X-射線衍射分析基礎(chǔ)及應(yīng)用：電子顯微分析-概述

1、 電子顯微分析概述一 電子光學(xué)基礎(chǔ)二 電子與固體物質(zhì)的相互作用三 透射電子顯微分析四 掃描電子顯微分析五 X射線能譜分析 電子顯微分析是利用聚焦電子束與試樣物質(zhì)相互作用產(chǎn)生的各種物理信號(hào)，分析試樣物質(zhì)的微區(qū)形貌、晶體結(jié)構(gòu)和化學(xué)組成。概述包括：用透射電子顯微鏡進(jìn)行的透射電子顯微分析用掃描電子顯微鏡進(jìn)行的掃描電子顯微分析用電子探針儀進(jìn)行的X射線顯微分析 電子顯微分析是材料科學(xué)的重要分析方法之一，與其它的形貌、結(jié)構(gòu)和化學(xué)組成分析方法相比具有以下特點(diǎn)：具有在極高放大倍率下直接觀察試樣的形貌、晶體結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分。為一種微區(qū)分析方法，具有很高的分辨率，成像分辨率達(dá)到0.20.3nm（TEM），可直接分辨原

2、子，能進(jìn)行納米尺度的晶體結(jié)構(gòu)及化學(xué)組成分析。各種儀器日益向多功能、綜合性方向發(fā)展。日本電子公司 JEM-透射電鏡100/120kV200kV1.3MVJEM-1011JEM-1400JEM-2100JEM-2100FJEM-3010JEM-3100FJEOL透射電鏡系列公司系列透射電鏡1、電子顯微鏡發(fā)展簡(jiǎn)史1924年L. De和Broglie發(fā)現(xiàn)運(yùn)動(dòng)電子具有波粒二象性。1926年Busch發(fā)現(xiàn)在軸對(duì)稱的電磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)的電子有會(huì)聚現(xiàn)象。二者結(jié)合導(dǎo)致研制電子顯微鏡的偉大設(shè)想。1931年，第一臺(tái)電鏡在德國(guó)柏林誕生。至1934年電鏡的分辨率可達(dá)50nm，1939年德國(guó)西門子公司第一臺(tái)電鏡投放市場(chǎng)，分辨率

3、優(yōu)于10nm。1935年克諾爾（Knoll）提出掃描電鏡的工作原理，1938年阿登納（Ardenne）制造了第一臺(tái)掃描電鏡。60年代后，電鏡開始向高電壓、高分辨率發(fā)展，100200kV的電鏡逐漸普及，1960年，法國(guó)研制了第一臺(tái)1MV的電鏡，1970年又研制出3MV的電鏡。70年代后，電鏡的點(diǎn)分辨率達(dá)0.23nm ，晶格（線）分辨率達(dá)0.1 nm。同時(shí)掃描電鏡有了較大的發(fā)展，普及程度逐漸超過了透射電鏡。近一、二十年，出現(xiàn)了聯(lián)合透射、掃描，并帶有分析附件的分析電鏡。電鏡控制的計(jì)算機(jī)化和制樣設(shè)備的日趨完善，使電鏡成為一種既觀察圖象又測(cè)結(jié)構(gòu)，既有顯微圖象又有各種譜線分析的多功能綜合性分析儀器。80年代后，又研制出了掃描隧道電鏡和原子力顯微鏡等新型的顯微鏡。我國(guó)自1958年試制成功第一臺(tái)電鏡以來，電鏡的設(shè)計(jì)、制造和應(yīng)用曾有相當(dāng)規(guī)模的發(fā)展。主要產(chǎn)地有北京和上海。2、