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文檔簡介

1、第四章第四章 配位滴定法配位滴定法 (Complexometry) (Complexometry) Limin Shao USTC. All rights reserved.第一節(jié)第一節(jié) 配位反應及配位反應及 EDTA EDTA 第四章一、配位反應及滴定分析 第四章第一節(jié)配位反應非常多,但可用于滴定分析的很少?!肮糠ā?,利用 Hg2+ 和 Cl- 或 SCN- 形成穩(wěn)定配合物 HgCl2,Hg(SCN)2 進行滴定分析?!扒枇糠ā?,利用 CN- 和 Ag+ 或 Ni2+ 形成穩(wěn)定配合物 Ag(CN)2-,Ni(CN)42- 進行滴定分析。滴定分析中普遍應用的是氨羧類配位劑和金屬離子的配位反應

2、。二、EDTA 第四章第一節(jié)N CH2 CH2 NCH2COOHCH2COOHHOOCH2CHOOCH2CEDTA 微溶于水,實際中常用 EDTA 二鈉鹽,Na2H2Y。(溶解度分別為 0.2, 111 gL-1)EDTA 相當于六元酸。EDTA 是最重要的螯合劑(chelator)之一。三、EDTA 配位反應 第四章第一節(jié)EDTA 和大多數(shù)金屬離子生成1:1的螯合物。如,M2+ + H2Y2- MY2- + 2H+EDTA 和無色金屬離子生成的螯合物為無色;和有色金屬離子生成顏色更深的螯合物。EDTA 和大多數(shù)金屬離子在室溫下可以快速反應。EDTA 和金屬離子的反應體系須控制酸度。四、MY

3、螯合物的立體結構 第四章第一節(jié)第二節(jié)第二節(jié) 配位平衡配位平衡第四章一、基礎概念 第四章第二節(jié)金屬離子 M 和配體 L 的配位反應,M + L MLMLMLK平衡時,K 即為配合物 ML 的穩(wěn)定常數(shù),又稱形成常數(shù)(formation constant)。一、基礎概念 第四章第二節(jié)金屬離子 M 和配體 L 可以形成多級配合物。M + L MLMLML1KML + L ML2MLLML22KMLn-1 + L MLnLMLML1-nnnK一、基礎概念 第四章第二節(jié)金屬離子 M 和配體 L 可以形成多級配合物。M + L ML11MLMLKM + 2L ML221222MLMLKKM + nL MLn

4、nnnnKKK.21MLML二、處理 EDTA 配位平衡的方法 第四章第二節(jié)滴定反應足夠簡單:M + Y MY副反應非常復雜:HY, H2Y, , H6YNYML, ML1, , MLn(N與L為干擾金屬離子和配體)基本定量關系成立:物料平衡和電荷平衡引入“表觀濃度”、“副反應系數(shù)”和“條件穩(wěn)定常數(shù)”三個概念三、表觀濃度(Apparent Concentration) 第四章第二節(jié)“表觀濃度” 的定義:未參加滴定反應(主反應)的那部分組分的濃度?;蛘撸瑓⒓恿朔堑味ǚ磻ǜ狈磻┖鸵杂坞x形式存在的組分的濃度?!氨碛^濃度”的作用:在副反應較復雜的情況下,忽略副反應的具體形式。反應物的去向只有兩個:

5、主反應和副反應(定量地表現(xiàn)為“表觀濃度”)。以“非此即彼”的二元方式考慮復雜配位體系。三、表觀濃度(Apparent Concentration) 第四章第二節(jié)表觀濃度優(yōu)越性示例1. 任何情況下, Msp = Ysp2. M 或者 Y 的數(shù)值非常小,因此數(shù)值運算誤差可能較大。運算中使用 M 或者 Y 能夠有效降低數(shù)值運算誤差B 為副反應組分;四、副反應系數(shù) 第四章第二節(jié)某組分的表觀濃度(由于副反應的影響,未參與滴定反應(主反應)的總濃度)與其平衡濃度之比,為該組分的副反應系數(shù)。其中, 為組分 A 的副反應系數(shù);AAA(B)A 表示組分 A 的表觀濃度;A 表示組分 A 的平衡濃度。 ( 注意:

