質(zhì)量管理的統(tǒng)計學基礎（70頁)ppt課件

1、質(zhì)量管理的統(tǒng)計學根底根本統(tǒng)計知識.平均值闡明一組變量值的集中趨勢、中心位置或平均程度算術平均值均值反映分布的集中趨勢，適用于正態(tài)分布資料.方差總體方差：樣本方差：.規(guī)范差是實驗室建立本人質(zhì)量控制誤差限的根底常用均值描畫正態(tài)分布特征常用的方法是以X+1.96S計算出95%察看值所在范圍界限，作為臨床的參考范圍.變異系數(shù)CV：是規(guī)范差與平均值之比用百分數(shù)表示極差：最大值與最小值的差值 極差越大，變異度能夠越大，各變量值的離均值越遠，數(shù)據(jù)越分散，均值的代表性越差.正態(tài)分布以均值為中心、左右完全對稱的鐘型曲線正態(tài)分布有兩個參數(shù)，既均值u和規(guī)范差.分布規(guī)律u +1的面積占總面積的68.2%u +2的面積

2、占總面積的95.5%u +3的面積占總面積的99.7%.正態(tài)分布的運用估計參考值范圍質(zhì)量控制的根底.直線回歸分析從一組實驗數(shù)據(jù)出發(fā),找出描畫兩個變量間相互關系的直線回歸方程,以確定一條最接近于各實驗點的規(guī)范曲線從一個變量所取的值去估計另一變量評價和量度變量間關系的親密程度評價規(guī)范曲線的精細度與置信區(qū)間.Y=a+bX相關系數(shù)r：相關系數(shù)為正，表示Y隨X的添加而添加，為正相關相關系數(shù)為負，表示Y隨X的添加而減小，為負相關r=1為完全正相關， r=-1為完全負相關， r=0為無相關. 誤差和檢測系統(tǒng)的性能要求.隨機誤差定義: 丈量結果與在反復性條件下,對同一被丈量進展無限多次丈量所得結果的平均值之差

3、。它在實驗中總是存在，無法完全防止，但它服從幾率分布 . 隨機誤差正態(tài)分布曲線 .隨機誤差的統(tǒng)計學規(guī)律對稱性：絕對值相等的正誤差和負誤差出現(xiàn)的時機幾乎相等，正態(tài)分布曲線以y軸對稱。單峰性：絕對值小的誤差出現(xiàn)的時機多，而絕對值大的誤差出現(xiàn)的時機比較少。有界性：在一定丈量條件下的有限次丈量值中，誤差的絕對值不超越某一定界限。 為了減少隨機誤差的影響,在實踐丈量條件中經(jīng)常對一個量進展多次反復丈量以提高丈量的精細度和再現(xiàn)性.系統(tǒng)誤差 定義: 在指定丈量條件下，多次丈量同一量時，假設丈量誤差的絕對值和符號總是堅持恒定，使丈量結果永遠朝一個方向偏，那么這種丈量誤差稱為系統(tǒng)誤差.系統(tǒng)誤差的產(chǎn)生與以下要素有關

4、:儀器安裝本身的準確度有限 儀器運用時的環(huán)境要素 丈量方法的限制所用化學試劑純度不符合要求 丈量者個人的習慣性誤差 .過失誤差定義： 由于實驗者的大意,如標度看錯,記錄寫錯,計算錯誤所引起的誤差,稱為過失誤差 . .精細度定義： 在一定條件下進展多次測定時，所得測定結果之間的符合程度以不精細度表達，有規(guī)范差表示精細度評價：平行實驗和反復性實驗.準確度定義： 丈量結果中系統(tǒng)誤差與隨機誤差的綜合，表示丈量結果與真值的一致程度以不準確度來衡量準確度評價：回收實驗，干擾實驗.總誤差TE定義：測定結果與真值的差別是隨機誤差和系統(tǒng)誤差的總和允許總誤差.分析靈敏度(檢測限)定義: 可檢測的最低分析物濃度為檢

5、測系統(tǒng)的分析靈敏度或稱檢測限.基質(zhì)效應1基質(zhì)：分析樣品中，除了分析物以外的一切其他物質(zhì)和組分稱為該分析物的基質(zhì)2基質(zhì)效應：檢測系統(tǒng)檢測標本中的分析物時，處于分析物周圍的一切非分析物對分析物參與反響的影響.正態(tài)曲線下面積有一定的規(guī)律， u +1的面積占總面積的A、50.5% B、55.2% C、62.8 D、 68.2正態(tài)曲線下面積有一定的規(guī)律， u +2的面積占總面積的A、85.5% B、88.5% C、90.5% D、95.5%正態(tài)曲線下面積有一定的規(guī)律, u +3的面積占總面積的A、85.7% B、98.7% C、99.7% D、99.9%.正態(tài)分布的兩個參數(shù)是:A 、 均數(shù)u和規(guī)范差 B

