ProE高手之高級(jí)陣列教程

1、陣列詳細(xì)教程主要內(nèi)容：1、陣列理論 2、創(chuàng)建方向陣列 3、創(chuàng)建軸陣列 4、創(chuàng)建尺寸陣列 5、創(chuàng)建填充陣列 6、創(chuàng)建表陣列7、創(chuàng)建參照陣列 8、創(chuàng)建曲線(xiàn)陣列 9、創(chuàng)建關(guān)系陣列10、陣列實(shí)例1.陣列理論：陣列特征即將單個(gè)特征、特征組或陣列特征按照某種規(guī)則排列，生成大量形狀相同或相近的特征。常用于快速、準(zhǔn)確地創(chuàng)建數(shù)量較多、排列規(guī)則且形狀相同或相近的一組結(jié)構(gòu)。注意：陣列只能對(duì)單個(gè)特征進(jìn)行陣列，要想對(duì)多個(gè)特征進(jìn)行陣列，須將多個(gè)特征編為一個(gè)組進(jìn)行陣列。1.1執(zhí)行陣列方法方法一：右鍵單擊要陣列的特征或特征組（該特征稱(chēng)之為“陣列導(dǎo)引”），在快捷菜單中選擇陣列方法二：選中要陣列的特征或特征組，單擊工具欄陣列按鈕

2、：方法三：選中要陣列的特征或特征組，單擊編輯菜單陣列1.2陣列操控板簡(jiǎn)介z1.jpg (10.22 kb)2008-12-9 19:52a。單擊方向1下的列表框，在視圖中選取該特征半徑方向定位尺寸r10（圖1），將增量改為1，接下來(lái)按住ctrl鍵選擇該孔直徑尺寸2（圖2），將增量改為0.2，如圖3所示。確定。z25.jpg (24.33 kb)2008-12-9 20:554、創(chuàng)建尺寸陣列所謂尺寸陣列，就是在陣列的時(shí)候需要選擇特征上合適的尺寸作為陣列的方式。通常選擇的是特征的定位尺寸，如選擇線(xiàn)性尺寸，則陣列類(lèi)似于方向陣列，如選擇角度尺寸，則類(lèi)似于軸陣列，還可以有其他類(lèi)型的尺寸，后面會(huì)有講述。所

3、以說(shuō)，尺寸陣列關(guān)鍵是設(shè)置導(dǎo)引特征的標(biāo)注參照，如拉伸一個(gè)圓柱體，要求在拉伸特征中包含角度尺寸，就需要用到合適的參照（或者使用內(nèi)部基準(zhǔn)，構(gòu)造線(xiàn)等等）。尺寸陣列是wildfire版本以前最常用的陣列類(lèi)型，它的功能非常強(qiáng)大，幾乎可以創(chuàng)建各種類(lèi)型的陣列。確定是初學(xué)者不太好掌握，操作稍有復(fù)雜。尺寸陣列操控板介紹：z26.jpg (31.27 kb)2008-12-9 20:554.1使用尺寸陣列創(chuàng)建線(xiàn)性陣列1)打開(kāi)配套文件： dim_pattern_dir.prt.12)右鍵單擊“組lacal_group”選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具3)在操控板中，將陣列類(lèi)型改為“尺寸”，單擊第一個(gè)方向陣列的尺寸參照收集器

4、，將拉伸特征的定位尺寸15添加到該收集器，增量改為“20”（也可在尺寸列表中更改）（圖1），第一個(gè)方向陣列成員數(shù)改為“4”。然后單擊第二個(gè)方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位尺寸10添加到該收集器，增量改為“15”（也可在尺寸列表中更改）（圖2），第二個(gè)方向陣列成員數(shù)改為“6”。如圖3所示。確定，最終效果如圖4。z27.jpg (41.71 kb)2008-12-9 20:55下面在這兩個(gè)方向上繼續(xù)添加可變化的尺寸4）右鍵單擊剛剛做出來(lái)的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，按住ctrl鍵選擇該拉伸特征的長(zhǎng)度尺寸5，增量改為-1，將該尺寸添加到左下圖

