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1、印制板鍍金工藝的釬焊性和鍵合功能 摘要 通常的置換鍍金(IG)液能夠腐蝕化學(xué)鍍鎳(EN)層,其結(jié)果是形成置換金層,并將磷殘留在化學(xué)鍍鎳層表面,使EN/IG兩層之間容易形成黑色(焊)區(qū)(Black pad),它在焊接時(shí)常造成焊接不牢(Solder Joint Failure)金層利落(Peeling)。延長(zhǎng)鍍金的時(shí)間雖可得加較厚的金層,但金層的結(jié)合力和鍵合性能迅速下降。本文比較了各種印制板鍍金工藝組合的釬焊性和鍵合功能,探討了形成黑色焊區(qū)的條件與機(jī)理,同時(shí)發(fā)現(xiàn)用中性化學(xué)鍍金是解決印制板化學(xué)鍍鎳/置換鍍金時(shí)出現(xiàn)黑色焊區(qū)問題的有效方法,也是取代電鍍鎳/電
2、鍍軟金工藝用于金線鍵合(Gold Wire Bonding)的有效工藝。一 引言 隨著電子設(shè)備的線路設(shè)計(jì)越來越復(fù)雜,線路密度越來越高,分離的線路和鍵合點(diǎn)也越來越多,許多復(fù)雜的印制板要求它的最后表面化處理(Final Surface Finishing)工藝具有更多的功能。即制造工藝不僅可制成線更細(xì),孔更小,焊區(qū)更平的鍍層,而且所形成的鍍層必須是可焊的、可鍵合的、長(zhǎng)壽的,并具有低的接觸電阻。1 目前適于金線鍵合的鍍金工藝是電鍍鎳/電鍍軟金工藝,它不僅鍍層軟,純度高(最高可達(dá)9999%
3、),而且具有優(yōu)良的釬焊性和金線鍵合功能。遺憾的是它屬于電鍍型,不能用于非導(dǎo)通線路的印制板,而要將多層板的所有線路光導(dǎo)通,然后再?gòu)?fù)原,這需要花大量的人力和物力,有時(shí)幾乎是不可能實(shí)現(xiàn)的。2另外電鍍金層的厚度會(huì)隨電鍍時(shí)的電流密度而異,為保證最低電流處的厚度,電流密度高處的鍍層就要超過所要求的厚度,這不僅提高了成本,也為隨后的表面安裝帶來麻煩。 化學(xué)鍍鎳/置換鍍金工藝是全化學(xué)鍍工藝,它可用于非導(dǎo)通線路的印制板。這種鍍層組合的釬焊性優(yōu)良,但它只適于鋁線鍵合而不適于金線鍵合。通常的置換鍍金液是弱酸性的,它能腐蝕化學(xué)鍍鎳磷層(Ni2P)而形成置換鍍金層,并將磷殘
4、留在化學(xué)鍍鎳層表面,形成黑色(焊)區(qū)(Black pad),它在焊接焊常造成焊接不牢(Solder Joint Failure)或金層脫落(Peeling)。試圖通過延長(zhǎng)鍍金時(shí)間,提高金層厚度來解決這些問題,結(jié)果反而使金層的結(jié)合力和鍵合功能明顯下降。3 化學(xué)鍍鎳/化學(xué)鍍鈀/置換鍍金工藝也是全化學(xué)鍍工藝,可用于非導(dǎo)通線路的印制板,而且鍵合功能優(yōu)良,然而釬焊性并不十分好。開發(fā)這一新工藝的早期目的是用價(jià)廉的鈀代替金,然而近年來鈀價(jià)猛漲,已達(dá)金價(jià)的3倍多,因此應(yīng)用會(huì)越來越少。 化學(xué)鍍金是和還原劑使金絡(luò)離子直接被
