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文檔簡介
1、EDI設(shè)計(jì)及工程運(yùn)用上海立源水處理技術(shù)有限責(zé)任公司EDI原理和基礎(chǔ)EDI技術(shù)介紹技術(shù)介紹什么是EDI? 電除鹽法(Electrode ionization)又被稱作填充床電滲析,簡稱EDI。它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對離子交換填充床進(jìn)行電化學(xué)再生,集中了電滲析和離子交換法的優(yōu)點(diǎn),克服了兩者的弊端。 EDI技術(shù)是離子交換和電滲析技術(shù)相結(jié)合的產(chǎn)物,因此EDI的除鹽機(jī)理具有很強(qiáng)的離子交換和電滲析的工作特征。 EDI技術(shù)介紹技術(shù)介紹EDI的脫鹽過程: EDI的核心實(shí)際上就是在電滲析的淡水室填裝了陰、陽離子交換樹脂,見示意圖。EDI技術(shù)介紹技術(shù)介紹EDI的脫鹽過程: EDI的這種結(jié)構(gòu)上的變化,使淡水室
2、的脫鹽過程發(fā)生了質(zhì)的變化,EDI的這種結(jié)構(gòu)特點(diǎn)確保了它在運(yùn)行過程中能同時(shí)進(jìn)行著三個(gè)主要過程:1、在直流電場作用下,水中電解質(zhì)通過離子交換膜發(fā)生選擇性遷移; 2、陰陽離子交換樹脂對水中電解質(zhì)進(jìn)行著離子交換,并構(gòu)成“離子通道”;3、離子交換樹脂界面水發(fā)生極化所產(chǎn)生的H和OH對交換樹脂進(jìn)行著電化學(xué)再生。 PS:電解質(zhì)在樹脂中的遷移速率比在水中高:電解質(zhì)在樹脂中的遷移速率比在水中高2到到3個(gè)數(shù)量級個(gè)數(shù)量級EDI技術(shù)介紹技術(shù)介紹EDI的脫鹽過程: EDI對離子的脫除順序與離子交換樹脂對離子的吸附順序相同,如上圖所示。同時(shí)我們可以這樣認(rèn)為,在EDI組件中的離子交換樹脂,沿淡水流向按其工作狀態(tài)可以分為三個(gè)層
3、面,第一層為飽和樹脂層,第二層為混合樹脂層,第三層為保護(hù)樹脂層。飽和樹脂層主要起吸附和遷移大部電解質(zhì)的作用,混合樹脂層則承擔(dān)著去除弱電解質(zhì)等較難清除的離子的任務(wù),而保護(hù)樹脂層樹脂則處于較高的活化狀態(tài),它起著最終純化水的作用。 EDI技術(shù)介紹技術(shù)介紹產(chǎn)水(淡水): 流經(jīng)淡水室的水流,出水即產(chǎn)品水 濃水: 流經(jīng)濃水室的水流極水: 流經(jīng)極水室的水流。極水分陽極水和陰極水,陽極水含有氯氣和氧氣;陰極水含有氫氣。EDI技術(shù)介紹技術(shù)介紹EDI技術(shù)相對離子交換技術(shù)的優(yōu)點(diǎn):v無需酸堿再生,環(huán)保安全v膜堆式設(shè)計(jì),占地面積小v無酸堿儲存和運(yùn)輸費(fèi)用v不間斷連續(xù)運(yùn)行,不需要因再生而停機(jī)v操作簡單,安全v運(yùn)行費(fèi)用和維護(hù)
4、成本低廉v產(chǎn)水水質(zhì)高且穩(wěn)定EDI技術(shù)介紹技術(shù)介紹EDI組件的形式:v板框式(IONPURE、E-Cell)v螺旋卷式 (DOW)常見常見EDI生產(chǎn)廠家生產(chǎn)廠家常見常見EDI生產(chǎn)廠家生產(chǎn)廠家常見常見EDI生產(chǎn)廠家生產(chǎn)廠家常見常見EDI生產(chǎn)廠家生產(chǎn)廠家常見常見EDI生產(chǎn)廠家生產(chǎn)廠家常見常見EDI生產(chǎn)廠家生產(chǎn)廠家EDI工藝設(shè)計(jì)EDIEDI技術(shù)的運(yùn)用領(lǐng)域:技術(shù)的運(yùn)用領(lǐng)域:v電廠化學(xué)水處理v電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械行業(yè)超純水v制藥工業(yè)工藝用水v精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水v其他行業(yè)所需的高純水制備不同領(lǐng)域的產(chǎn)水要求:不同領(lǐng)域的產(chǎn)水要求:v制藥用水(蒸餾機(jī)進(jìn)水):電阻率2M.cmv中壓鍋爐補(bǔ)給水:電阻率0.2M.