6、A 中包括 A)主反應:M + Y MY 所以 Y = Y + HY + H2Y + + H5Y + H6Y四、副反應系數(shù) 第四章第二節(jié)副反應:Y 的水解(和 H+ 的副反應)所以,YYY(H)Y(H) 也稱 EDTA 的酸效應系數(shù),僅與H+有關,在緩沖溶液控制的配位滴定中,為定值。四、副反應系數(shù) 第四章第二節(jié)主反應:M + Y MY 所以 Y = Y + NY副反應:N + Y NY 所以,N1YNYYNYY(N)K四、副反應系數(shù) 第四章第二節(jié)主反應:M + Y MY 所以 M = M + ML + ML2 + + MLn副反應:M + L ML, M + 2L ML2, , M + nL

7、MLn 所以,MMLMLMLM2M(L)n.nnLLL1221.四、副反應系數(shù) 第四章第二節(jié)例 通過 EDTA 配位滴定法測定 Zn2+。在 pH = 11.00 的 Zn2+ 溶液中,加入 NH3 使體系達到平衡后游離 NH3 的濃度為 0.10 molL-1,求Zn。五、條件穩(wěn)定常數(shù) 第四章第二節(jié)對于金屬離子 M 和 EDTA 的反應實際存在副反應的情況下,M = MM, Y = YY,(忽略 MY 的副反應),所以 M + Y MY MYMYK穩(wěn)定常數(shù)為。YMMYYMK定義條件穩(wěn)定常數(shù) K = K/(MY),或者 logK = logK - logM - logY(忽略 MY 的副反應)

8、。六、配位平衡體系定量計算的要點 第四章第二節(jié)定量關系:物料平衡(MBE)基本概念:表觀濃度;副反應系數(shù);條件穩(wěn)定常數(shù)計算公式:計算 M;計算 Y ;計算KMY六、配位平衡體系定量計算例題 第四章第二節(jié)例 以 0.02 molL-1 的 EDTA 滴定同濃度的 Cu2+,控制 pH = 5.00。計算 sp 時游離的以及未參加滴定反應的 Cu2+ 濃度;游離的以及未參加滴定反應的 EDTA 濃度。第三節(jié)第三節(jié) 配位滴定法基本原理配位滴定法基本原理第四章一、配位滴定過程第四章第三節(jié)以 0.1000 molL-1 的 EDTA 溶液滴定同濃度的 20.00 mL 的 Ca2+ 溶液,滴定過程中控制

9、 pH = 10。設加入滴定劑的體積為 V,則cEDTA = CaY + Y = 0.1V / (V + 20)cCa2+ = CaY + Ca = 2 / (V + 20)由此可得出 pCa 與 V 的函數(shù)關系,滴定曲線。條件穩(wěn)定常數(shù):YaCYCaK一、配位滴定過程第四章第三節(jié)一、配位滴定過程第四章第三節(jié)被測組分被滴定至 99.9% 和 100.1% 時體系 pM 的變化。螯合物的條件穩(wěn)定常數(shù)越大,濃度越高,滴定突躍越大。選擇能夠在滴定突躍內變色的指示劑。KMYcsp 106csp 金屬離子在化學計量點的分析濃度。此時終點誤差小于 0.1%。二、配位滴定終點誤差第四章第三節(jié)%)(100101

10、0MYspMMpMptKcTEE 為化學計量點時,M 離子的分析濃度;KMY為條件穩(wěn)定常數(shù);pM = pMep pMsp 。spMcpMsp 如何計算?二、配位滴定終點誤差第四章第三節(jié)林邦公式是一個近似公式,只有在 pM 較小時,結果才比較準確1. 林邦公式要求滴定反應方程式中反應物的化學計量關系是1:12. 林邦公式在配位滴定中應用廣泛,也僅在配位滴定中應用廣泛3. 三、金屬離子指示劑第四章第三節(jié)終點前,M + In MIn配合物MIn的顏色終點時,MIn + Y MY + In螯合物 MY 和組分 In 的顏色MIn(H)MInMIneploglogloglogMpKK終點時,指示劑的理論

