撰寫專利的格式及要求

1、精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上 1、一種，包括其特征. 2、根據(jù)權(quán)利要求1所述。，其特征在于，所訴。 3、根據(jù)權(quán)利要求N所述。，其特征在于，所述。(1)在理解發(fā)明和實(shí)用新型的基礎(chǔ)上，找出其主要技術(shù)特征，弄清各技術(shù)特征之間的關(guān)系及其所起的作用； (2)根據(jù)檢索和調(diào)研到的現(xiàn)有技術(shù)，確定與本發(fā)明或?qū)嵱眯滦妥罱咏膶?duì)比文件； (3)根據(jù)最接近的對(duì)比文件，進(jìn)一步確定本發(fā)明或?qū)嵱眯滦退鉀Q的技術(shù)問(wèn)題，列出本發(fā)明或?qū)嵱眯滦蜑榻鉀Q該技術(shù)問(wèn)題所必須包括的全部必要技術(shù)征；4)與最接近的現(xiàn)有技術(shù)作比較，將它們共同的必要技術(shù)特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求的前序部分，本發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛥^(qū)別于最接近現(xiàn)有技術(shù)的必要技術(shù)特征寫入特征部分，從

2、而完成獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫； (5)對(duì)其它附加技術(shù)特征進(jìn)行分析，利用那些對(duì)申請(qǐng)創(chuàng)造性會(huì)起作用的附加技術(shù)特征寫成相應(yīng)的從屬權(quán)利要求。撰寫時(shí)應(yīng)注意的兩個(gè)問(wèn)題 （1）盡量撰寫出一個(gè)保護(hù)范圍較寬的獨(dú)立權(quán)利要求，撰寫時(shí)不要局限于發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷木唧w實(shí)施方式，應(yīng)盡可能采取概括性描述來(lái)表達(dá)技術(shù)特征。 （2）為增加專利申請(qǐng)取得專利的可能性和在批準(zhǔn)專利后更有利于維護(hù)專利權(quán)，應(yīng)針對(duì)不同的具體實(shí)施方式撰寫從屬權(quán)利要求，層層設(shè)防。 專心-專注-專業(yè) 。技術(shù)領(lǐng)域：本實(shí)用新型涉及一種。，具體涉及（講）。背景技術(shù)：寫明發(fā)明或者實(shí)用新型的理解、檢索、審查有用的背景技術(shù);有可能的并引證反映這些背景技術(shù)的文件本實(shí)用新型要解決的技術(shù)

3、問(wèn)題是，寫明對(duì)發(fā)明或者實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題以及解決其技術(shù)問(wèn)題采用的技術(shù)方案，并對(duì)照現(xiàn)有技術(shù)寫明發(fā)明或者實(shí)用新型的有益效果。為了解決上述技術(shù)， 技術(shù)中存在的問(wèn)題和缺點(diǎn)實(shí)事求是地說(shuō)明要解決的技術(shù)問(wèn)題，公開每個(gè)要解決的技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)解決方案上述。上述。 附圖說(shuō)明：圖1為實(shí)用新型中。的結(jié)構(gòu)示意圖圖2為實(shí)用新型中。的結(jié)構(gòu)示意圖具體實(shí)施方式：下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明：如圖。所示化學(xué)領(lǐng)域充分公開的特殊要求 化學(xué)產(chǎn)品化學(xué)產(chǎn)品的確認(rèn)、制備、用途和使用效果 化學(xué)方法原料物質(zhì)、工藝步驟和工藝條件，方法對(duì) 目的物質(zhì)性能的影響 化學(xué)產(chǎn)品用途發(fā)明所使用的化學(xué)產(chǎn)品、使用方法和 所取得的效果

4、-權(quán)利要求以說(shuō)明書為依據(jù)與實(shí)施例的數(shù)量的關(guān)系 概括性描述、功能性限定、數(shù)值范圍 -為防止出現(xiàn)專利申請(qǐng)文件修改超范圍應(yīng)當(dāng)盡可能在原申請(qǐng)文件中寫明可能需進(jìn)行概括的技術(shù)特征或優(yōu)選的技術(shù)特征說(shuō)明摘要： 摘要也是申請(qǐng)文件之一，雖然對(duì)所提交的申請(qǐng)無(wú)法律效力，如，不能用來(lái)解釋專利保護(hù)的范圍；不能用來(lái)判斷是否增加了新的技術(shù)內(nèi)容，但其撰寫也必須符合專利法實(shí)施細(xì)則第二十四條的規(guī)定：說(shuō)明書摘要應(yīng)當(dāng)寫明發(fā)明或者實(shí)用新型專利申請(qǐng)所公開內(nèi)容的概要，即寫明發(fā)明或者實(shí)用新型所屬的技術(shù)領(lǐng)域，并清楚地反映所要解決的技術(shù)問(wèn)題、解決該問(wèn)題的技術(shù)方案的要點(diǎn)以及主要用途說(shuō)明書摘要可以包含最能說(shuō)明發(fā)明的化學(xué)式；有附圖的專利申請(qǐng)，還應(yīng)當(dāng)提供一幅最能說(shuō)明該發(fā)明或者實(shí)用新型技術(shù)特征的附圖。附圖的大小及清晰度