5、所示列表框，接下來(lái)單擊方向2下面的列表框，同樣選擇該拉伸特征的長(zhǎng)度尺寸5，將尺寸添加到左下圖所示列表框，增量改為2。確定。該陣列成員的拉伸高度在第一個(gè)陣列方向上依次減小1，同時(shí)，在第二個(gè)陣列方向上依次增大2。最終結(jié)果如右下圖所示。z28.jpg (22.95 kb)2008-12-9 20:55 從上面例子可以看出，尺寸陣列每個(gè)方向選擇的第一個(gè)尺寸很重要，一般選擇特征的定位尺寸，該尺寸的變化確定了陣列的形式，后面選擇的另外兩個(gè)尺寸（都是定形尺寸）和以前的方向陣列類(lèi)似，即附加的可變化尺寸。4.2使用尺寸陣列創(chuàng)建軸陣列1)打開(kāi)配套文件： dim_pattern_axis.prt.12)右鍵單擊“組

6、local_group”選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具在操控板中，將陣列類(lèi)型改為“尺寸”，單擊第一個(gè)方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位角度尺寸“45度”添加到該收集器，增量改為“60度”（該角度尺寸決定了在第一個(gè)方向上陣列為環(huán)形陣烈）（圖1），第一個(gè)方向陣列成員數(shù)改為“6”。然后單擊第二個(gè)方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位尺寸15添加到該收集器，增量改為“15”（可在尺寸列表中更改）（圖2），第二個(gè)方向陣列成員數(shù)改為“6”。如（圖3、圖4）所示。確定，最終效果如圖5。z29.jpg (38.75 kb)2008-12-9 21:06尺寸陣列和方向陣列中的尺寸還是有點(diǎn)區(qū)別的，尺寸陣列

7、中添加的尺寸可以使用關(guān)系式，而方向陣列和軸陣列中附加的可變化尺寸無(wú)法使用關(guān)系式。同時(shí)，尺寸陣列中的陣列成員和陣列導(dǎo)引特征參照完全一致，而方向陣列或軸陣列則不然。如下圖所示練習(xí)1)拉伸長(zhǎng)方體300*200*202)在長(zhǎng)方體上表面草繪樣條曲線(xiàn)，如圖1z31.jpg (23.21 kb)2008-12-9 21:063)選中長(zhǎng)方體上表面，單擊拉伸按鈕，進(jìn)入草繪器，單擊菜單草繪參照將長(zhǎng)方體左邊和兩條樣條曲線(xiàn)分別設(shè)為尺寸參照。如圖2所示的幾條虛線(xiàn)。草繪矩形，注意草繪的矩形左邊兩個(gè)頂點(diǎn)分別落在上下兩條樣條曲線(xiàn)上，標(biāo)注矩形到左邊豎直參照的距離。完成拉伸特征。如圖3z32.jpg (16.54 kb)2008

8、-12-9 21:064)現(xiàn)在陣列剛剛完成的拉伸2特征。如果該特征用方向陣列陣列出來(lái)，結(jié)果如圖4，只要沒(méi)附加可變化的尺寸，所有陣列成員的大小就和陣列導(dǎo)引完全一模一樣。但是，如果使用尺寸陣列，選擇如圖5所示尺寸作為導(dǎo)引尺寸，同樣的間距，同樣的數(shù)目，結(jié)果卻如圖6所示，其他陣列成員的參照始終保持和陣列導(dǎo)引特征一致，即所有的陣列成員底面矩形的兩個(gè)頂點(diǎn)始終位于草繪的兩個(gè)樣條曲線(xiàn)上。z33.jpg (20.15 kb)2008-12-9 21:06尺寸陣列的功能非常強(qiáng)大，后面將會(huì)給大家介紹如何在尺寸陣列中使用關(guān)系式。5、填充陣列填充陣列即在規(guī)劃的草繪范圍內(nèi)按照某種規(guī)則創(chuàng)建陣列特征。首先規(guī)劃陣列范圍，然后指

