋 anode bag 套在陽(yáng)極上以防止陽(yáng)極泥進(jìn)入溶液的棉布或化纖織物袋子。光亮劑 brightening agent(brightener) 加入鍍液中可獲得光亮鍍層的添加劑。助濾劑 filteraid 為防止濾渣堆積過(guò)于密實(shí)，使過(guò)濾順利進(jìn)行，而使用細(xì)碎程度不同的不溶液性惰性材料。阻化劑 inhibitor 能減小化學(xué)反應(yīng)或電化學(xué)反應(yīng)速率的物質(zhì)，例如強(qiáng)浸蝕中使用的緩蝕劑。表面活性劑 surface active agent(surfactant) 能顯著降低界面張力的物質(zhì)，常用作洗滌劑、乳化劑、潤(rùn)濕劑、分散劑、起泡劑等。乳化劑 emulsifying agent (emulsifier) 能降低互不相溶的液體間的界面張力，使之形成乳濁液的物質(zhì)。配位劑 complexant 能與金屬離子或原子結(jié)合而形成配位化合物的物質(zhì)。絕緣層 insulated layer (resist) 涂敷在電極或掛具的某一部分，使該部位表面不導(dǎo)電的涂層。掛具（夾具） plating rack 用來(lái)裝掛零件，以便于將它們放入槽中進(jìn)行電鍍或其它處理的工具。潤(rùn)濕劑 wetting agent 能降低制件與溶液間的界面張力，使制件表面易于被溶液潤(rùn)濕的物質(zhì)。離心干燥機(jī) centrifuge 利用離心力使制件脫水干燥的設(shè)備。添加劑 addition agent (additive) 加入鍍液中能改進(jìn)鍍液的電化學(xué)性能和改善鍍層質(zhì)量的少量添加物。緩沖劑 buffer 能使溶液的pH值在一定范圍內(nèi)維持基本恒定的物質(zhì)。移動(dòng)陰極 swept cathode 被鍍制件與極杠連在一起作周期性往復(fù)運(yùn)動(dòng)的陰極。隔膜 diaphragm 把電解槽的陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū)彼此分隔開(kāi)的多孔膜或半透膜。螯合劑 chelating agent 能與金屬離子形成螯合物的物質(zhì)。整平劑 levelling agent 在電鍍過(guò)程中能夠改善基體表面微觀平整性，以獲得平整光滑鍍層的穩(wěn)定劑。整流器 rectifier 把交流電直接變?yōu)橹绷麟姷脑O(shè)備。大氣暴露試驗(yàn) atmospheric corrosion rest 在不同氣候區(qū)的暴曬場(chǎng)按規(guī)定方法進(jìn)行的一種檢驗(yàn)鍍層耐大氣腐蝕性能的試驗(yàn)。中性鹽霧試驗(yàn)（NSS試驗(yàn)）neutral salt spray test (NSS-test) 利用規(guī)定的中性鹽霧試驗(yàn)鍍層耐腐蝕性。不連續(xù)水膜water break 制件表面因污染所引起的不均勻潤(rùn)濕性而使其水膜不連續(xù)的現(xiàn)象，這是一種檢查清洗程度的方法。 pH計(jì) pH meter 測(cè)定溶液pH值的儀器?？紫堵蕄orosity 單位面積上針孔的個(gè)數(shù)。內(nèi)應(yīng)力 internal stress 在電鍍過(guò)程中由于種種原因引起鍍層晶體結(jié)構(gòu)的變化，使鍍層被拉伸或壓縮，但因鍍層已被固定在基體上，遂使鍍層處于受力狀態(tài)，這種作用于鍍層的內(nèi)力稱為內(nèi)應(yīng)力。電導(dǎo)儀 conductivity gauge 測(cè)量電解質(zhì)溶液電導(dǎo)率的儀器。庫(kù)侖計(jì)（電量計(jì)）coulombmeter 根據(jù)電解過(guò)程中電極上析出物的質(zhì)量或體積（對(duì)于氣體）來(lái)計(jì)量通過(guò)電量的儀器。旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)電極 rotating disk electrode 測(cè)定溶液體系的擴(kuò)散系數(shù)和電化學(xué)參數(shù)的一種電極。它是將金屬棒嵌于同心塑料圓筒中，金屬棒底面為電極的工作面，電極同轉(zhuǎn)動(dòng)馬達(dá)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸連接，整體固定在穩(wěn)定的座架上，電極工作面垂直轉(zhuǎn)軸，其圓心對(duì)準(zhǔn)轉(zhuǎn)軸心。這樣，電極轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)緊貼電極工作面的液相建立起一個(gè)厚度與轉(zhuǎn)速有關(guān)的均一、穩(wěn)定的擴(kuò)散層。旋轉(zhuǎn)環(huán)盤(pán)電極 rotating ring disk electrode 環(huán)盤(pán)電極是在圓盤(pán)電極的工作面上裝在與其同心的環(huán)的電極，環(huán)與圓盤(pán)之間用薄層絕緣材料隔離。環(huán)電極用來(lái)檢測(cè)圓盤(pán)電極上的可溶性反應(yīng)產(chǎn)物，環(huán)盤(pán)電極也是電化學(xué)測(cè)試常用的電極。針孔 pores 從鍍層表面貫穿到鍍層底部或基體金屬的微小孔道。銅加速鹽霧試驗(yàn)（CASS試驗(yàn)） copper accelerated salt spray (CASS test) 用規(guī)定含銅鹽和醋酸的氯化鈉水溶液作噴霧劑而進(jìn)行的一種加速腐蝕試驗(yàn)。參比電極 reference electrode 平衡電極電勢(shì)非常穩(wěn)定和高度可逆的半電池，它可同另一半電池構(gòu)成原電池以確定后者的電極電勢(shì)。甘汞電極 calomel electrode 由汞、氯化亞汞和一定濃度（例如飽和溶液）的氯化鉀溶液組成的半電池?？珊感?solderability 鍍層表面被熔融焊料潤(rùn)濕的能力。硬度 hardness 鍍層抵抗其它物體刻劃或壓入其表面的能力，是鍍層的一項(xiàng)重要的機(jī)械性能。根據(jù)測(cè)定方法的不同可用不同量值表示硬度，如布氏硬度、洛氏硬度、維氏硬度、肖氏硬度和努氏硬度等。硬度常用顯微硬度計(jì)測(cè)定。金屬變色 tarnish 由于腐蝕而引起的金屬或鍍層表面色澤變化，如發(fā)暗、失色等。點(diǎn)滴腐蝕試驗(yàn) dropping corrosion test 讓特定的腐蝕液有控制地滴在試樣表面上，以檢驗(yàn)試樣表面保護(hù)層耐蝕性的試驗(yàn)方法。玻璃電極 glass electrode 利用薄玻璃膜將兩種溶液隔離而產(chǎn)生的電勢(shì)差的電極，常用于測(cè)量溶液的pH值。結(jié)合力 adhension 鍍層與基體材料之間結(jié)合強(qiáng)度的量度，可用使鍍層與基體分離的力表示。哈林槽 Haring cell 用絕緣材料制成的矩形槽，槽中陽(yáng)極分別對(duì)應(yīng)遠(yuǎn)近兩個(gè)陰極，用來(lái)估計(jì)鍍液的分散能力及電極極化程度的裝置。恒電勢(shì)法 potentiostatic method 為了得出電極電勢(shì)與電流密度的關(guān)系曲線，可控制研究電極的電極電勢(shì)。使其按一定的規(guī)律變化，同時(shí)測(cè)定相應(yīng)的電流密度的方法。恒電流法 galvanostatic method 為了得出電流密度與電極電勢(shì)的關(guān)系曲線，可控制研究電極的電流密度，使其按一定的規(guī)律變化，同時(shí)測(cè)定相應(yīng)的電極電勢(shì)的方法。