5、cm;SiO2 100ppbv高壓及臨界鍋爐補(bǔ)給水:電阻率5M.cm;SiO2 20ppbv化工、鋼鐵工藝用水:電阻率0.13M.cm;SiO2 20ppbv電子級超純水:電阻率1015M.cmv芯片級電子超純水:電阻率18M.cmPS:電阻率是電導(dǎo)率的倒數(shù) 電阻率(M.cm)=1/電導(dǎo)率(s/cm) 理論上絕對純水的電阻率為18.24 M.cm(25 )工業(yè)純水工藝演變:EDI和混床工藝的比較:EDI和混床工藝的比較:EDI和混床工藝的比較:EDI和混床工藝的比較:EDI和混床工藝的比較:項(xiàng) 目指 標(biāo)備 注TEA(含CO2)25ppm(CaCO3)PH值6.0 9.0硬度濃水LSI -2.0
6、CaCO3 計(jì)SiO2 0.5 ppmTOC 0.5 ppm 余氯 0.05 ppmFe、Mn、H2S 0.01 ppmCO23ppm油脂未檢出EDI進(jìn)水指標(biāo):進(jìn)水指標(biāo)對EDI的影響:1、硬度:濃水側(cè)結(jié)垢,和碳酸濃度密切相關(guān)2、弱電解質(zhì):碳酸和硅比強(qiáng)電解質(zhì)更難去除3、有機(jī)物:污染樹脂,清洗不能恢復(fù)4、重金屬:污染樹脂,清洗不能恢復(fù)EDI技術(shù)的局限性:v對進(jìn)水硬度要求高,需要軟化或雙級反滲透;v對弱電解質(zhì)脫除能力不足,往往需要利用雙級反滲透脫除堿度,以提高對硅等更弱的電解質(zhì)的脫除率;v樹脂容易受到有機(jī)物污染,元件壽命短;v一旦樹脂性能下降,更換元件代價(jià)太高DOW-EDI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)DOW
7、-EDI組件進(jìn)水水質(zhì)要求 DOW-EDI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)DOW-EDI組件操作參數(shù) DOW-EDI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)DOW-EDI裝置回收率和進(jìn)水硬度的關(guān)系 進(jìn)水硬度EDI向濃水循環(huán)補(bǔ)加NaCl后的(以CaCO3計(jì)算)回收率電導(dǎo)率(S/cm)0.00.595%150-6000.51.090%150-6001.01.585%150-6001.52.080%150-600DOW-EDI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)EDI裝置運(yùn)行流程示意圖DOW-EDI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)EDI裝置運(yùn)行程控步序表狀態(tài)序號12345679步序啟動1啟動2啟動3運(yùn)行預(yù)停1預(yù)停2預(yù)停3停機(jī)EDI給水泵EDI濃水泵加鹽計(jì)量泵整
8、流器電源時(shí)間1-2min10-20S20-30S5-10S5-10S1-2min流速運(yùn) 行停機(jī)運(yùn)行步驟2、程序轉(zhuǎn)換時(shí)所需考慮的緩沖時(shí)間應(yīng)在實(shí)際編程時(shí)進(jìn)行考慮。泵閥狀況表1、整流器電源應(yīng)該等濃水電導(dǎo)率達(dá)到150us/cm以上再打開。備注DOW-EDI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)EDI裝置設(shè)備的選型1、EDI給水泵選型流量:EDI產(chǎn)水流量/EDI回收率揚(yáng)程:0.30.7MPa2、EDI組件數(shù)量根據(jù)裝置產(chǎn)水量確定。EDI210型建議每只組件設(shè)計(jì)產(chǎn)水量不超過2m3/h,EDI316型建議每只組件設(shè)計(jì)產(chǎn)水量不超過2.5m3/h每套裝置組件數(shù)量超過4只,建議選用雙數(shù)只組件3、EDI濃水泵選型流量:EDI210型按