9、定陣列排列格式并調(diào)整相關(guān)參數(shù)。b2.jpg (17.38 kb)2008-12-9 17:351）陣列類(lèi)型2）選擇填充陣列的填充范圍參照，通常是一個(gè)草繪，可以封閉也可以不封閉，可以是內(nèi)部草繪，也可以選擇一個(gè)外部草繪3）設(shè)置填充陣列的填充方法4）設(shè)置填充陣列成員兩兩之間的間隔5）設(shè)置陣列成員距離填充邊界的最小值6）設(shè)置陣列成員繞柵格原點(diǎn)的旋轉(zhuǎn)角度7）當(dāng)填充方法為圓形或螺旋形時(shí)，徑向距離填充方法有如下幾種類(lèi)型：b3.jpg (31.49 kb)2008-12-9 17:355.1創(chuàng)建填充陣列1)打開(kāi)配套文件：fill_pattern.prt.12)右鍵單擊特征“孔1”選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具。3

10、)操控板中，陣列類(lèi)型自動(dòng)選中“填充”，單價(jià)操控板中參照按鈕定義選擇旋轉(zhuǎn)特征底面為草繪平面進(jìn)入草繪（圖1）4)單擊工具欄“通過(guò)邊創(chuàng)建圖元”，選擇“環(huán)”方式（圖2），創(chuàng)建圖3所示圓。確定，返回陣列5)填充類(lèi)型該為圓，兩兩間隔20，徑向距離20，圖4。確定。最終效果圖5。b4.jpg (23.75 kb)2008-12-9 17:35b5.jpg (21.36 kb)2008-12-9 17:35以下內(nèi)容需要回復(fù)才能看到6、創(chuàng)建表陣列表陣列是一種相對(duì)比較自由的陣列方式，常用于創(chuàng)建不太規(guī)則布置的特征陣列。創(chuàng)建表陣列的步驟：1）收集特征的相關(guān)尺寸此參數(shù)創(chuàng)建陣列表2）在編輯器中輸入或更改每個(gè)陣列成員的相關(guān)

11、尺寸參數(shù)表陣列在創(chuàng)建是關(guān)鍵是如何確定每個(gè)陣列成員的尺寸參數(shù)。表陣列操控板簡(jiǎn)介（圖1） 19.jpg (43.61 kb)2008-12-7 23:52表陣列表編輯器簡(jiǎn)介（圖2） 20.jpg (41.21 kb)2008-12-7 23:52以下用實(shí)例說(shuō)明具體如何創(chuàng)建表陣列1) 打開(kāi)配套文件table_pattern.prt.12) 右鍵單擊特征“組local_group”選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具。3) 在操控板中，將陣列類(lèi)型改為“表”， 單擊陣列表尺寸收集器，然后選擇該特征組的尺寸10、15和5 （圖 1），將這三個(gè)尺寸添加到表尺寸中（圖2）。所有陣列成員都將依據(jù)這三個(gè)尺寸來(lái)發(fā)生變化。4)

12、 單擊操控板中的編輯按鈕，打開(kāi)表編輯器，輸入圖5所示的陣列實(shí)例索引和尺寸。完成后退出。確定，最終效果如圖6 22.jpg (55.22 kb)2008-12-7 23:527、創(chuàng)建參照陣列參照陣列可以創(chuàng)建依附于其他已有陣列特征基礎(chǔ)上的陣列。如圖1所示，已經(jīng)創(chuàng)建好了一個(gè)方向陣列，如果在原始特征上繼續(xù)添加一個(gè)新特征，倒角特征，并希望在各個(gè)陣列實(shí)例上也添加相同的特征，就可以使用參照陣列。1.jpg (36.55 kb)2008-12-8 16:49注意：創(chuàng)建參照陣列時(shí)，只有在原始特征上創(chuàng)建新特征后才可以使用參照陣列的方法在各個(gè)子特征上創(chuàng)建同類(lèi)特征，而在各實(shí)例特征上創(chuàng)建新特征后并不能使用參照陣列。參照

13、陣列的類(lèi)型：a)特征：參照陣列參照現(xiàn)有的特征陣列b)組：參照陣列參照某個(gè)陣列的組或現(xiàn)有的陣列。c)兩者：參照陣列同時(shí)參照現(xiàn)有的特征陣列和組陣列。如下圖所示，該陣列其實(shí)是一個(gè)嵌套陣列，即先做拉伸特征的軸陣列，然后以軸陣列為陣列導(dǎo)引（相當(dāng)于一個(gè)局部組）再進(jìn)行方向陣列?，F(xiàn)在在原始特征（拉伸特征）上創(chuàng)建圓角特征，對(duì)圓角特征再做參照陣列，即有如下三種類(lèi)型2.jpg (54.67 kb)2008-12-8 16:49練習(xí)：創(chuàng)建參照陣列1)打開(kāi)配套文件ref_pattern.prt.12)右鍵單擊“倒圓角2”，在快捷菜單中選擇“陣列”3)操控板中陣列類(lèi)型自動(dòng)選擇“參照”，參照類(lèi)型為“特征”，觀(guān)察預(yù)覽陣列結(jié)果