交流電流法 a.c method 用小幅度正弦波交流電激勵(lì)電極，從其電極電勢(shì)的響應(yīng)，可以求得電極過(guò)程的某些參數(shù)的方法。樹(shù)枝狀結(jié)晶 trees 電鍍時(shí)在奶極上（特別是邊緣和其他高電流密度區(qū)）形成的粗糙、松散的樹(shù)枝狀或不規(guī)則突起的沉積物。脆性 brittleness 鍍層所能承受變形的能力，它主要決定于鍍層材料及其內(nèi)應(yīng)力。起皮 peeling 鍍層呈片狀脫離基體的現(xiàn)象。起泡 blister 在電鍍層中由于鍍層與底金屬之間失去結(jié)合力而引起一種凸起狀缺陷。剝離 spalling 由于某些原因（例如不均勻的熱膨脹或收縮）引起的鍍層表面層的碎裂或脫落。桔皮 orange peel 類(lèi)似于桔皮波紋外觀的表面處理層。離子選擇性電極 ion selective electrode 其電勢(shì)隨特定離子與濃度而變化的電極。海綿狀鍍層 sponge deposit 與基體材料結(jié)合不牢固的疏松多孔的沉積物。燒焦鍍層 burnt deposit 在過(guò)高電流密度下形成的黑暗色、粗糙松散、質(zhì)量差的沉積物，其中常含有氧化物或其他雜質(zhì)。 麻點(diǎn) pits 在電鍍過(guò)程中由于種種原因而在電鍍表面形成的小坑。晶須 whiskers 金屬鍍層的絲狀增長(zhǎng)物。通常是微觀的，有時(shí)在電鍍過(guò)程中形成，有時(shí)是在處理后存放或使用過(guò)程中產(chǎn)生的。腐蝕膏試驗(yàn) corrodkote test 將腐蝕膏制成膏狀物涂于鍍層上進(jìn)行的一種加速腐蝕試驗(yàn)的方法。霍爾槽 Hull cell 一定尺寸比例的梯形槽，用于進(jìn)行電鍍?cè)囼?yàn)，可觀察不同電流密度下鍍層的質(zhì)量，并研究多種因素對(duì)電鍍的影響。譜學(xué)電化學(xué)法 spectro-electrochemical method 把譜學(xué)方法和常規(guī)的電化學(xué)方法相結(jié)合的方法。是在分子水平上原位表征參與電化學(xué)過(guò)程的分子品種和研究電極界面的微觀結(jié)構(gòu)的新技術(shù)。 鋁及鋁合金電鍍前表面準(zhǔn)備方法 JB/T 6986-93 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了鋁及鋁合金電鍍前一般應(yīng)進(jìn)行的表面準(zhǔn)備方法，包括清洗、表面調(diào)整處理、浸鍍、預(yù)鍍等。適用于鋁及鋁合金（包括常用鑄鋁、變形鋁合金）的表面準(zhǔn)備。不適用于電鑄用鋁和鋁合金模芯的表面準(zhǔn)備。引用標(biāo)準(zhǔn) GB1173 鑄造鋁合金技術(shù)條件 GB3190鋁及鋁合金加工產(chǎn)品的化學(xué)成份 GB5270金屬基體上的金屬覆蓋層術(shù)語(yǔ)清洗cleaning 清除工件表面油污或外來(lái)物的工藝過(guò)程。表面調(diào)整處理conditioning 把工件表面狀態(tài)轉(zhuǎn)變成適合于以后工序進(jìn)行成功處理的工藝過(guò)程。電鍍準(zhǔn)備方法的選用鋁件電鍍前表面準(zhǔn)備工藝過(guò)程一般為清洗-表面調(diào)整-浸鍍-預(yù)鍍，經(jīng)過(guò)熱處理的鋁件，清洗前還需采用機(jī)械磨光、拋光加工或酸、堿浸蝕以除去熱處理氧化膜。選用表面準(zhǔn)備方法時(shí)，應(yīng)注意區(qū)別下述情況：a.鋁件的材料牌號(hào)（對(duì)照GB1173和GB3190）； b.鋁件的制造方法，例如是鑄造或壓力加工方法制造等；c.