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文檔簡(jiǎn)介
波動(dòng)光學(xué)中國(guó)地質(zhì)大學(xué)(武漢)《大學(xué)物理》波動(dòng)光學(xué)是研究光的干涉、衍射和偏振特性的學(xué)科。它被廣泛應(yīng)用于:通訊技術(shù),信息處理,紅外遙感,全息成像,精密測(cè)量,精工制造,醫(yī)療,航天航空,國(guó)防軍事等諸多領(lǐng)域。光干涉的基本原理一、光是一種電磁波1023
1061003
1081023
1010104 106 1083
1012 3
1014 3
10161010 10123
1018
3
1020(m)v
(Hz)無(wú)線電波X射線γ
射線電磁波頻譜圖:可見(jiàn)微波 紅外線 紫外線光可見(jiàn)光譜圖:紅橙黃綠青藍(lán)紫4.3 4.6 5.0 5.5 6.0 6.7 7.5700 650 600 550 500 450 400(nm)(1014
Hz)波長(zhǎng)
760頻率
v 3.9顏色二、光的相干條件① 頻率相同;② 存在相互平行的振動(dòng)分量;③ 相位差穩(wěn)定.兩個(gè)不同的發(fā)光點(diǎn) (
無(wú)論是否在同一光源上
)
發(fā)出的光不相干?!獠ㄖ慌c自身相干三、相干光的獲得方法dS1S2分波前法光元件光元件接收屏點(diǎn)光
S源分振幅法點(diǎn)光源S四、光程與光程差真空中波長(zhǎng)為
λ
的光,在折射率為
n
的介質(zhì)中波長(zhǎng)為光振動(dòng)的相位沿傳播方向逐點(diǎn)落后,介質(zhì)中通過(guò)路程
r
后,相位落后
n
2π
r
2π
nrL
nr定義光程:r光程是將光在介質(zhì)中的路程,
按相位變化相同折合為真空中的路程.光經(jīng)過(guò)多種介質(zhì)的總光程:光程差:相位差與光程差的關(guān)系:L
ni
ri
L2
L1
2π理想透鏡的等光程性理想透鏡成象時(shí),物點(diǎn)和象點(diǎn)間各光線等光程.理想透鏡不產(chǎn)生光程差QQ理想透鏡不產(chǎn)生光程差焦平面OABFPf從物點(diǎn)
P
點(diǎn)到出射平行光的任意波面
AB
之間的所有光線等光程。fO焦平面DCP′F′從入射平行光的任意波面
CD 到像點(diǎn)
P′
點(diǎn)之間的所有光線等光程。五、兩束相干光的干涉r1r2I
A2I
I1
I2
2A1
A2I1I2cos
I1
I21.
干涉場(chǎng)中光強(qiáng)的極值條件P均勻介質(zhì)中有兩等強(qiáng)的初相 S1位相同的相干點(diǎn)光源.空間任一點(diǎn)
P
的光振動(dòng),由兩束光在
P
點(diǎn)的振動(dòng)疊加而成,S2d1A2
A2A22AAcos
2 1 2合振幅
A
滿足公式定義光強(qiáng)P
點(diǎn)的干涉光強(qiáng)取
r1
和
r2
遠(yuǎn)大于d, 則P
點(diǎn)的光強(qiáng)1I
2I(1
cos
)-3π-2π -π-4ππ2π3π 4π0——兩等幅(強(qiáng))相干光的干涉光強(qiáng)公式即
是
的周期性函數(shù)I4I1212
4I cos光強(qiáng)的極值條件公式
2kπ
(2k
1)π(k
0,
1,
2,
3,)(k
1,
2,
3,)極大(明)極小(暗)(★1)∵
2π
∴
光學(xué)中習(xí)慣用光程差來(lái)表示光強(qiáng)的極值條件:而光程差的計(jì)算相對(duì)較容易
(2k
)
2極大(明)
(k
0,
1,
2,
3,)
(2k
1)
2極小(暗)
(k
1,
2,
3,)(★2)【注】:暗紋條件中,當(dāng)
k
取
“+”
時(shí),δ
=
(2k-
1)
λ/2
;當(dāng)
k取“-”時(shí),δ=(2k+1)λ/2.2. 等光程差面和干涉條紋yr1P(x,y,z)S1S2r2xOzdr
(x
d 2)2
y2
z21
r
(x
d 2)2
y2
z22 1
r
r得2222光程差x2y2
2
d
2z2
1
2——
等光程差面(δ
固定)的方程得222x2y2d
2k
2z2
k
2
1 ——
三維空間中光強(qiáng)極大(亮)點(diǎn)的軌跡方程
k再代入極大值條件——以
S1
和
S2
為焦點(diǎn)的雙葉旋轉(zhuǎn)雙曲面k=
1k=
-1k=
