半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率持續(xù)提升

1、晶圓制造環(huán)節(jié)景氣度較高，半導(dǎo)體設(shè)備需求有望維持較高水平臺(tái)積電 Q2 業(yè)績(jī)高增驗(yàn)證行業(yè)景氣度，新能源需求持續(xù)快速放量受益新能源汽車、HPC、IoT 等行業(yè)需求旺盛，全球半導(dǎo)體銷售額延續(xù)快速增長(zhǎng)。1）全球：2022 年 1-5 月半導(dǎo)體銷售額累計(jì)為 2541 億美元，同比+23%；其中 2022 年 5月為 518 億美元，同比+18%，延續(xù)高速增長(zhǎng)。2）中國(guó)大陸：2022 年 1-5 月半導(dǎo)體銷售額累計(jì)為 843 億美元，同比+17%，其中 1 月-5 月分別同比+24%、+22%、+17%、+13%和+9%，3-5 月份增速有明顯下降，我們判斷主要系上海等地疫情短期拖累所致。圖1：2022 年

2、 5 月全球半導(dǎo)體銷售額同比+18%圖2：2022 年 5 月中國(guó)大陸半導(dǎo)體銷售額占比為 33%亞太/其他地區(qū)中國(guó)大陸日本歐洲美洲6050403020100亞太/其他地區(qū)中國(guó)大陸日本歐洲美洲100%90%80%70%60%50%40%30%20%10%0%東吳證券研究所數(shù)據(jù)來源：SIA，（單位：十億美元）數(shù)據(jù)來源：SIA，臺(tái)積電 Q2 業(yè)績(jī)接近指引上限，再次驗(yàn)證全球半導(dǎo)體行業(yè)依舊較高的景氣度。1）收入端：2022Q2 臺(tái)積電實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入 181.6 億美元，同比+36.6%，接近指引值（176-182億美元）上限。2）利潤(rùn)端：2022Q2 臺(tái)積電實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn) 80.6 億美元，同比+67.9%（

3、“美元”口徑），實(shí)現(xiàn)大幅增長(zhǎng)，盈利水平明顯提升。2022Q3 臺(tái)積電營(yíng)業(yè)收入指引為 198-206億美元，將創(chuàng)單季度歷史新高，足以反映出全球半導(dǎo)體行業(yè)較高的景氣度。4 / 21圖3：2022Q2 臺(tái)積電營(yíng)業(yè)收入同比+36.6%圖4：2022Q2 臺(tái)積電凈利潤(rùn)同比+67.9% 凈利潤(rùn)（億美元）同比（%）908070605040302010080%70%60%50%40%30%20%10%0%營(yíng)業(yè)收入（億美元）同比（%）20018016014012010080604020040%35%30%25%20%15%10%5%0% 數(shù)據(jù)來源：臺(tái)積電公告，（注：同比增速為“美元”計(jì)算口徑）數(shù)據(jù)來源：臺(tái)積電公

4、告，（注：同比增速為“美元”計(jì)算口徑）全球范圍內(nèi)來看，智能手機(jī)、HPC 領(lǐng)域仍為半導(dǎo)體行業(yè)主要需求終端，汽車電子行業(yè)需求正在持續(xù)快速放量。微觀層面來看，若以臺(tái)積電收入構(gòu)成為指引：1）2022Q2臺(tái)積電對(duì)智能手機(jī)、HPC（高性能計(jì)算，包含 CPU、GPU 等）行業(yè)的收入占比分別為 38%和 43%，構(gòu)成收入主體，仍是半導(dǎo)體行業(yè)主要需求來源。2）2020Q4 以來臺(tái)積電對(duì)汽車電子行業(yè)收入持續(xù)增長(zhǎng)，2020Q4-2022Q2 環(huán)比增速分別為+27%、+31%、+12%、+5%、+10%、+26%和+14%，市場(chǎng)需求持續(xù)旺盛，已經(jīng)成為半導(dǎo)體行業(yè)增長(zhǎng)重要驅(qū)動(dòng)力。圖5：2022Q1 臺(tái)積電智能手機(jī)行業(yè)收入

5、占比約 40%圖6：2020Q4 以來汽車電子行業(yè)收入環(huán)比持續(xù)增長(zhǎng)100%90%80%70%60%50%40%30%20%10%0%其他DCE汽車電子IoTHPC智能手機(jī)30% 33% 37% 31% 35% 39% 37% 37% 41% 43%49% 47% 46% 51% 45% 42% 44% 44% 40% 38%20Q1 20Q2 20Q3 20Q4 21Q1 21Q2 21Q3 21Q4 22Q1 22Q250%40%30%20%10%0%-10%-20%-30%20Q120Q220Q320Q421Q121Q221Q321Q422Q122Q2數(shù)據(jù)來源：臺(tái)積電公告，數(shù)據(jù)來源：臺(tái)積電

6、公告，（注：縱軸為“QoQ”收入環(huán)比增速）對(duì)于中國(guó)大陸晶圓廠而言，智能手機(jī)（電子消費(fèi)品）行業(yè)仍為主要收入來源。1）中芯國(guó)際：2022Q1 對(duì)智能手機(jī)行業(yè)收入占比約 28.7%，較 2020Q1（48.3%）明顯下降； 2）華虹半導(dǎo)體：2022Q1 對(duì)電子消費(fèi)品行業(yè)收入占比為 66.3%，占據(jù)過半份額。5 / 21圖7：2022Q1 中芯國(guó)際智能手機(jī)行業(yè)收入占比約 29%圖8：2022Q1 華虹半導(dǎo)體電子消費(fèi)品行業(yè)收入占比 66%100%90%80%70%60%50%40%30%20%10%0%其他消費(fèi)電子智能家居智能手機(jī)48.3% 46.7% 46.1%36.7% 35.2% 31.6% 31