5、還原為金屬金,它并非通過腐蝕化學(xué)鍍鎳磷合金層來沉積金。因此用化學(xué)鍍鎳/化學(xué)鍍金工藝來取代化學(xué)鍍鎳/置換鍍金工藝,就可以從根本上消除因置換反應(yīng)而引起的黑色(焊)區(qū)問題。然而普通的市售化學(xué)鍍金液大都是酸性的(PH4-6),因此它仍存在腐蝕化學(xué)鍍鎳磷合金的反應(yīng)。只有中性化學(xué)鍍金才可避免置換反應(yīng)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,若用化學(xué)鍍鎳/中性化學(xué)鍍金或化學(xué)鍍鎳/置換鍍金(<1min)/中性化學(xué)鍍金工藝,就可以獲得既無黑色焊區(qū)問題,又具有優(yōu)良的釬焊性和鋁、金線鍵合功能的鍍層,它適于COB(Chip-on-Board)、BGA(Ball Grid Arrays)、MCM(Multi-Chip Modules)和C
6、SP(Chip Scale Packages)等高難度印制板的制造。 自催化的化學(xué)鍍金工藝已進(jìn)行了許多研究,大致可分為有氰的和無氰的兩類。無氰鍍液的成本較高,而且鍍液并不十分穩(wěn)定。因此我們開發(fā)了一種以氰化金鉀為金鹽的中性化學(xué)鍍金工藝,并申請(qǐng)了專利。本文主要介紹中性化學(xué)鍍金工藝與其它咱鍍金工藝組合的釬焊性和鍵合功能。二 實(shí)驗(yàn)1 鍵合性能測(cè)試(Bonding Tests)鍵合性能測(cè)試是在AB306B型ASM裝配自動(dòng)熱聲鍵合機(jī)(ASM Assembly Automation Thermosonic Bonding Machine )
7、上進(jìn)行。圖1和圖2是鍵合測(cè)試的結(jié)構(gòu)圖。金線的一端被鍵合到金球上(見圖2左邊),稱為球鍵(Ball Bond)。金線的另一端則被鍵合到金焊區(qū)(Gold pad)(見圖2右邊),稱為楔形鏈(Wedge Bond),然后用金屬掛鉤鉤住金線并用力向上拉,直至金線斷裂并自動(dòng)記下拉斷時(shí)的拉力。若斷裂在球鍵或楔形鍵上,表示鍵合不合格。若是金線本身被拉斷,則表示鍵合良好,而拉斷金線所需的平均拉力(Average Pull Force )越大,表示鍵合強(qiáng)度越高。在本實(shí)驗(yàn)中,金球鍵的鍵合參數(shù)是:時(shí)間45ms、超聲能量設(shè)定55、力55g;而楔形鍵的鍵合參數(shù)是:時(shí)間25ms、超聲能量設(shè)定180、力155。兩處鍵合的操
8、作溫度為140,金線直徑32m(125mil)。2 釬焊性測(cè)試(Solderability Testing)釬焊性測(cè)試是在DAGE-BT 2400PC型焊料球剪切試驗(yàn)機(jī)(Millice Solder Ball Shear Test Machine)上進(jìn)行。先在焊接點(diǎn)上涂上助焊劑,再放上直徑0.5mm的焊料球,然后送入重熔(Reflow)機(jī)上受熱焊牢,最后將機(jī)器的剪切臂靠到焊料球上,用力向后推擠焊料球,直至焊料球被推離焊料接點(diǎn),機(jī)器會(huì)自動(dòng)記錄推開焊料球所需的剪切力。所需剪切力越大,表示焊接越牢。3 掃描電鏡(SEM)和X-射線電子衍射能量分析(EDX)用JSM-5310LV型JOEL掃描電鏡來分
