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1、固體中的原子無(wú)序固體中的原子無(wú)序 2-6 固體中的原子無(wú)序 (Imperfections in Solids) 2-6-1 固溶體(Solid Solution): 雜質(zhì)原子(或離子、分子)均勻分布(溶)于基質(zhì)晶格中的固體 通常特征:雜質(zhì)和基質(zhì)原子共同占據(jù)原基質(zhì)的晶格點(diǎn)陣; 有一定的成分范圍 - 固溶度 1. 根據(jù)相圖劃分: 1) 端部固溶體(初級(jí)固溶體): 包括純組分的固溶體 相圖端部 2) 中部固溶體(二次固溶體): 0任一組元100 相圖中部 (無(wú)任一組元的結(jié)構(gòu),以化合物為基) 2-6 固體中的原子無(wú)序 (Imperfections i返回上頁(yè)返回上頁(yè) 2. 根據(jù)溶質(zhì)在點(diǎn)陣中的位置劃分:

2、 1) 置換型固溶體(Substitutional solid solution): 晶體原 (離)子被其它原(離)子部分代換后形成 置換量不同可: 完全互溶; 不形成固溶體 部分互溶; Figure 5.5 2. 根據(jù)溶質(zhì)在點(diǎn)陣中的位置劃分: 置換量不同 影響置換因素:下列諸因素相同(近)易置換;否則難成固溶體 A. 離子大小: 同晶型時(shí) 半徑差 15, 完全互溶 2040%, 部分互溶 難置換 B鍵性(極化): Zn+(共價(jià)性) Fe+(離子性) C. 晶體結(jié)構(gòu)類(lèi)型和晶胞大小 D電價(jià): 電價(jià)差使置換難(大晶胞中需其它離子補(bǔ)足) 影響置換因素:下列諸因素相同(近)易置換;否則難成固溶 2)間

3、隙型固溶體 (Interstitial solid solution) : 較小的原子進(jìn)入晶格間隙形成的固溶體 影響因素: A 晶格結(jié)構(gòu)的空隙大小 B 間隙離子進(jìn)入后需空位或其它高價(jià)反電荷離子 以置換方式平衡電中性。Figure 5.5 2)間隙型固溶體 (Interstitial solid 固溶體的理論密度: c = N A V NA N、V 分別為晶胞的原子數(shù)和體積 A 為固溶體平均相對(duì)原子質(zhì)量 NA為阿佛伽德羅常數(shù) 測(cè)定固溶體實(shí)際密度 e 若: c e : 間隙式 c = e : 置換式 c e : 缺位式 (缺陣點(diǎn)原子)固溶體的判斷 固溶體的理論密度:固溶體的判斷 3)非化學(xué)計(jì)量化合

4、物 (Nonstoichiometric): 組分比偏差于化學(xué)式的化合物 (含變價(jià)離子) 實(shí)質(zhì)是由金屬的高氧化態(tài)和低氧化態(tài)形成的固溶體 其電中性(electroneutrality)由空孔或間隙離子平衡Figure 5.4 3)非化學(xué)計(jì)量化合物 (Nonstoichiometr 3. 根據(jù)固溶度劃分: 1) 有限固溶體: 固溶度 100% 2) 無(wú)限固溶體(連續(xù)固溶體): 固溶度 0 100% 2) 有序固溶體:各組元原子分別占據(jù)各自的分點(diǎn)陣, 分點(diǎn)陣穿插成 復(fù)雜的超點(diǎn)陣 4根據(jù)各組元原子分布的規(guī)律性劃分: 1) 無(wú)序固溶體:組元原子的分布是隨機(jī)的 3. 根據(jù)固溶度劃分: 2) 有序固溶體:各

5、組 2-6-2 晶體結(jié)構(gòu)缺陷 (Defects in Crystals) 晶體中原子排列的周期性受到破壞的區(qū)域,分: 1. 點(diǎn)缺陷(Point Defect):任何方向尺寸都遠(yuǎn)小于晶體線度的缺陷區(qū) 空位 (vacancy): (a)無(wú)原子的陣點(diǎn)位置 間隙原子(Self-interstitial): (d)擠入點(diǎn)陣間隙的原子 肖特基缺陷 (Schottky Defect):(c)離子對(duì)空位 弗蘭克爾缺陷(Frenkel Defect):(e)等量的正離子空位和正離子間隙(b)雙空位 2-6-2 晶體結(jié)構(gòu)缺陷 (Defects in CrysEXAMPLE PROBLEM 5.1Calculate