鋁件是否經(jīng)過(guò)熱處理。其它鍍前準(zhǔn)備方法的選用根據(jù)不同的情況，實(shí)際生產(chǎn)中也可采用清洗-表面調(diào)整-陽(yáng)極氧化，或吹砂-清洗-表面調(diào)整-出光等鍍前準(zhǔn)備工藝。除浸鋅外，也可浸鍍鎳、鎳鋅合金、鐵等重金屬，在選用這些工藝過(guò)程時(shí)，電鍍后的鋁件應(yīng)按GB5270規(guī)定的方法進(jìn)行試驗(yàn)，電鍍層必須符合結(jié)合強(qiáng)度良好的要求。清洗和表面調(diào)整的處理清洗清洗工藝由蒸汽除油，有機(jī)溶劑清洗，可溶性乳化劑清洗，鋁材料清洗劑清洗及相應(yīng)的水漂洗工序組成。常用的有熱碳酸鹽-磷酸鹽水溶液清洗液。油污嚴(yán)重的鋁件開(kāi)始清洗時(shí)可采用弱堿性或弱酸性溶液清洗。表面調(diào)整處理的目的 a.除去鋁件表面原有的氧化膜；b.除去表面有害的微量成份。常用的表面調(diào)整處理溶液通常的表面調(diào)整處理是在中等溫度的氫氧化鈉溶液中浸漬后充分的水漂洗，再浸入硝酸-氟化氫銨溶液以除去表面掛灰，然后水漂洗干凈。為 了防止氫氧化物和氟化物對(duì)環(huán)境的污染，也可選用硫酸-過(guò)氧化氫溶液代替硝酸-氟化氫銨溶液。熱處理鋁件的表面調(diào)整經(jīng)過(guò)熱處理的鋁件，要求進(jìn)行機(jī)械加工或磨光的，可用拋光、磨光的方式除去氧化膜，然后進(jìn)行適當(dāng)?shù)谋砻嬲{(diào)整處理，不能進(jìn)行機(jī)械加工或磨光的鋁件表面應(yīng)選用酸浸蝕的方法除去氧化膜，常用的酸浸蝕的溶液為熱的硫酸-鉻酸溶液，也可采用某些行之有效的專利浸蝕液。軋制鋁件的表面調(diào)整處理采用工業(yè)純鋁如L5、L6，防銹鋁如LF21等軋制型材準(zhǔn)備的鋁件，用碳酸鹽-磷酸鹽溶液清洗后，于室溫在硝酸中浸漬能得到滿意的效果。鋁鎂合金的表面調(diào)整處理鋁鎂合金零件如防銹鋁LF2，鍛鋁LD2、LD31等的表面處理調(diào)整處理可采用熱硫酸浸蝕，本方法對(duì)于鍛鋁等變形銘鎂合金和鑄造的鋁鎂合金均較理想，浸蝕時(shí)間與合金類(lèi)型有關(guān)，一般鑄鋁的浸蝕時(shí)間較短。含硅鑄鋁合金件的表面調(diào)整處理含水量硅量較高的鑄鋁合金，如ZL101、ZL101A、ZL102、ZL108、ZL109等在硝酸-氫氟酸混合液中進(jìn)行表面調(diào)整處理。該溶液也可用于表面不宜進(jìn)行磨、拋光加工的熱處理后的鑄件除去熱處理氧化膜。浸鍍和預(yù)鍍經(jīng)過(guò)清洗和表面調(diào)整處理后的鋁件表面應(yīng)浸鍍或浸鍍并預(yù)鍍，常采用浸鋅、浸鋅并預(yù)鍍銅、浸鋅并預(yù)鍍鎳、浸錫并預(yù)鍍青銅方式進(jìn)行。某些牌號(hào)或經(jīng)過(guò)某些方式熱處理之后的鋁件，為了得到理想的效果，往往要對(duì)上述工藝或槽液稍作修改。浸鋅理想的浸鋅層應(yīng)該是薄而均勻一致，結(jié)晶細(xì)致且有一定的金屬光澤，與基體結(jié)合牢固。浸鋅層的質(zhì)量受合金的類(lèi)型、表面調(diào)整處理工藝和浸鋅工藝的影響。鋅層的沉積量一般為1550微克/平方厘米，相應(yīng)的厚度為2072納米，理想的沉積量不家宜超過(guò)30微克/平方厘米，過(guò)多的沉積量易形成海綿狀鋅層，與基體的結(jié)合強(qiáng)度也差。浸鋅分一次浸鋅和二次浸鋅。浸鋅后的鋁件，通常在電鍍其他金屬之前采用適當(dāng)?shù)墓に囋诮\層上預(yù)鍍一層銅，也可以在浸鋅層上直接電鍍銀、黃銅、鋅或鉻。選用的電鍍工藝應(yīng)適合在鋅上電鍍，并且工件應(yīng)帶電入槽。浸鋅溶液一般較濃，工件的帶出液將使溶液成份發(fā)生變化，故應(yīng)按化驗(yàn)結(jié)果經(jīng)常補(bǔ)充組份，以保證浸鋅層質(zhì)量。