2016年版中國(guó)光刻膠行業(yè)分析報(bào)告

1、2021年中國(guó)光刻膠行業(yè)分析報(bào)告【2021年08月】目錄第一節(jié)光刻膠的概述6、光亥U膠的定義 6二、光刻膠分類(lèi)7三、光刻膠的技術(shù)參數(shù)9第二節(jié)光刻膠的開(kāi)展 10一、光刻膠的開(kāi)展歷史 10二、新一代光刻技術(shù)14三、世界光刻膠開(kāi)展瓶頸16四、中國(guó)光刻膠開(kāi)展瓶頸 17第三節(jié)光刻膠的應(yīng)用 18一、半導(dǎo)體光亥U膠 1.9.二、液晶顯示LCD 24.三、印刷電路板PCB 32第四節(jié)中國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)37第五節(jié)世界光刻膠產(chǎn)業(yè)47圖表目錄圖表1:光刻膠工作原理示意圖 7.圖表2:紫外負(fù)型光刻膠機(jī)理 11圖表3:紫外正型光刻膠感光機(jī)理 11圖表4:248nm光刻膠成像機(jī)理 12圖表5: 193nm浸沒(méi)式光刻機(jī)原理 1

2、4圖表6: 2021年光刻膠下游應(yīng)用格局分布 19圖表7:集成電路光刻蝕刻工藝流程以多晶硅刻蝕及離子注入為例 20圖表8:中國(guó)集成電路產(chǎn)值規(guī)模及增速 21圖表9:中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)銷(xiāo)售額 21圖表10: 2021年12寸晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能 22圖表11:光刻膠市場(chǎng)需求情況 23圖表12:STN-LCD理24圖表13:TFT-LC原理25圖表14: TFT-LC睇列制程工藝示意圖 26圖表15:LCD產(chǎn)業(yè)鏈26圖表16:液晶面板出貨量及增速 27圖表17: LCD產(chǎn)業(yè)鏈微笑曲線(xiàn)毛利率情況 29圖表18:全球LCDt刻膠市場(chǎng)規(guī)模 30圖表19:中國(guó)LCDt刻膠市場(chǎng)規(guī)模 31圖表20: PCBS用類(lèi)另J及產(chǎn)值3

3、2圖表21 : PCB亍業(yè)產(chǎn)值33圖表22: PCB亍業(yè)增速33圖表23:中國(guó)PCBt刻膠市場(chǎng)規(guī)模 34圖表24:中國(guó)PCBt致抗蝕干膜進(jìn)出口數(shù)量 35圖表25:蘇州晶瑞營(yíng)業(yè)收入百萬(wàn)元 39圖表26:蘇州晶瑞研發(fā)投入費(fèi)用百萬(wàn)元 39圖表27:蘇州晶瑞利潤(rùn)結(jié)構(gòu) 40圖表28:蘇州晶瑞毛利率 .40.圖表29:強(qiáng)力新材營(yíng)業(yè)收入百萬(wàn)元 44圖表30:強(qiáng)力新材研發(fā)投入費(fèi)用百萬(wàn)元 44圖表31:強(qiáng)力新材利潤(rùn)結(jié)構(gòu) 45圖表 32: 強(qiáng)力新材毛禾率 .45表格目錄表格1：根據(jù)感光樹(shù)脂的光刻膠分類(lèi)8表格2:根據(jù)曝光波長(zhǎng)的光刻膠分類(lèi) 9表格3:光刻技術(shù)與集成電路開(kāi)展關(guān)系 17表格4:光刻膠的分類(lèi) 1.8.表格5

4、:中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)銷(xiāo)售情況 23表格6:國(guó)內(nèi)高世代線(xiàn)一覽表局部 28表格7: PCBt刻膠在華外國(guó)產(chǎn)商 36表格8:光刻膠國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程37表格9:蘇州晶瑞現(xiàn)有產(chǎn)能產(chǎn)量一覽表 41表格10:世界主要光刻膠產(chǎn)商48論中國(guó)光刻膠行業(yè)的開(kāi)展站在這個(gè)時(shí)間點(diǎn),我們之所以推出關(guān)鍵電子化學(xué)品系列報(bào)告,是由于我們看到了如下的行業(yè)趨勢(shì)：第一：中國(guó)半導(dǎo)體材料的開(kāi)展已經(jīng)嚴(yán)重落后于下游的開(kāi)展.根據(jù)市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu)ICInsights的數(shù)據(jù),2021年世界十大芯片設(shè)計(jì)公司中,中國(guó)的海思和展訊位居第6和第10 位,分別是38.3億美元和18.8億美元.2021前十大半導(dǎo)體晶圓代工企業(yè)當(dāng)中, 中芯國(guó)際 和華虹半導(dǎo)體位居第5和第