6、 the equilibrium number of vacancies per cubic meter for copper at1000 . The energy for vacancy formation is 0.9 eV/atom; the atomic weight and density (at 1000) for copper are 63.5 g/mol and 8.40 g/cm3, respectively.SOLUTIONThis problem may be solved by using Equation 5.1; it is first necessary, ho

7、wever,to determine the value of N, the number of atomic sites per cubic meter for copper, from its atomic weight ACu , its density , and Avogadros number NA, according toEXAMPLE PROBLEM 5.1固體中的原子無(wú)序課件Figure 5.3Figure 5.3 2. 線缺陷(位錯(cuò)Dislocation): 僅一維尺寸可與晶體線度比擬的缺陷 一或數(shù)列原子發(fā)生有規(guī)則的錯(cuò)排 EF BB 1) 棱位錯(cuò)(刃位錯(cuò) Edge Dis

8、location) 位錯(cuò)線與滑移方向(柏格斯矢量)垂直壓力、拉力 2. 線缺陷(位錯(cuò)Dislocation): 僅一維Figure 5.7Figure 5.7 2)螺旋位錯(cuò)(Screw Dislocation): 位錯(cuò)線與滑移方向(柏格斯矢量)平行 與位錯(cuò)線垂直的平面在螺旋斜面 受剪切力作用易發(fā)生 AD BB 2)螺旋位錯(cuò)(Screw Dislocation): FIGURE 5.8 (FIGURE 5.8 (位錯(cuò)有兩個(gè)特征: 一個(gè)是位錯(cuò)線的方向,它表明給定點(diǎn)上位錯(cuò)線的方向, 如EF, AD,用單位矢量表示, 另一個(gè)是為了表明位錯(cuò)存在時(shí),晶體一側(cè)的質(zhì)點(diǎn)相對(duì)另 一側(cè)質(zhì)點(diǎn)的位移,用一個(gè)柏格斯矢量

9、b 表示。 它是指該位錯(cuò)的單位滑移距離,其方向和滑移方向平行 b = 0 相互垂直,純棱位錯(cuò) b = - b 相互逆向平行,純螺旋位錯(cuò)位錯(cuò)有兩個(gè)特征: b = 0 相互垂直,柏格斯矢量 (Burgers Vector)柏格斯回路柏格斯矢量 (Burgers Vector)柏格斯回路右手規(guī)則: 拇指-位錯(cuò)線方向 四指轉(zhuǎn)向-柏格斯回路轉(zhuǎn)向右手規(guī)則: 拇指-位錯(cuò)線方向固體中的原子無(wú)序課件混合位錯(cuò)FIGURE 5.9 混合位錯(cuò)FIGURE 5.9 位錯(cuò)密度:n l / A l = n / AFIGURE 5.9位錯(cuò)密度:n l / A l = n / AFIGURE 5滑移 外力推動(dòng)爬移 空位和間隙原

10、子無(wú)缺陷滑移 外力推動(dòng)爬移 空位和間隙原子無(wú)缺陷 3. 面缺陷 (Interfacial Defects): 僅一平面方向上尺寸可與晶體線度比擬的缺陷 如由一系列刃位錯(cuò)排列成一個(gè)平面形成的缺陷 4體缺陷 (Volume Defects): 各方向尺寸均可與晶體線度比擬的缺陷 如 空洞、嵌塊等。 3. 面缺陷 (Interfacial Defects 2-6-3 非晶體 (Noncrystalline) 1非晶材料: 結(jié)構(gòu)在體積范圍內(nèi) 缺乏重復(fù)性 的材料 (非晶型、無(wú)定形 amorphous) 無(wú)平移對(duì)稱(chēng),無(wú)長(zhǎng)程有序,原子位置排布完全無(wú)周期性, 具有統(tǒng)計(jì)規(guī)律。 (密亂堆垛,無(wú)規(guī)網(wǎng)絡(luò)等) 2-6-