7、.5% 31.2% 28.7%20Q1 20Q2 20Q3 20Q4 21Q1 21Q2 21Q3 21Q4 22Q1100%90%80%70%60%50%40%30%20%10%0%計(jì)算機(jī)通訊工業(yè)及汽車電子消費(fèi)品61.8% 59.3% 62.7% 63.0% 62.0% 63.7% 62.2% 66.1% 66.3%20Q1 20Q2 20Q3 20Q4 21Q1 21Q2 21Q3 21Q4 22Q1 數(shù)據(jù)來源：中芯國(guó)際公告，數(shù)據(jù)來源：華虹半導(dǎo)體公告，短期來看，對(duì)于電子消費(fèi)品等半導(dǎo)體主要需求終端，本土市場(chǎng)增長(zhǎng)略有承壓。1）智能手機(jī)：2022 年 3-6 月份我國(guó)智能手機(jī)產(chǎn)量累計(jì)為 4.09

8、 億臺(tái)（1-2 月份無統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)），同比-1.6%，略有下降；其中 6 月份產(chǎn)量為 1.05 億臺(tái)，同比-7%。2）平板電腦：2022 年1-5 月份我國(guó)平板電腦累計(jì)銷量約 440 萬(wàn)件，同比+0.5%，其中 5 月份實(shí)現(xiàn)銷售 85 萬(wàn)件，同比+2%，略有增長(zhǎng)。3）筆記本電腦：2022 年 1-5 月份我國(guó)筆記本電腦累計(jì)銷量約 540萬(wàn)件，同比-20%，其中 5 月份銷量約 95 萬(wàn)件，同比-13%，降幅收窄。4）智能手表：2022 年 3-5 月份我國(guó)智能手表累計(jì)產(chǎn)量 1500 萬(wàn)個(gè)（1-2 月份無統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)），同比+0.85%，其中 5 月份產(chǎn)量約 572 萬(wàn)個(gè)，同比+14%。圖9：2022

9、年 6 月我國(guó)智能手機(jī)產(chǎn)量同比-7%圖10：2022 年 5 月我國(guó)平板電腦銷量同比+2% 180160140120100806040200產(chǎn)量:智能手機(jī):當(dāng)月值（百萬(wàn)臺(tái)）同比（%）30%25%20%15%10%5%0%-5%-10%-15%250200150100500銷售量:平板電腦/MID（萬(wàn)件）同比（%)100%80%60%40%20%0%-20%-40%-60%東吳證券研究所數(shù)據(jù)來源：Wind，數(shù)據(jù)來源：Wind，6 / 21圖11：2022 年 5 月我國(guó)筆記本電腦銷量同比-13%圖12：2022 年 5 月我國(guó)智能手表產(chǎn)量同比+14%300250200150100500銷售量:筆

10、記本電腦（萬(wàn)件）同比（%）100%80%60%40%20%0%-20%-40%10009008007006005004003002001000產(chǎn)量:智能手表:當(dāng)月值（萬(wàn)個(gè)）同比（%）30%20%10%0%-10%-20%-30%東吳證券研究所數(shù)據(jù)來源：Wind，數(shù)據(jù)來源：Wind，然而，新能源等下游需求持續(xù)旺盛驅(qū)動(dòng)下，我們判斷短期中國(guó)大陸半導(dǎo)體市場(chǎng)需求仍有望穩(wěn)健增長(zhǎng)，2022 年行業(yè)景氣度不必悲觀。據(jù)中國(guó)汽車工業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù)，2022 年 6月我國(guó)新能源汽車銷量、產(chǎn)量分別為 59.6 和 59.0 萬(wàn)輛，分別同比+133%和+138%；2022年 1-6 月累計(jì)銷量、產(chǎn)量分別為 259.1 和 2

11、65.3 萬(wàn)輛，分別同比+117%和+118%，依舊旺盛，對(duì)半導(dǎo)體需求持續(xù)大幅提升，是半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)增長(zhǎng)的重要驅(qū)動(dòng)力。圖13：2022 年 6 月我國(guó)新能源汽車銷量同比+133%圖14：2022 年 6 月我國(guó)新能源汽車產(chǎn)量同比+138%銷量:新能源汽車:當(dāng)月值（萬(wàn)輛）706050403020100同比(%)800%700%600%500%400%300%200%100%0%-100%-200%產(chǎn)量:新能源汽車:當(dāng)月值（萬(wàn)輛）同比（%）701400%601200%501000%40800%600%30400%20200%100%0-200%數(shù)據(jù)來源：中國(guó)汽車工業(yè)協(xié)會(huì)，數(shù)據(jù)來源：中國(guó)汽車工業(yè)協(xié)會(huì)

12、，晶圓廠資本開支仍處于高位，半導(dǎo)體設(shè)備需求維持在較高水平受益汽車電子&IoT 等行業(yè)高景氣，2021 年全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額達(dá)歷史最高點(diǎn)，中國(guó)大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)重心趨勢(shì)愈發(fā)凸顯。從行業(yè)增速來看，2021 年全球&中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額分別為 1026 和 296 億美元，2012-2021 年 CAGR 分別為 12%和 32%； 2022Q1 中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額達(dá)到 75.7 億美元，同比+27%，延續(xù)高速增長(zhǎng)，明顯7 / 21高于全球增速（+5%）；從全球占比來看，2012 年中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額全球占比僅為 7%，2022Q1 年快速上升至 30.6%，產(chǎn)業(yè)重心趨勢(shì)越發(fā)明顯。圖1