9、0.7m3/h組件數(shù)量計(jì),EDI316型按1.0組件數(shù)量計(jì)揚(yáng)程:0.20.25MPa4、EDI加鹽裝置選型加鹽計(jì)量泵:按在濃水中加入150ppmNaCl計(jì)算,NaCl濃度按20%計(jì)加鹽計(jì)量箱:在濃水中連續(xù)加入100ppmNaCl時(shí),24小時(shí)的儲量5、整流器選型電流:按每個(gè)回路8A計(jì);電壓:單組件回路按250VDC計(jì),雙組件回路按350VDC計(jì)DOW-EDI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)EDI前級系統(tǒng)設(shè)計(jì)1、單級反滲透當(dāng)原水TDS小于300ppm時(shí),EDI前處理可采用一級反滲透系統(tǒng)反滲透進(jìn)水pH宜控制在8.08.5之間,可通過在反滲透進(jìn)水中加NaOH實(shí)現(xiàn)采用加堿調(diào)節(jié)反滲透進(jìn)水pH時(shí),同時(shí)要注意反滲透濃水的
10、LSI值,防止反滲透濃水側(cè)結(jié)垢2、二級反滲透當(dāng)原水TDS大于300ppm時(shí),EDI前處理應(yīng)該采用二級反滲透系統(tǒng)第二級反滲透進(jìn)水pH宜控制在8.59.0之間,可通過在二級反滲透進(jìn)水中加NaOH實(shí)現(xiàn)采用加堿調(diào)節(jié)反滲透進(jìn)水pH時(shí),同時(shí)要注意反滲透濃水的LSI值,防止反滲透濃水側(cè)結(jié)垢3、脫氧膜在電子級純水系統(tǒng)中往往需要采用脫氧膜除去水中的溶解氧脫氧膜在除氧的同時(shí),大約能脫除水中45%的溶解CO2,因此將脫氧膜系統(tǒng)設(shè)置在RO系統(tǒng)和EDI系統(tǒng)之間,能有效提高EDI裝置的產(chǎn)水品質(zhì)DOW-EDI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)裝置設(shè)計(jì)圖例裝置設(shè)計(jì)圖例 3個(gè)t=62.52個(gè)2個(gè)t=102個(gè)t=302個(gè)t=45t=40L=4
11、505個(gè)7個(gè)L=35065個(gè)L=4106個(gè)L=350t=25t=15t=32.53SAUTO RESET3SAUTO RESETt=20L=350SK31015T6TSK210t=3050TEXELLTMKC-200Lt=203SAUTO RESET3SAUTO RESETDOW-EDI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)工程現(xiàn)場的工程現(xiàn)場的EDI裝置裝置 青島恒源諸城外貿(mào)DOW-EDI裝置的運(yùn)行裝置的運(yùn)行EDI裝置啟動前的檢查內(nèi)容1、EDI前處理系統(tǒng)運(yùn)行正常,EDI進(jìn)水符合設(shè)計(jì)要求;2、排水系統(tǒng)已經(jīng)準(zhǔn)備完畢;3、PLC程序已經(jīng)輸入;4、電路系統(tǒng)檢查已完成,機(jī)泵運(yùn)行正常;5、管路系統(tǒng)連接完成并清洗干凈。DOW