浸鋅溶液的種類(lèi)較多，而且不同類(lèi)型的鋁件，常常選用不同的浸鋅溶液，無(wú)論選用何種浸鋅溶液，以后的電鍍層均應(yīng)滿足GB5270規(guī)定的結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn)要求。二次浸鋅第一次浸鋅層粗糙多孔、附著不良，可采用二次浸鋅。二次浸鋅后能得到細(xì)致、均勻略具金屬光澤的鋅層。兩次浸鋅可在同一槽中進(jìn)行，也可先在較濃的溶液中，后在較稀的溶液中進(jìn)行。為了獲得理想的鋅層，有時(shí)甚至要進(jìn)行多次浸鋅。第一層鋅在硝酸溶液中退除。第一次浸鋅時(shí)間為45秒；第二次浸鋅時(shí)間為30秒。注意事項(xiàng)浸鋅時(shí)的掛具不能用銅或銅合金，以防止銅和鋁或鋁合金接觸發(fā)生置換，應(yīng)將掛具上的鋼絲、銅或銅合金鍍鎳后再作浸鋅使用，或者選用鋁絲或非金屬材料作為浸鋅掛具。浸鋅并預(yù)鍍銅經(jīng)清洗，表面調(diào)整處理，一次浸鋅或二次浸鋅后的鋁件，可在氰化鍍銅溶液中預(yù)鍍銅，充分水洗后再轉(zhuǎn)入其他電鍍?nèi)芤褐须婂?。浸鋅并預(yù)鍍鎳經(jīng)清洗，表面調(diào)整處理，一次浸鋅或二次浸鋅后的鋁件，也可在接近中性的鎳槽中預(yù)鍍鎳，然后作進(jìn)一步的電鍍。浸錫并預(yù)鍍青銅在潮濕的腐蝕性環(huán)境中，浸鋅層易發(fā)生橫向腐蝕而使電鍍層剝落。在此情況下可采用浸錫后預(yù)鍍青銅。浸錫鋁件按規(guī)定進(jìn)行清洗調(diào)整后，充分漂洗再在含有錫酸鹽的某些專利浸錫溶液中進(jìn)行浸鍍或帶電入槽閃鍍錫后預(yù)鍍青銅。預(yù)鍍青銅浸錫后不用水漂洗即可在適宜的氰化電解液中預(yù)鍍青銅，然后充分水洗再轉(zhuǎn)入其他電鍍槽中電鍍。本標(biāo)準(zhǔn)中要使用某些腐蝕性和劇毒性藥品，應(yīng)采取適當(dāng)?shù)陌踩胧?。氰化物和酸處理工序之間一定要有充分的水漂洗工序。 金屬覆蓋層 鎳+鉻和銅+鎳+鉻電沉積層 GB/T 9797-1997 1 范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了在鋼鐵、鋅合金、銅和銅合金、鋁和鋁合金上裝飾和防護(hù)性鎳+鉻和銅+鎳+鉻電沉積層的要求。給出了厚度和種類(lèi)不同的幾級(jí)鍍層以及暴露于相應(yīng)服役條件鍍層級(jí)別選擇指南。本標(biāo)準(zhǔn)適用于鋼鐵、鋅合金、銅和銅合金、鋁和鋁合金上裝飾和防護(hù)性鎳+鉻和銅+鎳+鉻電沉積層。本標(biāo)準(zhǔn)未規(guī)定電鍍前的基體金屬所要求的表面狀態(tài)。不適于未加工成形的板材、帶材、線材，也不適用于螺紋緊固件或密圈彈簧上的鎳+鉻和銅+鎳+鉻電沉積層。（1） 工程用鎳和鉻電鍍層的要求分別見(jiàn)GB12332和GB11379。（2） 用于裝飾防護(hù)的沒(méi)有鉻表層的類(lèi)似鍍層的要求見(jiàn)GB/T 9798 2 引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂。使用標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本 的可能性。 