13、5：2022Q1 全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額同比+5%圖16：2022Q1 中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額同比+27% 120010008006004002000全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額（億美元）yoy50%40%30%20%10%0%-10%-20%350300250200150100500中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額（億美元）yoy70%60%50%40%30%20%10%0%數(shù)據(jù)來源：SEMI，數(shù)據(jù)來源：SEMI，高基數(shù)背景下，市場(chǎng)普遍擔(dān)心半導(dǎo)體行業(yè)景氣度拐點(diǎn)向下，下游客戶資本開支下降，對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備需求放緩。然而，我們認(rèn)為，晶圓產(chǎn)能東移背景下，本土晶圓廠開工率依舊較高，封測(cè)廠稼動(dòng)率存在分化趨勢(shì)，先進(jìn)封裝、汽

14、車電子等領(lǐng)域依舊供不應(yīng)求，2022年下游客戶資本開支仍有保障，半導(dǎo)體設(shè)備的需求有望維持在較高水平。中國(guó)大陸晶圓廠開工率依舊較高，產(chǎn)能利用率超 100%。1）中芯國(guó)際：2022Q1 產(chǎn)能利用率達(dá)到 100.4%，同比+1.7pct，環(huán)比+1.0pct；2）華虹半導(dǎo)體：2022Q1 產(chǎn)能利用率達(dá)到 106%，同比+1.8pct，環(huán)比+0.6pct；其中 12 英寸和 8 英寸產(chǎn)能利用率分別為 103.9%和 107.7%，分別同比+0.1pct、+3.4pct，分別環(huán)比+1.4pct、+0.2pct。由此可見，晶圓產(chǎn)能東移背景下，中國(guó)大陸晶圓廠產(chǎn)能普遍吃緊，擴(kuò)產(chǎn)動(dòng)力依舊較為充足。圖17：2022Q

15、1 中芯國(guó)際產(chǎn)能利用率達(dá)到 100.4%圖18：2022Q1 華虹半導(dǎo)體產(chǎn)能利用率達(dá)到 106.0%100.4%100.3%100.4%98.8%98.5%98.6%98.7%99.4%97.8%95.5%102%產(chǎn)能利用率（%）120%200nm300nm總體110.9%120%100%98%96%94%92%90%100%80%60%40%20%0%82.4%93.4%109.5%95.8%99.0%104.2%105.4%106.0%100%80%60%40%20%0%數(shù)據(jù)來源：中芯國(guó)際公告，數(shù)據(jù)來源：華虹半導(dǎo)體公告，8 / 21在半導(dǎo)體行業(yè)需求景氣度較高，晶圓產(chǎn)能吃緊的背景下，下游資本

16、開支仍處于高位。具體來看：1）臺(tái)積電：2022Q2 資本性支出達(dá)到 73.4 億美元，同比+23%；2022 年全年資本開支預(yù)計(jì)為 400-440 億美元，同比+33%-+46%；2）中芯國(guó)際：2022Q1 資本性支出達(dá)到 8.69 億美元，同比+63%。下游半導(dǎo)體企業(yè)持續(xù)性高資本開支，對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備的需求度依舊較高，行業(yè)景氣度有望延續(xù)。圖19：2022Q2 臺(tái)積電資本性支出同比+23%圖20：2022Q1 中芯國(guó)際資本性支出同比+63%1009080706050403020100資本性支出（億美元）同比200%25150%20100%1550%0%10-50%5-100%0資本性支出（億美元）

17、同比1200%1000%800%600%400%200%0%-200%東吳證券研究所數(shù)據(jù)來源：臺(tái)積電公告，數(shù)據(jù)來源：中芯國(guó)際公告，晶圓廠招標(biāo)追蹤：下游招標(biāo)快速推進(jìn)，1-6 月國(guó)產(chǎn)化率約 35%招標(biāo)量：1-6 月份合計(jì)完成招標(biāo) 588 臺(tái)，積塔半導(dǎo)體貢獻(xiàn) 6 月主要增量我們以 2022 年以來規(guī)?；_招標(biāo)的 5 家晶圓廠為統(tǒng)計(jì)標(biāo)本，包括華虹半導(dǎo)體（無錫）、積塔半導(dǎo)體、福建晉華、華力集成和華虹宏力，統(tǒng)計(jì)口徑為“最終中標(biāo)公告時(shí)間”。據(jù)我們不完全統(tǒng)計(jì)：1）整體來看，2022 年 1-6 月份 5 家晶圓廠合計(jì)完成半導(dǎo)體設(shè)備招標(biāo) 588 臺(tái)，其中 1-6 月份分別完成招標(biāo) 57、8、171、178、1

18、06 和 68 臺(tái)，6 月份招標(biāo)完成量有望放緩。2）細(xì)分設(shè)備來看，2022 年 1-6 月份薄膜沉積設(shè)備、刻蝕設(shè)備、檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備、爐管設(shè)備招標(biāo)完成量較大，5 家晶圓廠分別合計(jì)完成招標(biāo) 96、80、69 和 93 臺(tái)，占比分別為 16%、14%、12%和 16%。3）細(xì)分晶圓廠來看，2022 年 1-6 月份華虹無錫、積塔半導(dǎo)體、福建晉華分別完成招標(biāo) 334、225 和 23 臺(tái)，招標(biāo)力度較大。9 / 21東吳證券研究所圖21：2022 年 1-6 月份 5 家晶圓廠合計(jì)完成招標(biāo) 588 臺(tái)設(shè)備1月2月3月4月5月6月1-6月合計(jì)占比光刻設(shè)備611140132%涂膠顯影設(shè)備2011330193

19、%薄膜沉積設(shè)備2413372569616%刻蝕設(shè)備003033988014%CMP設(shè)備904151203%清洗設(shè)備22134210336%離子注入設(shè)備709529325%檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備0121361016912%測(cè)試設(shè)備0172267437%爐管設(shè)備502557429316%去膠機(jī)0127217295%剝離設(shè)備0010000102%刷片機(jī)00090092%其他設(shè)備21153147427%合計(jì)57817117810668588100%數(shù)據(jù)來源：中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng)，（注：公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差；單位：臺(tái)）華虹無錫：2022 年 1-6 月份合計(jì)完成招標(biāo) 334 臺(tái)，1-6 月份分別完成招標(biāo)