11、變色點:MInep = Inep其中,M 為金屬離子的總副反應系數(shù),In(H)MIntloglogpMKEDTA 滴定金屬離子四、終點誤差計算示例第四章第三節(jié)例 在 pH = 10.00 的氨性溶液中,以鉻黑T為指示劑,用 0.020 molL-1 的 EDTA 滴定同濃度的 Zn2+。終點時游離 NH3 的濃度為 0.20 molL-1,求 Et。(Et = -0.016%)pZnt|鉻黑T, pH=10.00 = 12.2, KZnY = 3.161016, Y(H)|pH=10.00 = 2.82, Zn2+-NH3配離子:1 = 2.34102, 2 = 6.46104, 3 = 2.

12、04107, 4 = 2.88109Zn2+-OH配離子:1 = 2.51104, 2 = 1.261010, 3 = 1.581014, 4 = 3.161015五、終點誤差的另一種計算方法第四章第三節(jié)未知:MYep, Mep, Yep, R 未知:Mep, Yep, R 未知:Mep, R 未知:R 以Vsp和Vep分別表示滴定劑在 sp 和 ep 時的加入體積。用Vsp表示出被測物溶液的體積,進而以Vsp和Vep表示出終點時溶液的總體積。令 R = Vep / Vsp1. MYep + Mep = cM,epMYep + Yep = cY ,ep2. 將KMY代入MBE,消去MYep3.

13、 通過兩個MBE,消去Yep 4. Mep = 10pMtM 5. Et = (R 1) x 100%6. 五、滴定體系 pH 值的控制第四章第三節(jié)H+ 的升高會導致 Y(H) 的加大,從而導致 KMY 的減小,最終導致滴定誤差增大。根據(jù)終點誤差公式和允許誤差來計算。OH- 足夠高時,配位滴定反應的金屬離子發(fā)生沉淀。根據(jù)沉淀的溶度積常數(shù)計算。五、滴定體系 pH 值的控制第四章第三節(jié)例 用 0.010 molL-1 的 EDTA 滴定同濃度的 Fe3+,要求終點誤差 Et 小于 0.1%,pM = 0.2,求最高酸度和最低酸度。(1.2, 1.8)五、滴定體系 pH 值的控制第四章第三節(jié)pM等于

14、零時的 pH 值。此時滴定誤差(理論上)為零。即使在最佳 pH 下,目測指示劑變色仍有 pM = 0.2 的不確定性,所以實際滴定誤差不為零。最佳 pH 是 pMep pH 曲線和 pMsp pH 曲線的交點。第四節(jié)第四節(jié) 混合離子的選擇滴定混合離子的選擇滴定第四章一、選擇性滴定第四章第四節(jié)溶液中存在被測離子 M 和干擾離子 N,判斷離子 N 的干擾是否導致終點誤差超出允許值。若不特別指明,|pM| = 0.2, |Et| 0.1%。例 用 2.010-3 molL-1的 EDTA 滴定同濃度的La3+ 溶液,pH = 5.50,其中有 5.010-2 molL-1的Mg2+,能否準確滴定?“能否準確滴定?”等價于“在 |pM| = 0.2 的情況下,|Et| 是否小于 0.1%?”epep2ep2ep1epepNNYLLL(1N).kkc二、配位掩蔽法第四章第四節(jié)在滴定體系中加入某配體 L,與干擾離子 N 形成更穩(wěn)定配合物。干擾離子 N 的游離濃度被降低,對滴定反應的影響因此減小。掩蔽劑 L 是大量的,滴定劑 Y 逐滴加入,所以 NY可以忽略。KMY = KMY / M / (Y(H

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