GB/T49551997金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 陽(yáng)極溶解庫(kù)侖法（eqv ISO2177：1972） GB527085 金屬基體上的金屬覆蓋層（電沉積和化學(xué)沉積層）附著強(qiáng)硬試驗(yàn)方法（eqv ISO2819：1980） GB646286金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測(cè)量方法（eqvISO1463：1982） GB646586金屬和其它無(wú)機(jī)覆蓋層 腐蝕膏腐蝕試驗(yàn)（CORR試驗(yàn)）（eqvISO4541：1978）GB/T97981997金屬覆蓋層 鎳電沉積層（eqvISO1458:1988) GB1137989金屬覆蓋層 工程用鉻電鍍層（eqvISO6158：1984） GB1233290金屬覆蓋層 工程用鎳電鍍層（eqvISO4526：1985） GB1233490金屬和其它無(wú)機(jī)覆蓋層 關(guān)于厚度測(cè)量的定義和一般規(guī)則（ eqvISO2064：1980） GB1260990電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾 計(jì)數(shù)抽樣檢查程序（eqvISO4519：1980） GB/T1374492磁性及非磁性基體上鎳電鍍層厚度的測(cè)量（idt ISO2361：1982） GB/T169211997金屬覆蓋層 厚度測(cè)量 X射線光譜方法（eqv ISO3497：1990） GB/T101251997人造氣氛腐蝕試驗(yàn) 鹽霧試驗(yàn)（eqv ISO9227：1990） 3 定義本標(biāo)準(zhǔn)采用GB12334的定義 4 需方要提供電鍍方的信息在訂購(gòu)符合本標(biāo)準(zhǔn)的電鍍件時(shí)，需方應(yīng)向電鍍方提供如下信息。（1）本標(biāo)準(zhǔn)號(hào)（2）基體金屬和表明鍍件服役環(huán)境嚴(yán)酷程度的服役條件號(hào)或所需特定鍍層的分級(jí)號(hào)。如果需方只提供了基體金屬和服役條件號(hào)，而未提供鍍層的分級(jí)號(hào)，則電鍍方可以提供相應(yīng)服役條件號(hào)的任一級(jí)鍍層，但是應(yīng)將選定的鍍層分級(jí)號(hào)通知需方。（3）表面精飾要求，例如：光亮的、暗色的、或緞面的，也可由需方提供，或經(jīng)認(rèn)可的表明表面精飾要求或精飾范圍的樣品。（4）主要表面應(yīng)標(biāo)在零件圖上或提供適當(dāng)標(biāo)記的樣品。（5）要采用的腐蝕試驗(yàn)的種類(lèi)。（6）要采用的結(jié)合強(qiáng)度的試驗(yàn)種類(lèi)。（7）非主要表面上允許缺陷的程度。（8）主要表面上不可避免的持具痕或接觸痕位置。（9）抽樣方法和驗(yàn)收水平。需方還可提供下述附加信息。鋼件的抗拉強(qiáng)度和電鍍前和（或）后的熱處理要求。不能被直徑為20mm的球接觸表面的厚度要求。是否需要鍍銅底層。 5 分級(jí)服役條件號(hào)用于需方規(guī)定鍍件服役環(huán)境嚴(yán)酷程度的等級(jí)，其計(jì)數(shù)如下： 4極嚴(yán)酷 3嚴(yán)酷 2中度 1輕度 0極輕度鍍層分極號(hào)按以下順序號(hào)組成： (1)表示基體金屬（或合金基體中的主要金屬）的化學(xué)符號(hào)，后接一斜線，如下： Fe/-表示基體為鋼鐵； Zn/-表示基體為鋅或鋅合金； Cu/-表示基體為銅或銅合金； Al/-表示基體為鋁或鋁合金。（2）用銅或含銅量超過(guò)50%的銅合金層作底鍍層時(shí)，化學(xué)符號(hào)Cu表示銅或銅合金鍍層。（3）Cu后數(shù)字表示銅鍍層的最小局部厚度，單位為微米。（4）鎳的化學(xué)符號(hào)Ni。（5）Ni后的數(shù)字表示鎳鍍層的最小的局部厚度，單位為微米。（6）表示鎳鍍層種類(lèi)的字母。（7）化學(xué)符號(hào)Cr表示鉻鍍層。（8）Cr后的字母（小寫(xiě)），表示鉻鍍層的類(lèi)型。