20、 52、0、143、88、42 和 9 臺(tái)，6 月份明顯放緩。細(xì)分設(shè)備來看，薄膜沉積設(shè)備、刻蝕設(shè)備、檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備和爐管設(shè)備占比較高，1-6 月份合計(jì)分別完成招標(biāo) 58、51、47 和 44 臺(tái)。圖22：2021 年 1-6 月份華虹半導(dǎo)體（無錫）共完成招標(biāo) 334 臺(tái)設(shè)備1月2月3月4月5月6月1-6月合計(jì)占比光刻設(shè)備6172%涂膠顯影設(shè)備993%薄膜沉積設(shè)備2332215817%刻蝕設(shè)備2917415115%CMP設(shè)備941144%清洗設(shè)備121134%離子注入設(shè)備79165%檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備202344714%測(cè)試設(shè)備26268%爐管設(shè)備5102814413%去膠機(jī)271103%剝離設(shè)備1

21、0103%刷片機(jī)441%其他設(shè)備21463257%合計(jì)52014388429334100%數(shù)據(jù)來源：中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng)，（注：公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差；單位：臺(tái)）積塔半導(dǎo)體：2022 年 1-6 月份合計(jì)完成招標(biāo) 225 臺(tái)，1-6 月份分別完成招標(biāo) 1、6、25、81、57 和 55 臺(tái)，4 月份以來招標(biāo)力度明顯加大。細(xì)分來看，薄膜沉積設(shè)備、刻蝕設(shè)備和爐管設(shè)備招標(biāo)占比較高，1-6 月份合計(jì)分別完成招標(biāo) 34、27 和 46 臺(tái)。10 / 21東吳證券研究所圖23：2022 年 1-6 月份積塔半導(dǎo)體共完成招標(biāo) 225 臺(tái)設(shè)備1月2月3月4月5月6月1-6月合計(jì)占比光刻設(shè)備11463%涂

22、膠顯影設(shè)備13373%薄膜沉積設(shè)備172243415%刻蝕設(shè)備114572712%CMP設(shè)備1563%清洗設(shè)備11429178%離子注入設(shè)備49136%檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備1841146%測(cè)試設(shè)備1727178%爐管設(shè)備152924620%去膠機(jī)1214178%剝離設(shè)備00%刷片機(jī)552%其他設(shè)備1384167%合計(jì)1625815755225100%數(shù)據(jù)來源：中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng)，（注：公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差；單位：臺(tái)）福建晉華：2022 年 1-6 月份合計(jì)完成招標(biāo) 23 臺(tái)，其中 1-6 月份分別完成招標(biāo) 2、1、3、8、6 和 3 臺(tái)，小批量招標(biāo)持續(xù)。細(xì)分設(shè)備類型來看，檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備、涂

23、膠顯影設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備招標(biāo)完成量較大，1-6 月份合計(jì)分別完成招標(biāo) 8、3 和 3 臺(tái)。圖24：2022 年 1-6 月份福建晉華共完成招標(biāo) 23 臺(tái)設(shè)備1月2月3月4月5月6月1-6月合計(jì)占比光刻設(shè)備00%涂膠顯影設(shè)備21313%薄膜沉積設(shè)備111313%刻蝕設(shè)備114%CMP設(shè)備00%清洗設(shè)備00%離子注入設(shè)備1129%檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備152835%測(cè)試設(shè)備00%爐管設(shè)備21313%去膠機(jī)229%剝離設(shè)備00%刷片機(jī)00%其他設(shè)備114%合計(jì)21386323100%數(shù)據(jù)來源：中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng)，（注：公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差；單位：臺(tái)）11 / 21東吳證券研究所國(guó)產(chǎn)化率：1-6 月

24、份達(dá)到 35%，涂膠顯影&刻蝕等環(huán)節(jié)表現(xiàn)優(yōu)異國(guó)產(chǎn)化率方面，2022 年 1-6 月份 5 家晶圓廠合計(jì)完成國(guó)產(chǎn)設(shè)備招標(biāo) 205 臺(tái)，國(guó)產(chǎn)化率約 35%；其中 1-6 月份分別合計(jì)完成國(guó)產(chǎn)設(shè)備招標(biāo) 4、5、36、66、52 和 45 臺(tái)，國(guó)產(chǎn)化率分別為 7%、63%、21%、37%、49%和 66%。細(xì)分設(shè)備來看，涂膠顯影設(shè)備、刻蝕設(shè)備、CMP 設(shè)備、爐管設(shè)備、去膠機(jī)、剝離設(shè)備、刷片機(jī)國(guó)產(chǎn)化率較高，1-6 月份合計(jì)國(guó)產(chǎn)化率分別為 37%、50%、45%、35%、86%、60%和 56%。（注：在詳細(xì)統(tǒng)計(jì)中，我們將二手、翻新&外貿(mào)業(yè)務(wù)廠商的中標(biāo)結(jié)果也記入“國(guó)產(chǎn)設(shè)備”，故理論上本文的國(guó)產(chǎn)化率統(tǒng)計(jì)值偏

25、高）圖25：2022 年 1-6 月份 5 家晶圓廠完成招標(biāo)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率為 35%1月2月3月4月5月6月1-6月合計(jì)光刻設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量000011國(guó)產(chǎn)化率0%0%0%0%25%8%涂膠顯影設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量20237國(guó)產(chǎn)化率100%0%15%100%37%薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量016119330國(guó)產(chǎn)化率0%100%18%14%76%50%31%刻蝕設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量4253840國(guó)產(chǎn)化率13%76%33%100%50%CMP設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量040509國(guó)產(chǎn)化率0%100%0%100%0%45%清洗設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量22301914國(guó)產(chǎn)化率100%100%23%0%50%90%42%離子注入設(shè)備