12、-EDI裝置的運(yùn)行裝置的運(yùn)行EDI裝置啟動的基本步驟1、啟動EDI給水泵,裝置灌滿純水2、設(shè)置淡水流量3、啟動濃水循環(huán)泵4、設(shè)置濃水排放流量以及極水流量,調(diào)節(jié)淡水補(bǔ)充水閥門5、設(shè)置淡水、濃水進(jìn)口壓力6、設(shè)置淡水、濃水出口壓力7、啟動加鹽計(jì)量泵8、等濃水電導(dǎo)率達(dá)到150us/cm以上,啟動整流器9、調(diào)節(jié)加鹽計(jì)量泵的加入量,使?jié)馑妼?dǎo)率穩(wěn)定在150600 us/cm之間 EDI裝置需設(shè)置和調(diào)整的參數(shù)1、產(chǎn)水流量;(設(shè)計(jì)通量)2、濃水循環(huán)流量;(每只組件0.31.0 m3/h )3、極水排放量;(每只組件5070L/h )4、濃水排放量;(產(chǎn)水量/回收率-產(chǎn)水量-極水排放量)5、進(jìn)水壓力;(7bar
13、)6、進(jìn)水側(cè)淡濃水壓差;( 0.40.7bar)7、出水側(cè)淡濃水壓差;(0.40.7bar)8、加鹽計(jì)量泵注入量;(保持濃水電導(dǎo)率穩(wěn)定)9、操作電流;(26A)DOW-EDI裝置的運(yùn)行裝置的運(yùn)行EDI裝置需設(shè)置的連鎖和報(bào)警點(diǎn)設(shè)置點(diǎn)濃水流量過低設(shè)定值0.3m3/h/支膜組件連鎖內(nèi)容激活報(bào)警信號;EDI裝置轉(zhuǎn)為待啟動狀態(tài)低于低流量設(shè)定值5秒鐘,激活報(bào)警和連鎖。裝置進(jìn)入工作狀態(tài)時(shí),流量應(yīng)持續(xù)高于最低設(shè)定值5秒鐘,整流器具備啟動條件。設(shè)置點(diǎn)排放流量過低 (極水和濃排水)設(shè)置值濃排水65L/h/支膜組件,極水40L/h/支膜組件,連鎖內(nèi)容激活報(bào)警信號;EDI裝置轉(zhuǎn)為待啟動狀態(tài)低于低流量設(shè)定值5秒鐘,激活
14、報(bào)警和連鎖。裝置進(jìn)入工作狀態(tài)時(shí),流量應(yīng)持續(xù)高于最低設(shè)定值5秒鐘,整流器具備啟動條件。設(shè)置點(diǎn)最低濃水電導(dǎo)值設(shè)定值150S/cm激活報(bào)警檢查并調(diào)整濃水排放流量和鹽溶液加入量。再生期間,濃水電導(dǎo)率將會高出設(shè)置點(diǎn),短時(shí)間高濃度濃水對膜元件不會構(gòu)成破壞,但持續(xù)時(shí)間太長將容易引起結(jié)垢。連鎖延時(shí)在激活報(bào)警之前,高電導(dǎo)率條件必須維持30秒鐘。EDI裝置連鎖裝置連鎖1、連鎖延時(shí)2、連鎖延時(shí)連鎖內(nèi)容3、DOW-EDI裝置的運(yùn)行裝置的運(yùn)行OMEXELLTMEDI裝置的運(yùn)行裝置的運(yùn)行EDI裝置需設(shè)置的連鎖和報(bào)警點(diǎn)(續(xù))設(shè)置點(diǎn)產(chǎn)水流量過低設(shè)定值1.5 m3/h激活報(bào)警信號EDI裝置轉(zhuǎn)為待啟動狀態(tài)低于低流量設(shè)定值5秒鐘,
15、激活報(bào)警,60秒激活連鎖。裝置進(jìn)入工作狀態(tài)時(shí),流量應(yīng)持續(xù)高于最低設(shè)定值30秒鐘,整流器具備啟動條件。設(shè)置點(diǎn)濃水泵未能啟動設(shè)定值沒有電機(jī)啟動運(yùn)行的信號連鎖內(nèi)容激活報(bào)警連鎖期間操作者應(yīng)該立即查找存在的問題。設(shè)置點(diǎn)EDI裝置產(chǎn)水出口壓力過高設(shè)定值正常產(chǎn)水出口壓力+0.03MPa連鎖內(nèi)容激活報(bào)警連鎖延時(shí)設(shè)置點(diǎn)EDI裝置濃水泵進(jìn)口壓力過高設(shè)定值正常濃水出口壓力+0.03MPa連鎖內(nèi)容激活報(bào)警連鎖延時(shí)設(shè)置點(diǎn)鹽計(jì)量箱液位過低設(shè)定值距離容器底部最小距離為7cm激活報(bào)警,關(guān)停計(jì)量泵。操作者給計(jì)量器中添加鹽溶液。連鎖期間EDI裝置處于工作狀態(tài)4、連鎖內(nèi)容連鎖延時(shí)5、6、7、8、連鎖內(nèi)容EDI裝置的運(yùn)行程序1、ED