0兩個(gè)相干點(diǎn)光源在三維空間中干涉亮點(diǎn)的軌跡(示意圖).(實(shí)際空間中的雙曲面是相當(dāng)密集的)。由于光線沒(méi)有直接進(jìn)入人眼,空間中的這些亮點(diǎn)的軌跡,人眼是看不到的,只能借助接收屏來(lái)觀察。平面接收屏在旋轉(zhuǎn)雙曲面上所截曲線,才是可以看見(jiàn)的干涉條紋.k=
1k=
0k=
-當(dāng)屏∥S1S2
放置時(shí), 條紋為一組雙曲線;k=
1k=
-11k=01 2遠(yuǎn)時(shí), 條紋近似為一組直線.當(dāng)屏∥
S
S
,并放置于很當(dāng)屏⊥S1S2
放置時(shí),條紋為一組同心圓環(huán);當(dāng)屏斜著放置時(shí),條紋是一組弧線;楊氏干
涉1801年,托馬斯·楊首次用實(shí)驗(yàn)展現(xiàn)并研究了光的干涉現(xiàn)象,提供了光是一種波的有力證據(jù)。一、楊氏實(shí)驗(yàn)原理圖屏S1S2屏上S二、楊氏干涉條紋位置的計(jì)算取(
d
和
x
)
<<
D
,
r20
級(jí)條紋位于幾何光程差為零(P0點(diǎn))處,是明條紋.到達(dá)
P
點(diǎn)的光程差r1
d
sin
d
tan
d
x D屏上DP0d
O屏r1r2δBrθθPxS1S2S條紋間距【相鄰兩條明(或者暗)
條紋中心的距離】x
kDdx
(2k
1)D(2d
)極大(明)極小(暗)(k
0,
1,
2,
3,)(k
1,
2,
3,)x
xk1
xk
D
d
(2k
)
2極大(明)
(k
0,
1,
2,
3,)
(2k
1)
2極小(暗)
(k
1,
2,
3,)可求得屏中條紋的位置將
d
x D
代入極值條件
(★2)式:三、楊氏雙縫干涉xS1S2dS屏上P0z屏xy若點(diǎn)光源向
y
正向移動(dòng),則干涉條紋向y
負(fù)向平移.若點(diǎn)光源向
x
正向移動(dòng),則干涉條紋向x
負(fù)向平移.xS1S2d屏屏上zP'0S'xyxS1S2zd屏SP0任何實(shí)際光源都
可看成由許多不相干的點(diǎn)光源組成,每一點(diǎn)光源都有一套自已的干涉條紋. 屏上總強(qiáng)度是各套干涉條紋的再次非相干疊加.同理?xiàng)钍想p孔可沿
y
向擴(kuò)展為楊氏雙縫.屏上xy若光源沿垂直于板面的
y方向擴(kuò)展,
各點(diǎn)光源產(chǎn)生的干涉條紋僅在
y方向稍有平移,仍然是暗與暗重疊,亮與亮重疊,
條紋更清晰明亮.若光源沿
x
方向擴(kuò)展,
各點(diǎn)源產(chǎn)生的干涉紋沿
x
方向彼此錯(cuò)開,疊加的結(jié)果,對(duì)比度下降.∴光源在
x
方向上的擴(kuò)展(縫寬)必須受到限制.最終,楊氏干涉采用的是雙縫干涉,以及與之平行的線光源.SS1線光源 雙縫接收屏zxyxr1r2y
S2P四、楊氏干涉條紋的特點(diǎn)⑴
各亮紋等強(qiáng)⑵
相鄰亮(或暗)紋等間距⑶λ
一定(單色光), D↑,xI
(
P
)
4I1
(
P
)x
D
dΔx↑(疏); d↑,
Δx↓(密)⑷
想看清條紋(
Δx
不太小),
必須d
與
λ可比較,
且D
>>
d⑸D
、d
不變時(shí),λ
↑, Δx
↑IΔx紅>
Δx紫⑹
白光入射時(shí)xI由于波長(zhǎng)越長(zhǎng),條紋越寬。不同波長(zhǎng)
(顏色)
的各級(jí)明條紋,在接收屏上連續(xù)分布,形成連續(xù)的彩色條紋帶。由于所有波長(zhǎng)的零級(jí)明條紋重疊在同一個(gè)位置,所以零級(jí)是白色的明條紋。如圖所示,在楊氏雙縫裝置中
S2
的后面,插入厚度為
h,折射率為
n
的透明介質(zhì),求條紋的位置及間距,條紋如何變化?例題
(r2
h
nh)
r1解:
r2
r1
(n
1)hr1r2Brθθnh
d
sin
(n
1)h
d
(
x D)
(n
1)h
(2k
)
2極大(明) (k
0,
1,
2,
3,)(2k
1)
2 極小(暗) (k
1,
2,
3,)由極值條件(★2)式DP0d O屏Px
S1S2Sr1r2BrθθnhdDO屏Px
S1S2SP0P0(間距不變)解得位置2間距 x
xk1
xk
D
d[(2k
1)
(n
1)h]
D
dx
[k
(n
1)h]
D
d(明)
(k
0,
1,
2,
3,)(暗)
(k
1,
2,
3,)0
級(jí)向光程增加的一側(cè)(下)
移動(dòng).結(jié)論:條紋整體向光程增加的一側(cè)(下)
平移線光
S源S2五、其他分波陣面法的干涉實(shí)驗(yàn)1. 菲涅耳雙棱鏡實(shí)驗(yàn)雙棱鏡 接收屏S1dD屏上2. 菲涅耳雙面鏡實(shí)驗(yàn)屏上D接收屏線光源
S雙面鏡
S1dS2屏上3.比累對(duì)切透鏡實(shí)驗(yàn)接收屏對(duì)切透鏡線光
S源S1S2Dd屏上d
4.