14、4)單擊操控板參照類(lèi)型后列表框，選擇“組”，觀(guān)察預(yù)覽陣列結(jié)果5)單擊操控板參照類(lèi)型后列表框，選擇“兩者”，觀(guān)察預(yù)覽陣列結(jié)果，確定。3.jpg (22.45 kb)2008-12-8 16:498、創(chuàng)建曲線(xiàn)陣列曲線(xiàn)陣列是proe3.0以后新增加的陣列類(lèi)型，可以創(chuàng)建沿著指定曲線(xiàn)均勻分布的陣列。分布可分兩種類(lèi)型：定距和定數(shù)11.jpg (40.04 kb)2008-12-9 10:34雖然用尺寸陣列也可以做曲線(xiàn)陣列，但相對(duì)來(lái)說(shuō)，步驟稍微復(fù)雜一點(diǎn)，需要一些參照來(lái)確定陣列導(dǎo)引在曲線(xiàn)上的位置。這些，用曲線(xiàn)陣列都可以很好的解決了。注意：要想讓陣列特征和曲線(xiàn)位置完全重合，應(yīng)讓特征和曲線(xiàn)的端點(diǎn)重合在一起。以下用

15、實(shí)例說(shuō)明如何創(chuàng)建參照陣列1)打開(kāi)配套文件curver_pattern.prt.12)右鍵單擊“拉伸3”，在快捷菜單中選擇“陣列”3)在操控板中將陣列類(lèi)型改為“曲線(xiàn)”，單擊“參照收集器”，在模型樹(shù)中選擇“草繪1”，將草繪1中的樣條曲線(xiàn)作為該陣列的參照曲線(xiàn)（亦可單擊操控板“參照”“定義”，自己重新定義一個(gè)內(nèi)部草繪）4)在操控板中將成員間距改為10，確定，結(jié)果如下圖1。5)右鍵單擊剛剛做好的陣列特征，在快捷菜單中選擇“編輯定義”，將陣列成員數(shù)該為“20”，確定，結(jié)果如下圖2。6)右鍵單擊剛剛做好的陣列特征，在快捷菜單中選擇“編輯定義”，在操控板單擊“選項(xiàng)”，將草繪“平面上成員的方向”改為常數(shù)，確定，

16、結(jié)果如下圖3。右鍵單擊剛剛做好的陣列特征，在快捷菜單中選擇“編輯定義”，在操控板單擊“選項(xiàng)”，勾選跟隨平面，在視圖中選擇曲面“拉伸4”，確定，結(jié)果如下圖4。22.jpg (30.84 kb)2008-12-9 10:349、創(chuàng)建關(guān)系陣列關(guān)系陣列其實(shí)是屬于尺寸陣列，只有在陣列類(lèi)型設(shè)置為尺寸時(shí)，才可以使用關(guān)系式來(lái)定義尺寸的變化。之所以把關(guān)系陣列單獨(dú)列出來(lái)講，一 是因?yàn)殛P(guān)系陣列問(wèn)的人比較多，大家可能都比較感興趣，二是因?yàn)殛P(guān)系陣列稍微有點(diǎn)復(fù)雜，需要一定的數(shù)學(xué)基礎(chǔ)和編程基礎(chǔ)。關(guān)系陣列即用關(guān)系式來(lái)確定陣列的變化形式，屬于尺寸陣列尺寸陣列本身功能就非常強(qiáng)大，形式很靈活，并且陣列導(dǎo)引和陣列成員的參照完全一樣，