5、10位.中國(guó)半導(dǎo)體材料企業(yè)的規(guī)模、技術(shù)離全 球領(lǐng)先差距 巨大.第二：全成12寸晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能向中國(guó)轉(zhuǎn)移已成定局.大陸現(xiàn)有的 12寸晶圓廠(chǎng)產(chǎn) 能總計(jì)共42萬(wàn)片/月,2021-2021年大陸新增的12寸晶圓廠(chǎng)總產(chǎn)能將高達(dá) 63.50萬(wàn)片 /月,占全球12寸晶圓廠(chǎng)的產(chǎn)能比重將由2021年的10漁升至2021年的22%.第三：國(guó)家意志必然要求材料的國(guó)產(chǎn)化.國(guó)家中長(zhǎng)期科技開(kāi)展規(guī)劃要求到 2021年國(guó) 產(chǎn)材料國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有率到達(dá) 50%以上.目前中芯國(guó)際、華虹半導(dǎo)體均已經(jīng)啟動(dòng)了材 料國(guó) 產(chǎn)化的進(jìn)程.如中芯國(guó)際在北京的12寸集成電路廠(chǎng)工廠(chǎng)已啟動(dòng)30%國(guó)產(chǎn)化采購(gòu)的 目標(biāo). 目前國(guó)內(nèi)原材料供給商在靶材、電子特氣上面的

6、差距較小,濕電子化學(xué)品方面 開(kāi)展迅速, 但在光刻膠和硅片方面面臨挑戰(zhàn).第四：半導(dǎo)體價(jià)值鏈從倒三角形,向菱形的轉(zhuǎn)變,也為中國(guó)的半導(dǎo)體材料行業(yè)發(fā) 展 提供了開(kāi)展的空間.原先半導(dǎo)體的價(jià)值分布,高端的產(chǎn)品占據(jù)了主要的市場(chǎng)份額.但物聯(lián)網(wǎng)、汽車(chē)電子的興起,使得其價(jià)值分布向菱形方向開(kāi)展,有一個(gè)厚厚的腰部.在我們跟全球半導(dǎo)體技術(shù)有差距并且瓦森納協(xié)定制約了我們獲取最先進(jìn)技術(shù)水平的背 景下,有 著極為重大的現(xiàn)實(shí)意義.具體到光刻膠,光刻是集成電路加工過(guò)程中的最為關(guān)鍵的工藝.光刻工藝的本錢(qián)約為整個(gè)芯片制造工藝的35%并且消耗時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的 40%-60%光刻步驟的 核心原材料是光刻膠,其質(zhì)量和性能是影響集成電

7、路性能、 成品率及可靠性的關(guān) 鍵因素, 因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料.但是目前光刻膠的國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程面臨極大的挑戰(zhàn),遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于靶材、電子特氣和化 學(xué)品方面.這是由于光刻技術(shù)的開(kāi)展是由光刻機(jī),掩膜板,光刻膠這三者相輔相成地 開(kāi)展.光刻膠研發(fā)出來(lái)是要通過(guò)光刻機(jī)的使用測(cè)試才能驗(yàn)證其性能.沒(méi)有對(duì)應(yīng)的光刻機(jī),研制光刻膠就是紙上談兵,沒(méi)有根底.然而光刻機(jī)價(jià)格昂貴遠(yuǎn)超中國(guó)目前單個(gè)光 刻 膠企業(yè)所能承受.最新的EUV光刻機(jī),售價(jià)近億美金如果考慮相關(guān)的配套,相應(yīng) 的投 入應(yīng)該在10億人民幣以上,退一步講就是193nm光刻機(jī),售價(jià)也在上千萬(wàn)美 元.同 時(shí)由于瓦森納協(xié)定,興旺國(guó)家對(duì)出口中國(guó)的光刻機(jī)有限制,所

8、以中國(guó)廠(chǎng)商即使 有錢(qián),也 買(mǎi)不到先進(jìn)的光刻機(jī).破解這一難題的有效方法有兩個(gè)：第一是建立共享的國(guó)家級(jí)光刻膠研發(fā)平臺(tái).由 國(guó) 家投入資金統(tǒng)一采購(gòu)相關(guān)的光刻機(jī)設(shè)備,相關(guān)的企業(yè)可以提出使用時(shí)段的申請(qǐng),大 大降 低了企業(yè)的資金門(mén)檻,可以專(zhuān)注于光刻膠材料體系的研發(fā)；第二是并購(gòu).跨國(guó)并 購(gòu)是快 速獲取技術(shù)的有效手段,我們篩選出了 6家市值在100億人民幣以下的國(guó)際光 刻膠企業(yè), 建議國(guó)內(nèi)上市公司關(guān)注,他們分別是臺(tái)灣長(zhǎng)興化學(xué)、日本東京應(yīng)化、日本 東洋油墨、日 本ADEKA韓國(guó)錦湖化學(xué).第一節(jié)光刻膠的概述電子化學(xué)品是電子工業(yè)中的關(guān)鍵性根底化工材料,電子工業(yè)的開(kāi)展要求電子化學(xué) 品與之同步開(kāi)展,不斷地更新?lián)Q代,以適應(yīng)其在技術(shù)方面不斷推陳出新的需要.特別 是在集成電路IC的細(xì)微加工過(guò)程中所需的關(guān)鍵性電子化學(xué)品主要包括：光刻膠又 稱(chēng)光致抗蝕劑、超凈高純?cè)噭┯址Q(chēng)工藝化學(xué)品、特種電子氣體和環(huán)氧塑封料,其 中超凈高純?cè)噭⒐饪棠z、特種電子氣體用于前工序,環(huán)氧塑封料用于后工序.這些 微電子化工材料約占IC材料總本錢(qián)的20%,其中超凈高Z©式劑約占5%,光刻膠約占4%.一、光刻膠的定義光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑,又稱(chēng)光致抗蝕劑,由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑三種主 要 成分組成的對(duì)光敏感的混合液體.感光樹(shù)脂經(jīng)光照后,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固 化反 應(yīng),使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發(fā)生