26、國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量011103國(guó)產(chǎn)化率0%11%20%50%0%9%檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量021418國(guó)產(chǎn)化率0%10%3%40%100%12%測(cè)試設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量000044國(guó)產(chǎn)化率0%0%0%0%57%9%爐管設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量08222133國(guó)產(chǎn)化率0%32%39%50%50%35%去膠機(jī)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量10721525國(guó)產(chǎn)化率100%0%100%100%88%86%剝離設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量66國(guó)產(chǎn)化率60%60%刷片機(jī)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量55國(guó)產(chǎn)化率56%56%其他設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量012211420國(guó)產(chǎn)化率0%100%13%67%79%57%48%合計(jì)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量4536665245205國(guó)產(chǎn)化率7%63

27、%21%37%49%66%35%數(shù)據(jù)來源：中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng)，（注：公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差；單位：臺(tái)）華虹無錫：2022 年 1-6 月份合計(jì)完成國(guó)產(chǎn)設(shè)備招標(biāo) 61 臺(tái)，國(guó)產(chǎn)化率為 18%；其中 3-6 月份分別完成國(guó)產(chǎn)設(shè)備招標(biāo) 35、20、4、2 臺(tái)，國(guó)產(chǎn)化率分別為 24%、23%、10%、22%。細(xì)分設(shè)備來看，刻蝕設(shè)備、CMP 設(shè)備、清洗設(shè)備、爐管設(shè)備、去膠機(jī)、剝離設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率較高，1-6 月份合計(jì)國(guó)產(chǎn)化率分別為 33%、29%、15%、20%、80%和 60%。12 / 21東吳證券研究所圖26：2022 年 1-6 月份華虹半導(dǎo)體（無錫）完成招標(biāo)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率為 18%1月2月3

28、月4月5月6月1-6月合計(jì)光刻設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量000國(guó)產(chǎn)化率0%0%0%涂膠顯影設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量00國(guó)產(chǎn)化率0%0%薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量06006國(guó)產(chǎn)化率0%19%0%0%10%刻蝕設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量4120117國(guó)產(chǎn)化率14%71%0%100%33%CMP設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量0404國(guó)產(chǎn)化率0%100%0%29%清洗設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量202國(guó)產(chǎn)化率17%0%15%離子注入設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量011國(guó)產(chǎn)化率0%11%6%檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量2002國(guó)產(chǎn)化率10%0%0%4%測(cè)試設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量00國(guó)產(chǎn)化率0%0%爐管設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量08109國(guó)產(chǎn)化率0%80%4%0%20%去膠機(jī)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量07

29、18國(guó)產(chǎn)化率0%100%100%80%剝離設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量66國(guó)產(chǎn)化率60%60%刷片機(jī)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量00國(guó)產(chǎn)化率0%0%其他設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量02406國(guó)產(chǎn)化率0%14%67%0%24%合計(jì)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量035204261國(guó)產(chǎn)化率0%24%23%10%22%18%數(shù)據(jù)來源：中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng)，（注：公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差；單位：臺(tái)）積塔半導(dǎo)體：2022 年 1-6 月份合計(jì)完成國(guó)產(chǎn)設(shè)備招標(biāo) 135 臺(tái)，國(guó)產(chǎn)化率高達(dá) 60%；其中 4-6 月份分別完成國(guó)產(chǎn)設(shè)備招標(biāo) 42、47 和 42 臺(tái)，國(guó)產(chǎn)化率分別為 52%、82%和76%。細(xì)分設(shè)備來看，薄膜沉積設(shè)備、刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、CMP 設(shè)備、

30、去膠機(jī)、刷片機(jī)國(guó)產(chǎn)化率較高，1-6 月份合計(jì)國(guó)產(chǎn)化率分別為 68%、81%、71%、83%、100%和 100%。特別地，6 月份積塔半導(dǎo)體完成 9 臺(tái)清洗設(shè)備招標(biāo)，全部來自創(chuàng)微微電子（常州）（捷佳偉創(chuàng)的間接全資子公司）。13 / 21東吳證券研究所圖27：2022 年 1-6 月份積塔半導(dǎo)體完成招標(biāo)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率為 60%1月2月3月4月5月6月1-6月合計(jì)光刻設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量0011國(guó)產(chǎn)化率0%0%25%17%涂膠顯影設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量0134國(guó)產(chǎn)化率0%33%100%57%薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量0119323國(guó)產(chǎn)化率0%14%86%75%68%刻蝕設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量0123722國(guó)產(chǎn)化率0%

31、86%60%100%81%CMP設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量055國(guó)產(chǎn)化率0%100%83%清洗設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量1101912國(guó)產(chǎn)化率100%100%0%50%100%71%離子注入設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量000國(guó)產(chǎn)化率0%0%0%檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量00415國(guó)產(chǎn)化率0%0%100%100%36%測(cè)試設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量00044國(guó)產(chǎn)化率0%0%0%57%24%爐管設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量021223國(guó)產(chǎn)化率0%72%100%50%去膠機(jī)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量121417國(guó)產(chǎn)化率100%100%100%100%剝離設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量國(guó)產(chǎn)化率刷片機(jī)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量55國(guó)產(chǎn)化率100%100%其他設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量127414國(guó)產(chǎn)化率10

32、0%67%88%100%88%合計(jì)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量031424742135國(guó)產(chǎn)化率0%50%4%52%82%76%60%數(shù)據(jù)來源：中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng)，（注：公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差；單位：臺(tái)）福建晉華：2022 年 1-6 月份合計(jì)完成國(guó)產(chǎn)設(shè)備招標(biāo) 9 臺(tái)，國(guó)產(chǎn)化率約 39%；其中 1-6 月份分別完成國(guó)產(chǎn)設(shè)備招標(biāo) 2、1、0、4、1、1 臺(tái)，國(guó)產(chǎn)化率分別為 100%、100%、 0%、50%、17%和 33%。細(xì)分設(shè)備來看，2022 年 1-6 月份涂膠顯影設(shè)備和刻蝕設(shè)備分別合計(jì)完成招標(biāo) 3、1 臺(tái)，國(guó)產(chǎn)化率均為 100%。14 / 21東吳證券研究所圖28：2022 年 1-6 月份福建