完整分級(jí)號(hào)舉例：在鋼鐵基體上鍍有最小厚度為20微米的銅層，銅上鍍有最小厚度為30微米的光亮鎳，鎳上鍍有最小厚度為0.3微米的微裂紋鉻的完整分級(jí)號(hào)為Fe/Cu20 Ni30b Cr mc 金屬覆蓋層 鋼鐵上的鎘電鍍層 GB/T 13346-92 1 主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了鋼鐵上的鎘電鍍層的技術(shù)要求和檢驗(yàn)方法。適用于在各種條件下防止鋼鐵腐蝕的鎘電鍍層。不適于未加工成形的板材、帶材、線材的鎘電鍍層 。也不適用于可能同食物或飲料接觸的物件的鍍層。本標(biāo)準(zhǔn)不適用于：（1）未加工成型的板材、帶材或線材的鎘電鍍層；（2）可能同食物或飲料接觸的物件的鍍層（鎘的毒性對(duì)人體會(huì)造成嚴(yán)重的危害）。 2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB1238金屬鍍層及化學(xué)處理表示方法。 GB4955金屬覆蓋層厚度測(cè)量 陽(yáng)極溶解庫(kù)侖方法。 GB4956磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測(cè)量 磁性方法。 GB5270金屬基體上金屬覆蓋層（電沉積層和化學(xué)沉積層）附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法。 GB6458金屬覆蓋層 中性鹽霧試驗(yàn)（NSS試驗(yàn)）。 GB6462金屬和氧化物覆蓋層 橫截面厚度顯微鏡測(cè)量方法。 GB6463金屬和其他無(wú)機(jī)覆蓋層 厚度測(cè)量方法評(píng)述。 GB9800電鍍鋅和電鍍鎘層的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜。 GB12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾計(jì)數(shù)抽樣檢查程序。 GB/T12611金屬零（部）件鍍覆前質(zhì)量控制技術(shù)要求。 3 術(shù)語(yǔ)（1）主要表面制件上某些已作或待作覆蓋的表面，在該表面上覆蓋層對(duì)制件的外觀和（或）使用性能是重要的。（2）局部厚度在基本測(cè)量面內(nèi)進(jìn)行規(guī)定次數(shù)厚度測(cè)量的算術(shù)平均值。（3）最小局部厚度在單個(gè)工件的主要表面上測(cè)得的局部厚度最小值。 4 鍍覆前零（部）件的基體金屬的質(zhì)量應(yīng)達(dá)到GB/T12611的規(guī)定，否則，供需雙方另行商定。 5 需方應(yīng)向供方提供的資料（1）本標(biāo)準(zhǔn)號(hào)（GB/T13346）；（2）對(duì)鍍層厚度的要求；（3）主要表面用圖紙或適當(dāng)標(biāo)記指明；（4）基體金屬的性能、表面狀態(tài)和加工精度；（5）鍍層表面外觀要求；（6）鍍前和鍍后的熱處理要求；（7）鉻酸鹽或其它轉(zhuǎn)化膜的類(lèi)型。應(yīng)注意：只在當(dāng)需方特別要求時(shí)，才能省去鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜或應(yīng)用代用的轉(zhuǎn)化膜；（8）抽樣或檢驗(yàn)要求；（9）鍍前準(zhǔn)備 和電鍍過(guò)程的任何特殊要求和限制；（10）鎘電鍍件的包裝、儲(chǔ)存或運(yùn)輸要求。 6 鍍層表示方法鎘電鍍層的表示方法按GB1238的規(guī)定。 7 鍍層厚度系列（1）使用條件、使用壽命鎘鍍層在海洋氣氛條件下具有優(yōu)良的耐蝕能力，選取鎘鍍層的厚度，取決于使用環(huán)境的嚴(yán)酷程度和（或）使用壽命的長(zhǎng)短。Fe/Cd 5 c一般僅用于干燥的室內(nèi)環(huán)境，如果使用環(huán)境比較嚴(yán)酷和（或）使用壽命較長(zhǎng)，則應(yīng)采用較厚的鎘鍍層。 