16、I裝置置于手動控制模式;2、設(shè)置和調(diào)整好所有的流量、壓力、電流和連鎖值;3、將EDI裝置置于自動控制模式。M為了使EDIEDI裝置持續(xù)生產(chǎn)高純水,必須滿足四個(gè)條件。它們包括:合格的進(jìn)水水質(zhì),足夠運(yùn)行的電流,合適的流量以及濃淡水壓力差。上面的任一條件不滿足,裝置將難以穩(wěn)定的生產(chǎn)高純水。 。DOW-EDI裝置的運(yùn)行裝置的運(yùn)行運(yùn)行數(shù)據(jù)的紀(jì)錄1、下面參數(shù)至少每二小時(shí)紀(jì)錄一次淡水進(jìn)口壓力(MPa)濃水進(jìn)口壓力(MPa)淡水出口壓力(MPa)濃水出口壓力(MPa)濃水排放流量(m3/h)濃水循環(huán)流量(m3/h)濃水電導(dǎo)率(s/cm)極水排放流量(m3/h)淡水流量(m3/h)裝置電流(A)整流器電壓(V)
17、產(chǎn)水電阻(M.cm)進(jìn)水電導(dǎo)率(s/cm)產(chǎn)水溫度(C)DOW-EDI裝置的運(yùn)行裝置的運(yùn)行運(yùn)行數(shù)據(jù)的紀(jì)錄2、下面參數(shù)建議每周測定一次進(jìn)水硬度(mg/l)進(jìn)水CO2(mg/l)進(jìn)水硅含量(mg/l) DOW-EDI裝置的運(yùn)行裝置的運(yùn)行DOW-EDI的維護(hù)和故障分析的維護(hù)和故障分析系統(tǒng)的日常維護(hù)每天巡檢離心泵,檢查電機(jī)溫度;同時(shí)檢查水泵的密封定期校準(zhǔn)壓力表和流量表定期檢查自動閥門,是否有漏水、漏氣現(xiàn)象每天檢查EDI裝置管道和組件是否有泄漏現(xiàn)象定期檢查EDI的接線情況,防止接線松動按要求紀(jì)錄運(yùn)行參數(shù),根據(jù)產(chǎn)水水量、壓力和產(chǎn)水水質(zhì)判斷故障并進(jìn)行處理MEDI裝置工作時(shí)采用了高壓整流器,因此裝置必須嚴(yán)格接
18、地,同時(shí)嚴(yán)禁非專業(yè)人員檢修電氣故障。系統(tǒng)的故障分析現(xiàn)現(xiàn) 象象可能存在的原因可能存在的原因修正措施修正措施EDI膜組件被污染查出污染原因,采取相應(yīng)的清洗方法流量太大根據(jù)操作指導(dǎo)中的要求調(diào)整流量膜組件的壓力降較小流量太小根據(jù)操作指導(dǎo)中的要求調(diào)整流量EDI膜組件被污染查出污染原因,采取相應(yīng)的清洗方法閥門開度設(shè)置不正確檢查并且保證所有應(yīng)該打開的閥處于開啟狀態(tài)、并調(diào)整閥門開度流量儀出問題檢查流量儀,保證正確運(yùn)行進(jìn)水壓力太低確定并且解決這一問題進(jìn)水水質(zhì)超出了允許范圍檢查進(jìn)水水質(zhì),CO2濃度過高是影響產(chǎn)水水質(zhì)的常見原因電極接線不正確立即將系統(tǒng)卸載,更正線路。個(gè)別膜組件濃淡水接口錯(cuò)位關(guān)閉錯(cuò)接膜組件進(jìn)出口閥,更
19、正接管。一個(gè)或多個(gè)的膜組件沒有通電檢查整流器的分組輸出電流,接線電阻??傠娏魈蜋z查濃水的電導(dǎo)值是否太低,檢查組件是否發(fā)生結(jié)垢,此外還需檢查整流器。一個(gè)或多個(gè)的膜組件電流太低或太大檢查膜組件接線是否將分組串聯(lián)接線錯(cuò)為并聯(lián)接線。濃水的壓力較產(chǎn)水高重新設(shè)置濃水壓力,使其低于淡水壓力之間0.040.07MPa。詳見操作指導(dǎo)水的回收率低檢查濃水排放流量,可能太高。進(jìn)水電導(dǎo)率下降向濃水中添加鹽以提高其水的電導(dǎo)率加鹽系統(tǒng)確認(rèn)計(jì)量容器中有鹽溶液,確認(rèn)計(jì)量泵的動力電源正常,確認(rèn)計(jì)量泵處于正常工作狀態(tài)。EDI膜組件的壓力降太大產(chǎn)水流量太小產(chǎn)水水質(zhì)較差濃水電導(dǎo)率過低DOW-EDI的維護(hù)和故障分析的維護(hù)和故障分析O