33、晉華完成招標(biāo)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率為 39%1月2月3月4月5月6月1-6月合計(jì)光刻設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量國(guó)產(chǎn)化率涂膠顯影設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量213國(guó)產(chǎn)化率100%100%100%薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量1001國(guó)產(chǎn)化率100%0%0%33%刻蝕設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量11國(guó)產(chǎn)化率100%100%CMP設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量國(guó)產(chǎn)化率清洗設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量國(guó)產(chǎn)化率離子注入設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量112國(guó)產(chǎn)化率100%100%100%檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量0101國(guó)產(chǎn)化率0%20%0%13%測(cè)試設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量國(guó)產(chǎn)化率爐管設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量011國(guó)產(chǎn)化率0%100%33%去膠機(jī)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量00國(guó)產(chǎn)化率0%0%剝離設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量國(guó)產(chǎn)化率刷

34、片機(jī)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量國(guó)產(chǎn)化率其他設(shè)備國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量00國(guó)產(chǎn)化率0%0%合計(jì)國(guó)產(chǎn)中標(biāo)數(shù)量2104119國(guó)產(chǎn)化率100%100%0%50%17%33%39%數(shù)據(jù)來源：中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng)，（注：公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差；單位：臺(tái)）部分本土半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)中標(biāo)明細(xì)匯總國(guó)產(chǎn)替代浪潮下，本土半導(dǎo)體設(shè)備龍頭表現(xiàn)突出。據(jù)我們不完全統(tǒng)計(jì)，在上述 5 家晶圓廠招標(biāo)中，本土部分主要半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)的中標(biāo)情況如下所示：1）北方華創(chuàng)：2022 年 1-6 月份完成中標(biāo) 55 臺(tái)，其中 3 月份中標(biāo)華虹無錫 13 臺(tái)，4-5 月份中標(biāo)積塔半導(dǎo)體 42 臺(tái)，以薄膜沉積設(shè)備、爐管設(shè)備、刻蝕設(shè)備等為主。2）中微公司：2022 年

35、1-6 月份完成中標(biāo) 21 臺(tái)，包括 4 月份華虹無錫 12 臺(tái)，5 月份積塔半導(dǎo)體 1 臺(tái)，6 月份華虹無錫 1 臺(tái)、積塔半導(dǎo)體 7 臺(tái)，全部為刻蝕設(shè)備。3）芯源微：2022 年1-6 月份完成中標(biāo) 12 臺(tái)，包括 5 臺(tái)涂膠顯影設(shè)備，5 臺(tái)刷片機(jī)和 2 臺(tái)清洗設(shè)備；4）拓荊科技：2022 年 1-6 月份完成中標(biāo) 14 臺(tái)薄膜沉積設(shè)備，其中 3 月份中標(biāo)華虹無錫 3 臺(tái)，5 月份中標(biāo)積塔半導(dǎo)體 11 臺(tái)；5）華海清科：2022 年 1-6 月份完成中標(biāo) 8 臺(tái) CMP 設(shè)備，其中 3 月份中標(biāo)華虹無錫 3 臺(tái)，5 月份中標(biāo)積塔半導(dǎo)體 5 臺(tái)。（注：中標(biāo)公告統(tǒng)計(jì)范圍均僅限上述 5 家晶圓廠，

36、公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差）15 / 21東吳證券研究所圖29：2022 年 1-6 月份本土部分半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)中標(biāo)情況匯總客戶名稱中標(biāo)公告時(shí)間項(xiàng)目編號(hào)制造公司設(shè)備種類詳細(xì)設(shè)備數(shù)量北方華創(chuàng)華虹（無錫）2022/3/160613-214022126196/02北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司薄膜沉積設(shè)備物理氣相薄膜沉積設(shè)備（鈦、氮化鈦、氮化鉭和鋁銅）12022/3/160613-214022126353/04北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司薄膜沉積設(shè)備金屬氮化鈦濺射掩膜層設(shè)備22022/3/160613-214022216458/01北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司爐管設(shè)備合金退火爐（前道）2

37、2022/3/160613-214022216458/01北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司爐管設(shè)備合金退火爐（后道）42022/3/160613-214022126356/03北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司刻蝕設(shè)備多晶柵等離子體刻蝕機(jī)22022/3/160613-214022126356/03北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司刻蝕設(shè)備有源區(qū)等離子體刻蝕機(jī)2積塔半導(dǎo)體2022/4/254197-2140SHJT0001/104北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司刻蝕設(shè)備金屬等離子刻蝕機(jī)72022/4/254197-2140SHJT0001/104北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司刻蝕設(shè)備多晶硅刻蝕機(jī)52022/

38、4/264197-2140SHJT0001/105北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司爐管設(shè)備高溫推進(jìn)氧化膜立式爐管12022/4/264197-2140SHJT0001/105北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司爐管設(shè)備場(chǎng)氧化立式爐管112022/4/264197-2140SHJT0001/105北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司爐管設(shè)備退火工藝立式爐管32022/4/264197-2140SHJT0001/105北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司爐管設(shè)備合金工藝常壓立式爐管42022/4/264197-2140SHJT0001/105北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司爐管設(shè)備Polyimide curing工藝立