17、這點(diǎn)和其他陣列類(lèi)型稍有不同（參照前面講的尺寸陣列），所以，就要求陣列導(dǎo)引在創(chuàng)建的時(shí)候一定要考慮全面，選擇合適的尺寸和參照。否則，非常容易出錯(cuò)。在proe中尺寸有兩種表示形式，一種是直接用數(shù)值表示，另外一種用“字母+數(shù)字”的形式來(lái)表示，相當(dāng)于該尺寸的代號(hào)，這樣，就可以使用關(guān)系式了，否則，關(guān)系式中要用到的尺寸就會(huì)始終為常量了。如下圖所示，左邊圖形中孔的尺寸是用數(shù)值顯示的，右邊圖形中孔的尺寸使用“字母+數(shù)字”的形式顯示的。要切換尺寸的顯示，可單擊菜單“信息”“切換尺寸”即可。或在關(guān)系窗口中單擊菜單“實(shí)用工具”“切換尺寸”亦可。z34.jpg (24.33 kb)2008-12-9 21:19下面，由

18、淺入深，來(lái)講述怎樣創(chuàng)建關(guān)系陣列。a)以top平面為草繪平面，做長(zhǎng)方體，200*80*10，最好讓該長(zhǎng)方體關(guān)于right平面和front平面都對(duì)稱(chēng)。然后在該長(zhǎng)方體上表面打孔，使用線(xiàn)性孔放置類(lèi)型，尺寸如上圖所示b)接下來(lái)將該孔沿著尺寸15的方向在板上陣列10個(gè)，要求無(wú)論板的尺寸以后如何變化，陣列出來(lái)的10個(gè)孔在板上都要均勻分布，這就要用到最簡(jiǎn)單的關(guān)系陣列了。 (1)首先分析一下該關(guān)系如何來(lái)寫(xiě)。如下圖所示，板的長(zhǎng)度尺寸是“d2”，孔距離板左邊尺寸為“d462”，要想讓10個(gè)孔在 板上均勻分布，則兩兩孔之間的間距為：（d22d462）/9。z35.jpg (17.47 kb)2008-12-9 21:

19、37 (2)將上述關(guān)系式添加到陣列尺寸中 l右鍵單擊模型樹(shù)上的“孔1”，在快捷菜單中選擇“陣列” l確定陣列類(lèi)型為“尺寸”（1），單擊孔定位尺寸“15”（2），將該尺寸作為陣列的導(dǎo)引尺寸，在操控板中將陣列數(shù)目改為“10”（3），然后單擊操控板左上角“尺寸”按鈕（4），選中方向1下列表框中的尺寸“d462”（5），勾選“按關(guān)系定義增量”（6），單擊“編輯”按鈕（7），就可進(jìn)入陣列關(guān)系編輯器窗口。z36.jpg (28.6 kb)2008-12-9 21:37l在陣列關(guān)系中，以下幾個(gè)參數(shù)必須要有所了解memb_v 指定方向中的關(guān)系驅(qū)動(dòng)最終尺寸，也就是陣列成員在陣列方向上變化后的實(shí)際尺寸。如下圖所示

20、，第4個(gè)孔的陣列尺寸如用memb_v表示，則是孔到板最左邊的距離。 memb_i 指定方向中的關(guān)系驅(qū)動(dòng)增量，即陣列實(shí)例兩兩之間的間隔。memb_v和memb_i都可以表示陣列成員的尺寸變化，但在同一個(gè)關(guān)系式中不可同時(shí)使用。 lead_v leader 值(選取尺寸確定方向)，陣列導(dǎo)引的尺寸值，在下圖中為15，始終不會(huì)發(fā)生變化。 idx1 在第一方向上的陣列實(shí)例索引，原始特征為0，依次為1、2 。 idx2在第二方向的陣列實(shí)例索引，原始特征為0，依次為1、2 。z37.jpg (20.37 kb)2008-12-9 21:37l在陣列關(guān)系式編輯器中輸入公式memb_i=(d2-2*d462)/9