9、析鍍層的表面結(jié)構(gòu)及剖面(Cross Section)結(jié)構(gòu),從金/鎳間的剖面結(jié)構(gòu)可以判斷是否存在黑帶(Black band)或黑牙(Black Teeth)等問題。EDX可以分析鍍層中各組成光素的相對(duì)百分含量。三 結(jié)果與討論1 在化學(xué)鍍鎳/置換鍍金層之間黑帶的形成將化學(xué)鍍鎳的印制板浸入弱酸性置換鍍金液中,置換金層將在化學(xué)鍍鎳層表面形成。若小心將置換金層剝掉,就會(huì)發(fā)現(xiàn)界面上有一層黑色的鎳層,而在此黑色鎳層的下方,仍然存在未變黑的化學(xué)鍍鎳層。有時(shí)黑色鎳層會(huì)深入到正常鍍鎳層的深處,若這層深處的黑色鎳層呈帶狀,人們稱之為“黑帶”(Black band),黑帶區(qū)磷含量高達(dá)12.84%
10、,而在政黨化學(xué)鍍鎳區(qū)磷含量只有8.02%(見圖3)。在黑帶上的金層很容易被膠帶粘住而剝落(Peeling)。有時(shí)腐蝕形成的黑色鎳層呈牙狀,人們稱之為“黑牙”(Black teeth)(見圖4)。為何在形成置換金層的同時(shí)會(huì)形成黑色鎳層呢?這要從置換反應(yīng)的機(jī)理來解釋。大家知道,化學(xué)鍍鎳層實(shí)際上是鎳磷合金鍍層(Ni2P)。在弱酸性環(huán)境中它與金液中的金氰絡(luò)離子發(fā)生下列反應(yīng):Ni2P+4Au(CN)2 4Au+2Ni(CN)42+P結(jié)果是金層的形成和鎳磷合金被金被腐蝕,其中鎳變成氰合鎳絡(luò)離子(Ni(CN)4)2,而磷則殘留在表面。磷的殘留將使化學(xué)鍍鎳層變黑,并使表面磷含量升高。為了重現(xiàn)這一現(xiàn)象,我們也發(fā)
11、現(xiàn)若將化學(xué)鍍鎳層浸入其它強(qiáng)腐蝕(Microetch)溶液中,它也同樣變黑。EDX分析表明,表面層的鎳含量由78.8%下降至48.4%,而磷的含量則由8.56%上升到13.14%。2 黑色(焊)區(qū)對(duì)釬焊性和鍵合功能的影響在焊接過程中,金和正常鎳磷合金鍍層均可以熔入焊料之中,但殘留在黑色鎳層表面的磷卻不能遷移到金層并與焊料熔合。當(dāng)大量黑色鎳層存在時(shí),其表面對(duì)焊料的潤(rùn)濕大為減低,使焊接強(qiáng)度大大減弱。此外,由于置換鍍金層的純度與厚度(約0.1m都很低。因此它最適于鋁線鍵合,而不能用于金線鍵合。3置換鍍金液的PH值對(duì)化學(xué)鍍鎳層腐蝕的影響無電(解)鍍金可通過兩種途徑得到:1) 通過置換反應(yīng)的置換鍍金(Im
12、mtrsion Gold, IG)2) 通過化學(xué)還原反應(yīng)的化學(xué)鍍金(Electroless Gold,EG)置換鍍金是通過化學(xué)鍍鎳磷層同鍍金液中的金氰絡(luò)離子的直接置換反應(yīng)而施現(xiàn)Ni2P+4Au(CN)24Au+2Ni(CN)42+P如前所述,反應(yīng)的結(jié)果是金的沉積鎳的溶解,不反應(yīng)的磷則殘留在化學(xué)鍍鎳層的表面,并在金/鎳界面上形成黑區(qū)(黑帶、黑牙等形狀)。另一方面,化學(xué)鍍金層是通過金氰絡(luò)離子接被次磷酸根還原而形成的2Au(CN)2+H2PO2 +H2O2Au +A2PO3 +4CN+H2反應(yīng)的結(jié)果是金離子被還為金屬金,而還原劑次磷酸根被氧化為亞磷酸根。因此,這與反應(yīng)并不涉及到化學(xué)鍍鎳磷合金的腐蝕或