6、、均數(shù)X和規(guī)范差sC、 規(guī)范差和方差 D、規(guī)范差和變異系數(shù)在評價方法精細度的過程中常用的統(tǒng)計學目的是A、平均數(shù) B、規(guī)范差和變異系數(shù)C、相關系數(shù) D、規(guī)范誤.關于正態(tài)分布，錯誤的選項是：A、是完全對稱的鐘型曲線B、曲線分布越寬，其規(guī)范差越小C、可以用來估計參考值范圍D、可以運用于質(zhì)量控制E、是很多統(tǒng)計方法的實際根底.關于直線回歸分析的表達，不正確的選項是：A、是為處理兩組變量之間的關系B、是評價變量間關系的親密程度C、運用直線回歸方程，能從一個變量的取值來估計另一變量值D、相關系數(shù)r =1表示完全正相關E、相關系數(shù)r =0表示完全負相關.同一批號濃度的質(zhì)控品，血糖在A實驗室20天測定結果的極差

7、為0.5mmol/L,B實驗室20天測定結果的極差為0.4mmol/L.以下哪項是正確的：A、對于血糖的變異度，A實驗室小于B實驗室B、對于血糖的變異度，A實驗室大于B實驗室C、對于血糖的變異度，A實驗室等于B實驗室D、對于血糖的變異度，A實驗室和B實驗室難以比較.同一批號濃度的質(zhì)控品，血糖在A實驗室20天測定結果的變異系數(shù)為3.2%,B實驗室20天測定結果的變異為2.1%.以下哪項是正確的A、對于血糖的精細度，A實驗室大于B實驗室B、對于血糖的精細度，A實驗室等于B實驗室C、對于血糖的精細度， B實驗室高于A 實驗室D、對于血糖的精細度， A實驗室和B實驗室難以比較.測定血糖20天室內(nèi)質(zhì)量控

8、制數(shù)據(jù)，計算出其均值為5.0mmol/L，規(guī)范差為0.25mmol/L，其變異系數(shù)應為：A、5% B、4% C、3% D、2%.直線回歸分析中，相關系數(shù)為正時A、表示Y隨X的添加而減少B、表示Y隨X的添加而添加C、表示Y隨X的添加而不變D、表示Y隨X的減少而減少.常用的平均值包括 A、算術平均值 B、幾何平均值 C、中位數(shù) D、百分位數(shù) E、四分位數(shù).某方法經(jīng)反復測定得出的結果很接近于真值，闡明該方法A、準確度高B、精細度高C、靈敏度高D、反復性好.經(jīng)常用計量規(guī)范或規(guī)范物質(zhì)對丈量儀器進展調(diào)整或校準，是為了盡能夠消除A、總誤差B、隨機誤差C、人為干擾D、不確定度E、系統(tǒng)誤差.過失誤差是A、一種顯

9、然與現(xiàn)實不符的誤差B、主要由于分析人員的大意或忽略而呵斥的C、沒有一定規(guī)律可循D、只需分析人員加強任務責任心，這種誤差是完全可以防止的E、系統(tǒng)誤差加隨機誤差.直線回歸分析的主要用途是什么？試述正態(tài)分布的運用？準確度、精細度及兩者之間的關系是什么？.質(zhì)控圖和質(zhì)控規(guī)那么.質(zhì)控圖 L-J質(zhì)控圖：Z-分數(shù)圖：Youden圖：.L-J質(zhì)控圖數(shù)據(jù)采集和處置：延續(xù)測定同一批號的質(zhì)控品20天以上或一個月，求出均值及規(guī)范差質(zhì)控上限值為X+3S，質(zhì)控下限值X-3S.繪制質(zhì)控圖及記錄質(zhì)控結果Levey-Jennings控制圖 .Z-分數(shù)圖.把不同濃度程度的質(zhì)控品繪制在同一個質(zhì)控圖上質(zhì)控品的質(zhì)控測定值和其均值之差，除

10、以該質(zhì)控品的規(guī)范差.Youden圖 .又稱雙值質(zhì)控圖以低值為程度軸，高值為垂直軸，構成正方形圖穩(wěn)定型質(zhì)控圖隨機誤差質(zhì)控圖系統(tǒng)誤差質(zhì)控圖.常用的質(zhì)控規(guī)那么.常用質(zhì)控規(guī)那么符號12s：1個質(zhì)控測定值超越X+2S，警告限13s： 1個質(zhì)控測定值超越X+3S，對隨機誤差敏感22s：2個延續(xù)的質(zhì)控測定值 同時超越X+2S ，X-2S質(zhì)控限，對系統(tǒng)誤差敏感R4s：在同一批內(nèi)最高質(zhì)控測定值與最低質(zhì)控測定值之間的差值超越4s，對隨機誤差敏感31s：3個延續(xù)的質(zhì)控測定值同時超越X+1S ，X-1S. 對系統(tǒng)誤差敏感。.41s：3個延續(xù)的質(zhì)控測定值同時超越X+1S ，X-1S，對系統(tǒng)誤差敏感。7X ：7個延續(xù)的質(zhì)