21、，對(duì)于尺寸d2和d462，也可以在模型視圖中直接選擇，該尺寸將會(huì)自動(dòng)添加到關(guān)系式編輯器。注意，在輸入時(shí)所有符號(hào)必須用英文狀態(tài)下的符號(hào)，否則無(wú)效（和c語(yǔ)言一樣）。如下圖所示。z38.jpg (15.04 kb)2008-12-9 21:37 (3)最終結(jié)果如下圖所示。z39.jpg (9.39 kb)2008-12-9 21:37 (4)右鍵單擊“拉伸1”特征，選擇編輯定義，將板的尺寸改為100，確定，結(jié)果如下，可見(jiàn)，無(wú)論板的尺寸如何發(fā)生變化，陣列出來(lái)的10個(gè)孔在板上都是均勻分布的。z40.jpg (8.23 kb)2008-12-9 21:49 c)返回到第（3）步，接下來(lái)演示如何讓上述陣列的

22、10個(gè)孔在豎直方向上按正弦規(guī)律變化，振幅為30。 l右鍵單價(jià)剛剛做好的陣列特征編輯定義，按住ctrl鍵將孔豎直方向定位尺寸添加到方向1列表框中（1），選中該尺寸（2），勾選“按關(guān)系定義增量”（3），單擊“編輯”按鈕（4），在關(guān)系編輯器中輸入公式：memb_v=lead_v+30*sin(360/9*idx1)（5）如下圖所示。z41.jpg (31.09 kb)2008-12-9 21:49l確定，最終效果如下圖z42.jpg (13.64 kb)2008-12-9 21:49 d)若要更改陣列的數(shù)目，可在陣列特征上單擊右鍵編輯，如尺寸按數(shù)值顯示，可再單擊菜單信息更改尺寸，記下該陣列成員數(shù)的尺

23、寸代號(hào)，在本例中為p535。如下圖所示。然后編輯陣列特征，將上述兩個(gè)關(guān)系式中陣列數(shù)目9改為尺寸代號(hào)“p353”。確定。l編輯陣列，將數(shù)目給為20，最終效果如下圖z43.jpg (18.21 kb)2008-12-9 21:49l同理，可將孔直徑在陣列方向設(shè)為按余弦規(guī)律變化，略。 e)在關(guān)系式中，還可以使用一些簡(jiǎn)單的編程語(yǔ)句和函數(shù)，如if語(yǔ)句，string_length()函數(shù)等等，接下來(lái)演示一個(gè)簡(jiǎn)單的if語(yǔ)句關(guān)系式l編輯陣列，將該陣列豎直方向尺寸的關(guān)系改為下圖所示z44.jpg (34.61 kb)2008-12-9 21:49“offset”為用戶(hù)定義變量，“”表示的是指數(shù)符號(hào)該關(guān)系式的含義

24、為：如果陣列成員的索引為奇數(shù)，則豎直方向尺寸為“l(fā)ead_v+20”，如果為偶數(shù)，則保持不變，始終為“l(fā)ead_v”。最終效果如下圖z45.jpg (11.21 kb)2008-12-9 21:49 f)在關(guān)系式中，也可以使用圖形特征（即graph）來(lái)定義關(guān)系式，即用控制圖標(biāo)來(lái)控制陣列的走勢(shì)。graph格式如下：sd#=evalgraph（圖形特征的名稱(chēng)，x的范圍） 舉例說(shuō)明。l在陣列導(dǎo)引之前創(chuàng)建一個(gè)名為gra1的圖形特征，如下圖所示。在該圖形當(dāng)中有11個(gè)點(diǎn)（實(shí)際上只用到了10個(gè)點(diǎn)）每個(gè)點(diǎn)的x坐標(biāo)依次為0、1、2，陣列時(shí)用這些點(diǎn)對(duì)應(yīng)的y坐標(biāo)控制陣列尺寸變化z46.jpg (18.64 kb)2008-12-9 21:49l右鍵單擊陣列特征，編輯定義，將該陣列豎直方向尺寸的關(guān)系改為下圖所示。該關(guān)系式含義：如果陣列索引小于10，則memb_v為導(dǎo)引尺寸加上圖形中相應(yīng)y坐標(biāo)的數(shù)值的6倍。大于10后，則memb_v為導(dǎo)引尺寸減去圖形中相應(yīng)y坐標(biāo)的數(shù)值的6倍。有點(diǎn)亂，呵呵z47.jpg (40.25 kb)2008-12-9 21:49l確定，預(yù)覽效果如下z48.jpg (11.75 kb)2008-12-9 21:4910、陣列實(shí)例作出下圖所示陣列，步驟略z49.jpg (8