后清洗生產(chǎn)培訓(xùn)

1、后清洗生產(chǎn)培訓(xùn)第1頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二Rena結(jié)構(gòu)Rena生產(chǎn)原理Inoxside界面操作與等離子刻蝕比較第2頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二Rena水平刻蝕清洗機(jī)11.冷水機(jī)； 5.上料臺(tái)；2.上位機(jī)； 6.rena柱式指示燈及其急停開關(guān);3.抽風(fēng)管及其調(diào)節(jié)閥； 7.前玻璃窗.4.集中供液柱式指示燈及其急停開關(guān);1532674第3頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二4Rena各部件功能介紹-11.冷水機(jī): 給冷卻器提供冷卻水.2.上位機(jī):向PLC輸入運(yùn)行參數(shù),監(jiān)控其運(yùn)行.3.抽風(fēng)管及其調(diào)節(jié)閥:排設(shè)備內(nèi)廢氣,調(diào)節(jié),

2、監(jiān)視抽風(fēng)負(fù)壓.4.集中供液柱式指示燈及其急停開關(guān):柱式指示燈顯示集中供液運(yùn)行狀態(tài),急停開關(guān)用于應(yīng)急停止集中供液設(shè)備.5.上料臺(tái):用于設(shè)備供料放硅片.6. rena柱式指示燈及其急停開關(guān):柱式指示燈顯示rena運(yùn)行狀態(tài),急停開關(guān)用于應(yīng)急停止rena設(shè)備.7.前玻璃窗:監(jiān)視設(shè)備內(nèi)硅片運(yùn)行情況,保護(hù)設(shè)備內(nèi)氣體流動(dòng),隔絕設(shè)備尾氣.第4頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二Rena水平刻蝕清洗機(jī)28.電柜； 12.排放管道；9.后玻璃蓋板； 13.自動(dòng)補(bǔ)液槽；10.下料臺(tái)； 14.集中供液管路 ； 11.供氣，供水管道； 15.傳送滾軸.89101112131415第5頁(yè)，共26頁(yè)，2

3、022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二6Rena各部件功能介紹-28.電柜:放置安裝設(shè)備總電源開關(guān),各斷路開關(guān),電腦機(jī)箱以及PLC(設(shè)備總控制器).9.后玻璃蓋板:監(jiān)視設(shè)備各部件運(yùn)行情況,保護(hù)設(shè)備內(nèi)氣體流動(dòng),隔絕設(shè)備尾氣.10.下料臺(tái):用于刻蝕后硅片卸片(插片).11.供氣,供水管道:供應(yīng)設(shè)備正常運(yùn)轉(zhuǎn)使用的壓縮空氣,純水,自來(lái)水以及冷卻水.12.排放管道:用于排去設(shè)備廢水.13.自動(dòng)補(bǔ)液槽:用于儲(chǔ)存設(shè)備自動(dòng)運(yùn)行時(shí)補(bǔ)償?shù)幕瘜W(xué)品.14.集中供液管路:用于集中供液向自動(dòng)補(bǔ)液槽添加化學(xué)品以及rena的首次加液.15.傳動(dòng)滾軸:用于rena設(shè)備內(nèi)傳送硅片.第6頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)

4、11分，星期二Rena水平刻蝕清洗機(jī)各槽分布圖1.Etch bath； 5.Hf bath；2.Rinse 1； 6.rinse 3（DI-Water spray）；3.Alkaline rinse； 7.dryer 2。4.Rinse 2；1234567第7頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二Rena各槽功能介紹 1.上料臺(tái)放片 2.刻蝕槽刻邊 3.洗槽去殘液 6.HF槽去磷硅玻璃 5.洗槽去殘液 4.KOH噴淋去多孔硅 7.洗槽去殘液 8.風(fēng)刀吹干 9.下料臺(tái)插片第8頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二Rena各槽功能介紹槽名主要功能實(shí)現(xiàn)情況Etch

5、-bath刻蝕硅片邊緣及背面的PN結(jié)，刻蝕線不超過(guò)硅片邊緣1.5mm，無(wú)刻不通現(xiàn)象。此槽需循環(huán)流量，刻蝕液溫度，氣體流動(dòng)穩(wěn)定?？涛g速率下降越慢越好。風(fēng)刀吹去硅片上面的刻蝕槽殘液。良好Rinse 1循環(huán)噴淋水洗去刻蝕后吸附在硅片上的刻蝕液，并風(fēng)刀吹去積在硅片上的洗槽槽液。良好Alkaline-rinseKOH噴淋去除硅片表面的多孔硅及其雜質(zhì)，去除擴(kuò)散形成的染色.并風(fēng)刀吹去積在硅片上面的KOH殘液。KOH溶液依靠冷卻水降溫保持在20左右。良好Rinse 2循環(huán)噴淋水洗去去多孔硅后吸附在硅片上的堿液，并風(fēng)刀吹去積在硅片上的洗槽槽液。良好Hf-bathHF循環(huán)沖刷噴淋去除硅片表面的磷硅玻璃，并風(fēng)刀吹去

6、積在硅片上的HF殘液良好Rinse 3循環(huán)噴淋水洗去去磷硅玻璃后吸附在硅片上的HF酸液，并純水噴霧洗去循環(huán)水殘液。良好Dryer 22道來(lái)回拉動(dòng)的風(fēng)刀吹去硅片兩面吸附的純水，不能有液體殘留在硅片上。一般第9頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二一、刻蝕槽刻蝕槽生產(chǎn)多晶156硅片圖片第10頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二刻蝕槽溶液流向圖刻蝕反應(yīng)為氧化，放熱反應(yīng).流回儲(chǔ)液槽，溶液溫度較高儲(chǔ)液槽泵液至冷卻器冷卻器泵液至刻蝕槽內(nèi)槽刻蝕槽內(nèi)槽溫度較低液面與硅片吸附反應(yīng)后流入外槽內(nèi)槽槽壁可調(diào)節(jié)高度，刻蝕槽液不斷循環(huán)降溫，且循環(huán)流量（一定范圍內(nèi)）越大，液面越高泵第1