11、3 非晶體 (Noncrystalline) 2 分布函數(shù): 徑向分布函數(shù):J(r) = 4r2 (r) 雙體分布函數(shù):以某原子為原點(diǎn), 距離r 處找到另一原子的幾率 g(r) = (r) / 0 (r) 為r 處原子的數(shù)目密度; 0 為整個(gè)樣品的平均原子數(shù)密度 可求兩個(gè)參數(shù): 配位數(shù):第一峰面積 原子間距:峰位置 2 分布函數(shù):可求兩個(gè)參數(shù):固體中的原子無(wú)序課件3、非晶態(tài)結(jié)構(gòu)模型 微晶(不連續(xù))無(wú)規(guī)拓樸(連續(xù))3、非晶態(tài)結(jié)構(gòu)模型 微晶(不連續(xù))無(wú)規(guī)拓樸(連續(xù))除四面體外, 有八、十二、十四面體: 6%, 4%, 4%密度上限: 0.637 (真密堆:0 .74)A. 硬球無(wú)序密堆致密度除四面

12、體外, 有A. 硬球無(wú)序密堆致密度B.無(wú)規(guī)網(wǎng)絡(luò)(二氧化硅玻璃)橋氧鍵角變化較大B.無(wú)規(guī)網(wǎng)絡(luò)橋氧鍵角變化較大 2-6-4 擴(kuò)散(Diffusion) 1 擴(kuò)散現(xiàn)象:原子(或分子)通過(guò)熱運(yùn)動(dòng)改變位置而移動(dòng)Chapter 6 2-6-4 擴(kuò)散(Diffusion)Chapte 1)自擴(kuò)散(self-diffusion): 純固體中,同種元素的原子 從一個(gè)點(diǎn)陣位置移動(dòng)到另一個(gè)點(diǎn)陣位置 2) 互擴(kuò)散(interdiffusion): 不同種元素接觸后原子相互移動(dòng)換位 1)自擴(kuò)散(self-diffusion): 純固體 3) 擴(kuò)散的原因 原子不是靜止的; 原子圍繞其平衡位置進(jìn)行小振幅的振動(dòng); 部分原子具

13、有足夠振幅,位置移動(dòng)。 溫度影響擴(kuò)散;晶體中的缺陷類(lèi)型和數(shù)量影響擴(kuò)散。 2 擴(kuò)散機(jī)制(Diffusion Mechanisms) 1) 晶體 空位擴(kuò)散(Vacancy Diffusion):一個(gè)原子與一個(gè)相鄰空位交換位置 多數(shù)金屬和置換固溶體 間隙擴(kuò)散(Interstitial Diffusion):間隙式固溶體 H, C, N, O 直接交換機(jī)制:極難,很少發(fā)生 下頁(yè) 3) 擴(kuò)散的原因 2 擴(kuò)散機(jī)制(DifFigure 6.3 Figure 6.3 擴(kuò)散通道:沿位錯(cuò)、晶界、外表面 擴(kuò)散的激活能(Activation Energy) Q : 擴(kuò)散系數(shù)(Diffusion Coefficient

14、) D = D o e Q/RT金屬Section 6.5擴(kuò)散通道:沿位錯(cuò)、晶界、外表面 擴(kuò)散的激活能(Acti金屬的擴(kuò)散激活能 (kcal/mol) Tm Q金屬的擴(kuò)散激活能 (kcal/mol) 離子材料的擴(kuò)散激活能 空位機(jī)制離子材料的擴(kuò)散激活能 摻雜: 中溫時(shí)少量雜質(zhì)能加速擴(kuò)散 NaCl中加CdCl2后鈉離子擴(kuò)散系數(shù)的變化 摻雜: NaCl中加CdCl2后鈉離子擴(kuò)散系數(shù)的變化 2)非晶體 無(wú)序結(jié)構(gòu),有空穴,通過(guò)自由體積進(jìn)行(缺陷)。 在長(zhǎng)鏈聚合物中(高分子)擴(kuò)散有: 自擴(kuò)散:包括分子鏈段的運(yùn)動(dòng),并且與材料的粘滯流動(dòng)相關(guān)。 外來(lái)分子的擴(kuò)散:關(guān)系到聚合物呈現(xiàn)的滲透性和吸收性能。 滲透性:高分子膜的分離,耐腐蝕性,分子間隙 吸收性:引起溶脹,化學(xué)反應(yīng)。 2)非晶體 4 擴(kuò)散的數(shù)學(xué)模型 穩(wěn)態(tài)(Steady-state):?jiǎn)挝粫r(shí)間內(nèi)通過(guò)垂直于給定方向的單位面積的 凈原子數(shù)(通量),不隨時(shí)間變化 Fick第一

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