20、MEXELLTMEDI的維護(hù)和故障分析的維護(hù)和故障分析系統(tǒng)的故障分析(續(xù))濃水泵確認(rèn)濃水泵已啟動且空氣已排凈膜組件被污染檢查污染原因,采取相應(yīng)的清洗方法。閥門檢查濃水泵旁路閥門的設(shè)置濃水排放流量過低閥門檢查濃水排放閥門的設(shè)置排除接線錯(cuò)誤可能;將泵置于手動狀態(tài)重新啟動,正常后轉(zhuǎn)換為自動控制;淡水未送來;淡水閥門開度設(shè)置不正確;產(chǎn)水出口閥門未開啟;流量開關(guān)值設(shè)置不正確接線存在問題。濃水排放閥門開度設(shè)置不正確;流量開關(guān)值設(shè)置不正確;濃水泵空氣未排凈;濃水閥門設(shè)置不正確;流量開關(guān)值設(shè)置不正確;濃水旁路閥開度過大。整流器沒有處于自動狀態(tài)整流器沒有接通電源整流器內(nèi)部空氣內(nèi)部的風(fēng)扇沒有轉(zhuǎn)動;風(fēng)扇外面的過濾網(wǎng)
21、或者格柵的孔洞被堵死。整流器間歇式出現(xiàn)故障整流器內(nèi)部溫度過高濃水流量過低在自動狀態(tài)下系統(tǒng)不能運(yùn)行濃水泵不啟動淡水流量太低濃水排放流量過低濃水循環(huán)流量過低整流器無輸出EDI組件的再生 在組件長時(shí)間停運(yùn)、運(yùn)行電流設(shè)置不當(dāng)、進(jìn)水水質(zhì)不合格等情況下,EDI組件內(nèi)的樹脂可能失效,造成出水水質(zhì)變差。這時(shí)候需要采用大電流再生來恢復(fù)樹脂的除鹽性能,保證EDI產(chǎn)水合格。 再生時(shí)應(yīng)將再生運(yùn)行電流提高到比正常運(yùn)行電流大2A左右; 調(diào)節(jié)極水排放量至每只組件100150L/h; 其他參數(shù)和正常運(yùn)行時(shí)一致; 在以上條件下運(yùn)行812小時(shí)即完成EDI組件的再生。DOW-EDI的維護(hù)和故障分析的維護(hù)和故障分析EDI裝置長時(shí)間停
22、機(jī)的維護(hù)v 將EDI膜組件中的水排放干凈,使膜組件中不存在死水。v 關(guān)閉所有的EDI裝置的進(jìn)出口閥門,以保證膜組件內(nèi)部的潮濕度。v 長時(shí)間關(guān)閉后重新投入運(yùn)行,EDI膜組件可能需要再生,再生時(shí)間約為812小時(shí)。M在準(zhǔn)備裝置長時(shí)間停機(jī)過程中,整流器輸出電源必須關(guān)閉。并且整流器輸入電源也應(yīng)處于關(guān)閉狀態(tài) 。DOW-EDI的維護(hù)和故障分析的維護(hù)和故障分析DOW-EDI裝置的化學(xué)清洗裝置的化學(xué)清洗一般情況下,每半年應(yīng)對EDI膜組件進(jìn)行一次清洗,這因?yàn)?,一些程度較小、時(shí)間較短的偏離操作條件的操作會引起輕微的結(jié)垢,但隨著時(shí)間的增加而會連續(xù)積累。一旦達(dá)到較嚴(yán)重的程度再進(jìn)行清洗,通常很難被去除。 需要進(jìn)行清洗的原因:v由于硬度引起EDI膜組件濃室的結(jié)垢。vEDI膜組件內(nèi)離子交換樹脂或者膜受到無機(jī)物的污染。vEDI膜組件內(nèi)離子交換樹脂或者膜受到有機(jī)物的污染。v生物對EDI膜組件以及系統(tǒng)管道的污染。v以上各種污染的綜合情況。清洗系統(tǒng)流程圖DOW-EDI裝置的化學(xué)清洗裝置的化學(xué)清洗清洗藥劑的選擇1)酸性配方2%
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