7、1頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二刻蝕槽硅片流入吸附刻蝕液原理此為生產(chǎn)mono125-150硅片時(shí)圖片硅片完全懸空硅片尾部吸附刻蝕液第12頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二刻蝕槽硅片流入吸附刻蝕液原理此為生產(chǎn)mono125-150硅片時(shí)圖片2052934橡膠圈較小2051141橡膠圈正?？涛g液完全吸附第13頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二刻蝕槽前后硅片狀態(tài)比較此為生產(chǎn)mono125-150硅片時(shí)圖片硅片剛進(jìn)入刻蝕槽硅片刻蝕后，邊緣水印為反應(yīng)生成的水第14頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二刻蝕槽影響刻蝕效

8、果的因素一、抽風(fēng):抽風(fēng)在很大程度上會(huì)影響到刻蝕槽液面波動(dòng)，而刻蝕槽任何的液面波動(dòng)，對(duì)在液面上運(yùn)行的硅片都有很大影響；二、傳動(dòng)速度:傳動(dòng)速度決定硅片通過(guò)刻蝕槽的時(shí)間，也就是決定硅片刻蝕的反應(yīng)時(shí)間；三、滾軸和內(nèi)槽槽邊高度（水平）:滾軸高度決定硅片通過(guò)刻蝕槽時(shí)的高度，而內(nèi)槽槽邊高度（水平）決定刻蝕槽液面的大致高度，兩者的高度差距只有在合理范圍內(nèi)，硅片才能吸附到刻蝕液；四、滾軸水平：滾軸水平，5道軌道內(nèi)運(yùn)行的硅片才能與刻蝕液水平面平行，只有平行于水平面，硅片吸附刻蝕液才均勻，也即刻蝕均勻，無(wú)過(guò)刻或刻不通現(xiàn)象；五、硅片覆蓋率：硅片覆蓋率也就是硅片之間的間距，它決定硅片間液面形狀?？涛g槽是通過(guò)液體的張力將

9、刻蝕液吸附于硅片上，但硅片間間隙過(guò)小，液體就會(huì)浸漫到硅片上面，破壞擴(kuò)散面。同時(shí)，過(guò)高的覆蓋率還會(huì)使刻蝕槽液面升高。第15頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二Rinse 1一號(hào)洗槽采用循環(huán)水噴淋，上下各兩道水刀沖洗硅片兩面后，風(fēng)刀吹去硅片上面殘液（水源為rinse 2溢流水）。上水刀下水刀風(fēng)刀第16頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二17Alkaline rinse上水刀上水刀風(fēng)刀第17頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二堿槽溶液流向圖（槽截面）泵過(guò)濾器硅片運(yùn)行平面堿液流動(dòng)方向冷卻水流動(dòng)方向槽壁噴淋頭槽內(nèi)液面高于溢流口的溶液從溢流管排掉

10、F第18頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二Rinse 2二號(hào)洗槽采用循環(huán)水噴淋，上下各兩道水刀沖洗硅片兩面后，風(fēng)刀吹去硅片上面殘液（水源為rinse 3溢流水） 。上水刀下水刀風(fēng)刀第19頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二HF bath氫氟酸槽采用5%HF溶液噴淋浸泡，上下各四道水刀沖洗硅片兩面后，風(fēng)刀吹去硅片上面殘液氫氟酸循環(huán)噴淋使反應(yīng)充分HF bath去PSG 硅片完全浸泡在溶液里第20頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二氫氟酸槽溶液流向圖（槽截面）過(guò)濾器泵硅片運(yùn)行平面氫氟酸液流動(dòng)方向內(nèi)槽液面外槽液面F噴淋頭第21頁(yè)，共26頁(yè)，

11、2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二Rinse 3三號(hào)洗槽采用循環(huán)水噴淋（水源為純水噴霧落進(jìn)槽內(nèi)水） ，上下各兩道水刀沖洗硅片兩面后，上下各一道純水噴霧器清洗硅片兩面（流量400lh）循環(huán)水沖洗DI-Water噴霧器最后沖洗，水落進(jìn)槽底，重復(fù)利用。第22頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二Dryer 2二號(hào)干燥槽采用壓縮空氣吹干，上下各兩道風(fēng)刀使用馬達(dá)帶動(dòng)來(lái)回拉動(dòng)，吹干硅片。吹干風(fēng)刀第23頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二濕法刻蝕相對(duì)等離子刻蝕的優(yōu)點(diǎn) 1、非擴(kuò)散面PN結(jié)刻蝕時(shí)被去除（原等離子刻蝕背面PN結(jié)依靠絲印被鋁漿時(shí)，鋁還原硅片使N形硅變?yōu)镻形硅，但所產(chǎn)生的P形硅電勢(shì)不強(qiáng)）；2、硅片潔凈度提高（無(wú)等離子刻蝕的尾氣污染）；3、節(jié)水（rena使用循環(huán)水沖洗硅片，耗水約8T/h。等離子刻蝕去PSG用槽浸泡，用水量大） 。第24頁(yè)，共26頁(yè)，2022年，5月20日，8點(diǎn)11分，星期二濕法刻蝕相對(duì)等離子刻蝕的缺點(diǎn)1、硅