金屬覆蓋層 鎳電沉積層 GB/T 9798-1997 1范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了在鋼鐵、鋅合金、銅和銅合金、鋁和鋁合金上裝飾和防護(hù)性鎳電沉積層的要求。給出了不同厚度的幾級(jí)鍍層以及暴露于相應(yīng)服役條件的鍍覆件鍍層級(jí)別選擇指南。適用于鋼鐵、鋅合金、銅和銅合金、鋁和鋁合金上裝飾和防護(hù)性鎳電沉積層。本標(biāo)準(zhǔn)未規(guī)定電鍍前的基體金屬所要求的表面狀態(tài)。不適于未加工成形的板材、帶材、線材上的鍍層，也不適用于螺紋緊固件或密圈彈簧上的鍍層。 2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。 GB/T4955-1997金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 陽(yáng)極溶解庫(kù)侖法（eqv ISO2177：1972） GB5270-85金屬基體上的金屬覆蓋層（電沉積層和化學(xué)沉積層）附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法（eqv ISO2819:1980) GB6462-86金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測(cè)量方法（eqv ISO1463:1982) GB/T9797-1997金屬覆蓋層 鎳+鉻和銅+鎳+鉻電沉積層（eqv ISO1456:1988) GB12332-90金屬覆蓋層 工程用鎳電鍍層（eqv ISO4526:1985) GB12334-90金屬和其他無(wú)機(jī)覆蓋層 關(guān)于厚度測(cè)量?jī)x的定義和一般規(guī)則（eqv ISO2064:1980) GB12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾 計(jì)數(shù)抽樣檢查程序（eqv ISO4519:1980) GB/T13744-92磁性及非磁性基體上鎳電鍍 層厚度的測(cè)量（idt ISO2361:1982) GB/T16921-1997金屬覆蓋層 厚度測(cè)量 X射線光譜方法（eqv ISO3497:1990) GB/T10125-1997人造氣氛腐蝕試驗(yàn) 鹽霧試驗(yàn)（eqv ISO9227:1990) 3 定義本標(biāo)準(zhǔn)采用GB12334的定義。 4 需方要提供電鍍方的信息 4.1必要信息在訂購(gòu)符合本標(biāo)準(zhǔn)的鍍件時(shí)，需方應(yīng)向電鍍方提供以下信息。 4.1.1本標(biāo)準(zhǔn)號(hào)。 4.1.2基體金屬和表明鍍件服役環(huán)境嚴(yán)酷程度的服役條件號(hào)。 4.1.3表面精飾要求，例如，光亮的、暗色的或緞面的，也可由需方提供，或經(jīng)認(rèn)可的表明表面精飾要求或表面精飾范圍的樣品。 4.1.4主要表面應(yīng)標(biāo)在零件圖上或提供適當(dāng)標(biāo)記的樣品。 4.1.5要采用的腐蝕試驗(yàn)的種類(lèi)。 4.1.6要采用的結(jié)合強(qiáng)度的試驗(yàn)種類(lèi)。 4.1.7非主要表面上允許缺陷的程度。 4.1.8主要表面上不可避免的掛具痕或接觸痕位置。 4.1.9抽樣方法和驗(yàn)收水平。 4.2附加信息需方還可提供下述附加信息。 4.2.1鋼件的抗拉強(qiáng)度和電鍍前（或）后的熱處理要求。 4.2.2不能被直徑為20毫米的球接觸表面的厚度要求。 4.2.3是否需要鍍銅底層。 5分級(jí) 5.1服役條件號(hào)服役條件號(hào)用