13、磷的殘留,也就不會(huì)有黑區(qū)問題。表1用SEM剖面分析來檢測(cè)各種EN/金組合的黑帶與腐蝕結(jié)果表明,黑帶(Black Band)或黑區(qū)(Black pad)問題主要取決于鍍金溶液的PH值。PH值越低,它對(duì)化學(xué)鍍鎳層的腐蝕越快,也越容易形成黑帶。若用一步中性化學(xué)鍍金(EN/EG-1)或兩步中性化學(xué)鍍金(EN/EG-1/EG-2),就不再觀察到腐蝕或黑帶,也就不會(huì)出現(xiàn)焊接不牢的問題。4各種印制板鍍金工藝組合的釬焊性比較表2是用焊料球剪切試驗(yàn)法(Solder Ball Shear Test)測(cè)定各種印制板鍍金工藝組合所得鍍層釬焊性的結(jié)果。表中的斷裂模式(Failure mode)1表木焊料從金焊點(diǎn)(Gol
14、d pad)處斷裂;斷裂模式2表示斷裂發(fā)生在焊球本身。表2各種印制板鍍金工藝組合所得鍍層的釬焊性比較表2的結(jié)果表明,電鍍鎳/電鍍軟金具有最高的剪切強(qiáng)度(1370g)或最牢的焊接?;瘜W(xué)鍍鎳/中性化學(xué)鍍金/中性化學(xué)鍍金也顯示非常好的剪切強(qiáng)度要大于800g。5各種印制板鍍金工藝組合的金線鍵合功能比較表3是用ASM裝配自動(dòng)熱聲鍵合機(jī)測(cè)定各種印制板鍍金工藝組合所得鍍層的金線鍵合測(cè)試結(jié)果。表3各種印制板鍍金工藝組合所得鍍層的金線鍵合測(cè)試結(jié)果由表3可見,傳統(tǒng)的化學(xué)鍍鎳/置換鍍金方法所得的鍍層組合,有8個(gè)點(diǎn)斷裂在金球鍵(Ball Bond)處,有2個(gè)點(diǎn)斷裂在楔形鍵(Wedge Bond)或印制的鍍金焊點(diǎn)上(G
15、old Pad),而良好的鍵合是不允許有一點(diǎn)斷裂在球鍵與楔形鍵處。這說明化學(xué)鍍鎳/置換鍍金工藝是不能用于金線鍵合?;瘜W(xué)鍍鎳/中性化學(xué)鍍金/中性化學(xué)鍍金工藝所得鍍層的鍵合功能是優(yōu)良的,它與化學(xué)鍍鎳/化學(xué)鍍鈀/置換鍍金以及電鍍鎳/電鍍金的鍵合性能相當(dāng)。我們認(rèn)出這是因?yàn)榛瘜W(xué)鍍金層有較高的純度(磷不合共沉積)和較低硬度(98VHN25)的緣故。6化學(xué)鍍金層的厚度對(duì)金線鍵合功能的影響良好的金線鍵合要求鍍金層有一定的厚度。為此我們有各性化學(xué)鍍金方法分別鍍?nèi)?.2至0.68m厚的金層,然后測(cè)定其鍵合性能。表4列出了不同金層厚度時(shí)所得的平均拉力(Average Pull Force)和斷裂模式(Failure Mode)。表4化學(xué)鍍金層的厚度對(duì)金線鍵合功能的影響由表4可見,當(dāng)化學(xué)鍍金層厚度在0.2m時(shí),斷裂有時(shí)會(huì)出現(xiàn)在楔形鍵上,有時(shí)在金線上,這表明0.2m厚度時(shí)的金線鍵合功能是很差的。當(dāng)金層厚度達(dá)0.25m以上時(shí),斷裂均在金線上,拉斷金線所需的平均拉力也很高,說明此時(shí)的鍵合功能已很好。在實(shí)際應(yīng)用時(shí),我們控制化學(xué)鍍金層的厚度在0.5-0.6m,可比電鍍軟金0.6-0.7m略低,這是因?yàn)榛瘜W(xué)鍍金的平整度比電鍍金的好,它不受電流分布的影響。四
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