光學(xué)隱身技術(shù)

1、光學(xué)隱身技術(shù)光學(xué)隱身技術(shù)光學(xué)偽裝系統(tǒng)光學(xué)偽裝系統(tǒng)簡(jiǎn)易光學(xué)偽裝系統(tǒng)簡(jiǎn)易光學(xué)偽裝系統(tǒng)光學(xué)偽裝系統(tǒng)光學(xué)偽裝系統(tǒng)v 攝像機(jī)將背面的景像記錄并傳輸進(jìn)計(jì)算機(jī)攝像機(jī)將背面的景像記錄并傳輸進(jìn)計(jì)算機(jī)v 計(jì)算機(jī)對(duì)圖像進(jìn)行修正和中轉(zhuǎn)，傳入投影儀計(jì)算機(jī)對(duì)圖像進(jìn)行修正和中轉(zhuǎn)，傳入投影儀v 投影儀將圖像透射到半透半反鏡上投影儀將圖像透射到半透半反鏡上v 人眼通過(guò)半透半反鏡觀察到的圖像即為背面的景象，產(chǎn)生人眼通過(guò)半透半反鏡觀察到的圖像即為背面的景象，產(chǎn)生了隱身效果了隱身效果非均勻各向同性材料非均勻各向同性材料v龍勃透鏡（龍勃透鏡（ Luneburg lens ）非均勻變折射率透鏡非均勻變折射率透鏡v兩對(duì)龍勃透鏡直接兩對(duì)龍勃

2、透鏡直接的區(qū)域?yàn)殡[身區(qū)域的區(qū)域?yàn)殡[身區(qū)域均勻各向異性材料均勻各向異性材料v利用方解石晶體的雙折利用方解石晶體的雙折射特性射特性v需要用偏振光實(shí)現(xiàn)需要用偏振光實(shí)現(xiàn)v使用使用6塊梯形的方解塊梯形的方解石構(gòu)成一個(gè)截面為六石構(gòu)成一個(gè)截面為六邊形的柱體，并設(shè)計(jì)邊形的柱體，并設(shè)計(jì)適當(dāng)?shù)呐挪迹沟酶鬟m當(dāng)?shù)呐挪?，使得各個(gè)方向的光線能繞過(guò)個(gè)方向的光線能繞過(guò)中心傳播中心傳播v需要在晶體前加偏振片需要在晶體前加偏振片負(fù)折射率材料負(fù)折射率材料超材料超材料扭曲電磁波的傳播路徑扭曲電磁波的傳播路徑已實(shí)現(xiàn)微波下隱身的超材料已實(shí)現(xiàn)微波下隱身的超材料通過(guò)特殊的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)負(fù)折射率通過(guò)特殊的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)負(fù)折射率v運(yùn)用納米技術(shù)制作納米級(jí)的

3、周期性結(jié)構(gòu)，具有類似運(yùn)用納米技術(shù)制作納米級(jí)的周期性結(jié)構(gòu)，具有類似負(fù)折射率材料的特性負(fù)折射率材料的特性v僅能使不平滑的表面看起來(lái)平滑，即使的面上的僅能使不平滑的表面看起來(lái)平滑，即使的面上的褶皺或凹凸處褶皺或凹凸處“隱身隱身”。 Carpet Cloaking（地毯隱身）（地毯隱身）介電常數(shù)接近于介電常數(shù)接近于0的材料能產(chǎn)生散射抵消效應(yīng)（的材料能產(chǎn)生散射抵消效應(yīng)（scattering cancellation），等離子體材料為常用的），等離子體材料為常用的ENZ材料。材料。等離子體和非等離子體材料交替出現(xiàn)可實(shí)現(xiàn)隱身效果。等離子體和非等離子體材料交替出現(xiàn)可實(shí)現(xiàn)隱身效果。ENZ（epsilon-near-zero） 材料材料由納米銀球構(gòu)成的等離子體殼層也可在光波段產(chǎn)生隱身由納米銀球構(gòu)成的