洛埃鏡實(shí)驗(yàn)S2接收屏線光源S1平面鏡LD當(dāng)屏移致
L
處,L
點(diǎn)(零級(jí))不是明紋,而是暗紋.——
光的半波損失現(xiàn)象接收屏半波損失2
零級(jí)是暗條紋.光波從光疏介質(zhì)
向光密介質(zhì)入射
時(shí),反射過(guò)程中反射光的相位突變
π如果存在半波損失,計(jì)算光程差時(shí),應(yīng)加上薄膜干
涉用擴(kuò)展光源,也可獲得清晰條紋——常見(jiàn),
應(yīng)用廣泛.最基本的分振幅干涉裝置是一塊透明介質(zhì)薄膜.優(yōu)點(diǎn):肥皂泡一、薄膜干涉的計(jì)算公式入射角不大時(shí),反射率4%n1=1n2=1.5n3=192.20.15 2.36×10-4≈
01004.03.7 5.9×10-3≈
0 ≈
0S反射光場(chǎng)為振幅相近的兩束相干光,干涉條紋很清晰;透射光場(chǎng)條紋很模糊,一般不用.≈
0en1n2n3S'bSaA BCD眼所看見(jiàn)的薄膜上表面上任意一點(diǎn),都必有來(lái)自擴(kuò)展光源上某一點(diǎn)發(fā)出的兩條相干光線在此相遇.SA
//SB∵
膜很薄,ASB
0
AB
SB可以認(rèn)為作 AD
SB則 SA
SDn1n2n3C人眼不產(chǎn)生光程差.∴幾何光程差L
LACBLDB局部放大簡(jiǎn)化圖:bDaA Bn1n2n3aABCDbL
n2
(
AC
CB)
n1
DBAC
CB
e 而再由折射定律n1sini
n2sin
r
L
2n2AC
n1
DB21
e cosr
2n2n
tan
r
sin
i
2n
e (1
sin2r)21n2n2sin2
i1.
幾何光程差2
cosr
2n2ecosr
2eecosrDB
AB
sin
i AB
2e
tan
rrii2.
附加光程差
δ兩光束中有一束有“半波損失”,當(dāng)
n2
>
n1和
n3,
或
n2<
n1和n3
時(shí),2
當(dāng)
n1<
n2<
n3
或
n1>
n2>n3時(shí),兩光束都有或都無(wú)“半波損失”:2(n
比兩側(cè)都大或都小時(shí))n1n2n3aABC(n2
大小介于兩側(cè)之間)
0Dberii3.薄膜干涉的光程差公式2
2n
e
cos
r
2e n2
n2sin2i
I1I2cos(2π
)薄膜干涉光強(qiáng)I
I1
I2
2
2
02 1(n2
n1和n3
,或 n2
n1和n3
時(shí))(n1
n2
n3
,
或 n1
n2
n3
時(shí))(★3)干涉條紋的明暗取決于光程差 δ
.4.