39、式常壓爐管22022/5/104197-2140SHJT0001/106北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司薄膜沉積設(shè)備鋁銅金屬濺射設(shè)備22022/5/104197-2140SHJT0001/106北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司薄膜沉積設(shè)備厚鋁銅金屬濺射設(shè)備22022/5/104197-2140SHJT0001/331北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司爐管設(shè)備合金化工藝低壓立式爐管12022/5/104197-2140SHJT0001/331北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司爐管設(shè)備緩沖層氧化膜爐管12022/5/104197-2140SHJT0001/331北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司刻蝕設(shè)備鋁刻蝕機(jī)1

40、2022/5/104197-2140SHJT0001/331北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司清洗設(shè)備晶圓回收單片清洗機(jī)（銅）12022/5/104197-2140SHJT0001/331北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司薄膜沉積設(shè)備鋁金屬物理氣相沉積機(jī)1合計(jì)55中微公司華虹（無錫）2022/4/70613-214022126356/04中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司刻蝕設(shè)備鈍化膜等離子體刻蝕機(jī)12022/4/70613-214022126356/04中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司刻蝕設(shè)備鈍化膜等離子體刻蝕機(jī)22022/4/70613-214022126356/04中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有

41、限公司刻蝕設(shè)備氧化膜等離子體刻蝕機(jī)22022/4/70613-214022126356/04中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司刻蝕設(shè)備氧化膜等離子體刻蝕機(jī)32022/4/70613-214022126356/04中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司刻蝕設(shè)備氧化膜等離子體刻蝕機(jī)22022/4/70613-214022126356/04中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司刻蝕設(shè)備氮化硅等離子體刻蝕機(jī)22022/6/300613-224022120817/03中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司刻蝕設(shè)備氧化膜離子刻蝕設(shè)備1積塔半導(dǎo)體2022/5/304197-2140SHJT0001/332南昌中微半導(dǎo)體

42、設(shè)備有限公司刻蝕設(shè)備通孔/深隔離槽/鈍化層介質(zhì)層刻蝕機(jī)12022/6/214197-2140SHJT0001/128南昌中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司刻蝕設(shè)備鈍化層等離子刻蝕機(jī)7合計(jì)21芯源微積塔半導(dǎo)體2022/4/194197-2140SHJT0001/100沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備股份有限公司刷片機(jī)刷片機(jī)52022/4/194197-2140SHJT0001/100沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備股份有限公司涂膠顯影設(shè)備抗反射層涂膠機(jī)12022/5/104197-2140SHJT0001/109沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備股份有限公司涂膠顯影設(shè)備聚合物涂膠顯影機(jī)1福建晉華2022/1/254197-2140JHICC001/1

43、5沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備股份有限公司涂膠顯影設(shè)備黃光涂膠顯影機(jī)22022/4/184197-2140JHICC001/32沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備股份有限公司涂膠顯影設(shè)備12吋黃光涂膠顯影機(jī)1華力集成2022/1/50705-214020603476沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備股份有限公司清洗設(shè)備HK段刷片清洗設(shè)備12022/1/50705-214020603476沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備股份有限公司清洗設(shè)備前段刷片清洗設(shè)備1合計(jì)12拓荊科技華虹（無錫）2022/3/10613-214022126353/02拓荊科技股份有限公司薄膜沉積設(shè)備化學(xué)氣相薄膜沉積設(shè)備22022/3/10613-214022126353/02拓

44、荊科技股份有限公司薄膜沉積設(shè)備等離子體增強(qiáng)方式化學(xué)氣相薄膜沉積設(shè)備1積塔半導(dǎo)體2022/5/104197-2140SHJT0001/116拓荊科技股份有限公司薄膜沉積設(shè)備二氧化硅等離子薄膜沉積設(shè)備32022/5/104197-2140SHJT0001/116拓荊科技股份有限公司薄膜沉積設(shè)備二氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等離子薄膜沉積設(shè)備8合計(jì)14華海清科華虹（無錫）2022/3/90613-214022126189/02華海清科股份有限公司CMP設(shè)備化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備（銅）22022/3/90613-214022126189/04華海清科股份有限公司CMP設(shè)備化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備（鎢）1積塔半導(dǎo)體20

45、22/5/174197-2140SHJT0001/117華海清科股份有限公司CMP設(shè)備二氧化硅研磨機(jī)12022/5/174197-2140SHJT0001/117華海清科股份有限公司CMP設(shè)備鎢金屬機(jī)化學(xué)機(jī)械研磨4合計(jì)8盛美上海華虹（無錫）2022/3/40613-214022216352/04盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司清洗設(shè)備鋁線及通孔清洗設(shè)備（后段工藝）12022/3/40613-214022216352/05盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司剝離設(shè)備銅線聚合體剝離設(shè)備(后段工藝)32022/3/40613-214022216192/02盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司清洗設(shè)備擴(kuò)

46、散爐前清洗設(shè)備（柵氧前標(biāo)準(zhǔn)版）12022/3/40613-214022216192/04盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司剝離設(shè)備光刻膠剝離設(shè)備(標(biāo)準(zhǔn)版)22022/3/40613-214022216192/08盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司剝離設(shè)備前段光刻膠剝離單片設(shè)備12022/3/40613-214022216192/09盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司其他設(shè)備銅硅片再生設(shè)備（銅后段工藝）12022/3/40613-214022216192/09盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司其他設(shè)備多晶硅硅片再生設(shè)備1福建晉華2022/2/154197-2140JHICC001/16盛美半導(dǎo)體

47、設(shè)備（上海）股份有限公司薄膜沉積設(shè)備電鍍銅金屬沉積工藝機(jī)臺(tái)12022/4/254197-2140JHICC001/29盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司刻蝕設(shè)備12吋晶圓廠金屬晶邊濕法蝕刻工藝機(jī)臺(tái)12022/6/284197-2140JHICC001/48盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司爐管設(shè)備爐管設(shè)備1合計(jì)13北京屹唐華虹（無錫）2022/4/70613-214022126356/06北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司去膠機(jī)等離子去膠機(jī)72022/4/70613-214022126195/03北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司爐管設(shè)備快速熱退火設(shè)備(高溫)12022/6/170613-224022