11、控測定值落在均值的同一側，對系統(tǒng)誤差敏感。7T ：7個延續(xù)的質(zhì)控測定值呈現(xiàn)出向上或向下的趨勢8X ：8個延續(xù)的質(zhì)控測定值落在均值的同一側，對系統(tǒng)誤差敏感。.9X ：9個延續(xù)的質(zhì)控測定值落在均值的同一側，對系統(tǒng)誤差敏感。10X ：10個延續(xù)的質(zhì)控測定值落在均值的同一側，對系統(tǒng)誤差敏感。12X ：12個延續(xù)的質(zhì)控測定值落在均值的同一側，對系統(tǒng)誤差敏感。.Westgard多規(guī)那么質(zhì)控方法是在L-J方法根底上開展起來的經(jīng)過單值質(zhì)控圖進展簡單的數(shù)據(jù)分析和顯示具有低的假失控或假報警概率當失控時，能確定產(chǎn)生失控的分析誤差的類型.有六個質(zhì)控規(guī)那么， 12s/ 13s /22s /R4s/ 41s/ 10X以1

12、2s警告規(guī)那么啟動其他規(guī)那么.質(zhì)控數(shù)據(jù)12s13s在控，接受分析批的結果22sR4s41s10X失控否否否否否是是是是是是否.在日常運用時，需留意的是：1、 12s為警告規(guī)那么，不是失控規(guī)那么。2、出現(xiàn)失控時，必然曾經(jīng)有了12s表現(xiàn)。3、幾種不恰當?shù)淖龇捌浞乐狗椒ǎ?控制結果落在+2S線上就以為失控，這是錯誤的了解。2控制結果超出+2S，馬上重做。3直接運用廠商的定值及允許范圍作為控制圖上的均值和規(guī)范差。.質(zhì)控圖的繪制單個質(zhì)控品的常規(guī)質(zhì)控圖Z-分數(shù)質(zhì)控圖.詳細步驟分析兩個不同濃度的質(zhì)控品由12S質(zhì)控啟動質(zhì)控過程檢查同一批內(nèi)質(zhì)控數(shù)據(jù)檢查不同批次的質(zhì)控數(shù)據(jù).失控問題的處理當同一批兩個不同濃度的

13、質(zhì)控品都違背規(guī)那么時，通常不是質(zhì)控品本身的問題，更能夠是校準品、儀器校準、試劑空白等要素的問題試劑或測定條件不穩(wěn)定，計時、注加液體、或個人技術的變異.失控后的不當做法1、重做質(zhì)控品：2、試用新控制品：.處理問題和排除失控緣由1、檢查控制圖或失控的規(guī)那么，確定誤差的類型： 系統(tǒng)誤差？Or 隨機誤差？2、判別誤差類型和失控緣由的關系：系統(tǒng)誤差要素：包括運用不同批號的試劑、不同批號的校準品、校準值設定錯誤、試劑的質(zhì)量問題、反響加熱塊溫度改動等。隨機誤差要素：試劑沒混勻或有氣泡、電源電壓不穩(wěn)定、檢驗人員操作不熟練等。.3、檢查自動分析儀多工程檢測系統(tǒng)上常見的要素：4、查找與近期變化有關的緣由：5、確認

14、處理問題，作好記錄。.質(zhì)控規(guī)那么的性能特征真失控TR：指質(zhì)控方法對有誤差分析批作出了失控判別假失控FR：指質(zhì)控方法對無誤差分析批作出了失控判別假在控FA：指質(zhì)控方法對無誤差分析批作出了失控判別真在控TA：指質(zhì)控方法對無誤差分析批作出了在控判別.誤差檢出概率：假失控概率：.效果函數(shù)圖及計算機模擬.假照實驗室在室內(nèi)質(zhì)控中采用了12S規(guī)那么，N=1一個質(zhì)控物，根據(jù)正態(tài)分布規(guī)律，該質(zhì)控規(guī)那么的假失控概率應為A、4.5%B、10%C、1%D、2%E、4%.Z-分數(shù)Z-score是：A、測定結果-均值/規(guī)范差B、測定結果-靶值/靶值C、測定結果-均值/均值D、 規(guī)范差/均值.在臨床檢驗質(zhì)量控制中，其特異度的目的是A、假失控概率B、誤差檢查概率C、在控預測值D、失控預測值.在臨床檢驗質(zhì)量控制中，假失控概率不應超越A、5%B、1%C、0.01%D、0.05%.主要對系統(tǒng)誤差敏感的質(zhì)控規(guī)那么有：A、13SB、