薄膜干涉的極值條件公式2(k
0,1,2,
3)(k
1,
2,
3, 4)
(k
1,
2,
3, 4)
(k
0,1,2,3)
0
時(shí)明
(2k
)
2暗
(2k
1)
2明
(2k
)
2時(shí)
暗
(2k
1)
2(★4)0
級(jí)條紋規(guī)定在幾何光程差為
0
的位置,薄膜干涉條紋的
0
級(jí)位于薄膜厚度為
0
處.0
級(jí)的明暗由附加光程差
決定:0λ/20級(jí)明0級(jí)暗
白光入射時(shí),
各波長(zhǎng)明條紋連續(xù)分布, 形成彩色條紋帶.二、等傾干涉2
2n
e
cos
r
2en2
n2sin2i
2 11 2 3 1 2 3
2
0(n2
n1和n3
,或 n2
n1和n3
時(shí))(n
n
n
,
或
n
n
n
時(shí))由(★3)式令式中的
n2和
e
為固定值
(為均勻平行平面薄膜)時(shí),
δ將只取決于光線的傾角 r(折射角),或
i(入射角).同一條連續(xù)的條紋對(duì)應(yīng)的入射光具有相等的傾角——
等傾干涉條紋等傾干涉的計(jì)算公式仍是(★3)和(★4)式.1.
等傾干涉的計(jì)算2.
觀察等傾干涉的實(shí)驗(yàn)裝置等傾干涉條紋是一組同心圓環(huán).S透鏡半反射鏡薄膜C1C2 屏點(diǎn)光源圖(a)入射角(傾角)相等光線的干涉條紋同級(jí),同圓。圖(b)采用擴(kuò)展光源入射時(shí)不同位置的點(diǎn)光源發(fā)出的光線,在接收屏上形成的條紋的形狀、大小、位置完全相同.條紋的亮度增加,對(duì)比度不變.SC1 C2屏擴(kuò)展 S
光源3. 等傾條紋的特點(diǎn)①
為一組內(nèi)疏外密的同心圓環(huán).②
中心條紋圓心處干涉級(jí)次最高等傾條紋圓心處的明暗是隨機(jī)的越接近中心的條紋,
角
r
↓
(或
i↓
),光程差
δ
↑
,干涉級(jí)
k
↑
.
2n2e
cos
r
∵圖(c)圖(a)圖(b)③
厚度
e
連續(xù)變化時(shí)e
連續(xù)↑,中心不斷吐出新的條紋;e
連續(xù)↓,中心不斷吞進(jìn)條紋中心強(qiáng)度每改變一個(gè)周期(吐出或吞進(jìn)一個(gè)條紋),就表明
e
改變了
λ
/
2——
測(cè)量精度極高(玻璃片夾的空氣膜)
干涉條紋的變化:三、等厚干涉條紋1.
等厚干涉的計(jì)算0(n2
n1和n3
,或 n2
n1和n3
時(shí))其中
2(n1
n2
n3 或 n1
n2
n3
時(shí))(★5)在(★3)
式中,令
n
2
均勻,i
≈
r
≈
0
(即平行光正入射)則(★3)
式可簡(jiǎn)化為
2n2e
——等厚干涉的光程差公式同一條連續(xù)條紋,對(duì)應(yīng)相等的薄膜厚度, 這樣的干涉稱為等厚干涉.等厚干涉的極值條件仍是(★4)式.2.
等厚干涉條紋的特征(為半個(gè)介質(zhì)內(nèi)的波長(zhǎng))①
干涉條紋在膜的上表面形成;②
干涉條紋沿等厚線分布;③
因相鄰條紋對(duì)應(yīng)的光程差
δ
相差一個(gè)波長(zhǎng),相鄰等厚條紋對(duì)應(yīng)的厚度差為:k2n2k
1e
e
e
θ相鄰明(或暗)條紋對(duì)應(yīng)的高度相差 Δe=
λ/(2n2)條紋間距:條紋是平行于交棱的直線,呈現(xiàn)在薄膜的上表面.x
e
(2n2)
2n2ek+1ekk
=
0x3. 劈尖⑴
介質(zhì)劈尖θn2n1n30 0
級(jí)明λ/2 0
級(jí)暗0
級(jí)位于交棱處.
如圖所示, 在基材上鍍層厚度為
h,折射率為
1.50
的SiO2
薄膜.將它的一部分磨成劈形.用波長(zhǎng)為
600nm
的平行光垂直照射.在
AB
段共有
5
條暗紋,且
B
處恰好是一條暗紋,
當(dāng)基材的折射率分別為
n基1
=
1.6和
n基2
=
1.4
時(shí),求薄膜的厚度
h
各為多少.例題基材ABSiO2 h0其中
2(n1
n2
n3 ,或 n1
n2
n3(n2
n1
和n3
,或
n2
n1
和
n3
時(shí))時(shí))解: 等厚干涉的光程差
2n2e
0
k
1,2,
3k
0,1,
2時(shí)
(2k
1)
2
(2k
1)
2
2
時(shí)(★4)式中的暗紋條件為①n1
=
1,n2
=
1.5,n3
=
n基1
=
1.6∴
0kB=
52Bh
e
(2kB4n 4
1.5n1<n2<
n3k
1,
2,
3,
4,
5
1)
(2
5
1)
600
=
900
(nm)kB=
4Bh
e4n2 4
1.5
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