48、120817/04北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司去膠機(jī)等離子去膠機(jī)1積塔半導(dǎo)體2022/4/264197-2140SHJT0001/317北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司其他設(shè)備灰化機(jī)2合計(jì)11精測(cè)電子福建晉華2022/4/264197-2140JHICC001/39上海精測(cè)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備12吋掃描式電子顯微鏡1積塔半導(dǎo)體2022/6/134197-2140SHJT0001/126上海精測(cè)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備厚度測(cè)量設(shè)備1合計(jì)2捷佳偉創(chuàng)積塔半導(dǎo)體2022/6/134197-2140SHJT0001/122創(chuàng)微微電子（常州）有限公司清洗設(shè)備半自動(dòng)清洗設(shè)備(8寸/12兼

49、容)12022/6/134197-2140SHJT0001/122創(chuàng)微微電子（常州）有限公司清洗設(shè)備金屬鈦去除機(jī)12022/6/134197-2140SHJT0001/122創(chuàng)微微電子（常州）有限公司去膠機(jī)濕法去膠機(jī)22022/6/134197-2140SHJT0001/122創(chuàng)微微電子（常州）有限公司清洗設(shè)備氧化物去除酸槽22022/6/134197-2140SHJT0001/122創(chuàng)微微電子（常州）有限公司清洗設(shè)備控片清洗機(jī)12022/6/134197-2140SHJT0001/122創(chuàng)微微電子（常州）有限公司清洗設(shè)備氮化硅去除酸槽12022/6/134197-2140SHJT0001/1

50、22創(chuàng)微微電子（常州）有限公司清洗設(shè)備聚合物去除酸槽22022/6/134197-2140SHJT0001/122創(chuàng)微微電子（常州）有限公司清洗設(shè)備鋁刻蝕酸槽1合計(jì)11中科飛測(cè)福建晉華2022/5/244197-2140JHICC001/44深圳中科飛測(cè)科技股份有限公司檢測(cè)/量測(cè)設(shè)備膜厚量測(cè)機(jī)臺(tái)3合計(jì)3數(shù)據(jù)來源：中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng)，（注：公開信息匯總更新不及時(shí)可能存在誤差；單位：臺(tái)）16 / 21行業(yè)進(jìn)入業(yè)績(jī)兌現(xiàn)期，國(guó)產(chǎn)替代長(zhǎng)期存在&空間廣闊Q2 業(yè)績(jī)延續(xù)高速增長(zhǎng)，存貨&合同負(fù)債支撐全年業(yè)績(jī)高增下游大規(guī)模擴(kuò)產(chǎn)&國(guó)產(chǎn)替代邏輯雙輪驅(qū)動(dòng)下，半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)已進(jìn)入業(yè)績(jī)兌現(xiàn)期。 2021 年和 2022Q1

51、十家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)營(yíng)業(yè)收入分別為 237 和 60 億元，分別同比+56%和+57%，持續(xù)大幅增長(zhǎng)。2022 年上半年來看，中微公司和北方華創(chuàng)率先發(fā)布中報(bào)業(yè)績(jī)預(yù)告，均超出市場(chǎng)預(yù)期，我們判斷 Q2 半導(dǎo)體設(shè)備板塊業(yè)績(jī)有望延續(xù)高速增長(zhǎng)。1）中微公司：2022H1 營(yíng)業(yè)收入約 19.7 億元，同比約+47%；實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)為 4.2-4.8 億元，同比+6%-21%；實(shí)現(xiàn)扣非歸母凈利潤(rùn) 4.1-4.5 億元，同比+565%-630%，扣非歸母凈利潤(rùn)實(shí)現(xiàn)大幅增長(zhǎng)，真實(shí)盈利水平明顯提升。我們判斷主要系高毛利水平刻蝕設(shè)備收入占比提升，以及規(guī)模效應(yīng)下公司期間費(fèi)用率下降所致。2）北方華創(chuàng)：2022H1 實(shí)現(xiàn)營(yíng)

52、收 50.5-57.7 億元，同比+40%-60%；實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)7.1-8.1 億元，同比+130%-160%；實(shí)現(xiàn)扣非歸母凈利潤(rùn) 6.0-6.9 億元，同比+165%-205%，超過市場(chǎng)預(yù)期，真實(shí)盈利水平明顯提升。我們推測(cè)一方面系產(chǎn)品結(jié)構(gòu)優(yōu)化，整體毛利率有所提升；另一方面系規(guī)模效應(yīng)下期間費(fèi)用率有一定下降。圖30：2021/2022Q1 十家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)合計(jì)營(yíng)業(yè)收入同比+56%/+57%北方華創(chuàng)中微公司華峰測(cè)控至純科技盛美上海長(zhǎng)川科技精測(cè)電子芯源微拓荊科技華海清科25020015010050020182019202020212022Q1東吳證券研究所數(shù)據(jù)來源：Wind，（單位：億元）截至

53、2022Q1 末，十家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)存貨和合同負(fù)債合計(jì)分別達(dá)到 208 和 95 億元，均達(dá)到歷史最高值，在手訂單普遍充足，將保障 2022 年業(yè)績(jī)延續(xù)高速增長(zhǎng)。17 / 21圖31：2022Q1 十家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)存貨合計(jì) 208 億元圖32：2022Q1 十家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)合同負(fù)債共 95 億元250200150100500華海清科拓荊科技芯源微精測(cè)電子長(zhǎng)川科技盛美上海至純科技華峰測(cè)控中微公司北方華創(chuàng) 20182019202020212022Q1120100806040200華海清科拓荊科技芯源微精測(cè)電子長(zhǎng)川科技盛美上海至純科技華峰測(cè)控中微公司北方華創(chuàng)20182019202020212022Q1數(shù)據(jù)來源：Wind