專利基礎(chǔ)知識及專利挖掘知識講座

01Addyourtextshere2如何進(jìn)行專利挖掘3專利挖掘的實(shí)例4

如何撰寫技術(shù)交底書目錄CONTENTS1專利基礎(chǔ)知識一ONE專利根底知識一、什么是專利？專利:專利權(quán)的簡稱，指專利權(quán)人對創(chuàng)造創(chuàng)造享有的專利權(quán)，即國家依法在一定時(shí)期內(nèi)授予創(chuàng)造創(chuàng)造者或者其權(quán)利繼受者獨(dú)占使用其創(chuàng)造創(chuàng)造的權(quán)利。專利權(quán)是一種專有權(quán)，這種權(quán)利具有獨(dú)占的排他性。非專利權(quán)人要想使用他人的專利技術(shù)，必須依法征得專利權(quán)人的授權(quán)或許可。專利根底知識——什么是專利？〔1〕專利的概念：專利根底知識——什么是專利？1、制止權(quán)：任何單位和個(gè)人未經(jīng)許可，不得以生產(chǎn)經(jīng)營為目的實(shí)施其專利，否那么是侵權(quán)。2、許可權(quán)：普通、排他、獨(dú)占、穿插。3、轉(zhuǎn)讓權(quán)：專利申請權(quán)和專利權(quán)可以轉(zhuǎn)讓。4、標(biāo)記權(quán)：專利權(quán)人有權(quán)在其專利產(chǎn)品上或該產(chǎn)品的包裝上，說明專利標(biāo)記和專利標(biāo)記?！?〕專利的內(nèi)容：專利根底知識——專利的類型二、專利的類型發(fā)明實(shí)用新型外觀設(shè)計(jì)保護(hù)客體產(chǎn)品和方法的技術(shù)方案產(chǎn)品形狀、構(gòu)造的技術(shù)方案產(chǎn)品的形狀、圖案、色彩新設(shè)計(jì)審查制度實(shí)質(zhì)審查初步審查初步審查創(chuàng)造性較高較低較低保護(hù)期限20年10年10年專利根底知識——授予專利權(quán)的條件三、授予專利權(quán)的條件新穎性創(chuàng)造性實(shí)用性專利根底知識——授予專利權(quán)的條件三、授予專利權(quán)的條件※新穎性：概念：專利法第22條第2款，是指該創(chuàng)造或者該實(shí)用新型不屬于現(xiàn)有技術(shù)，也沒有任何單位或個(gè)人就同樣的創(chuàng)造或者實(shí)用新型在申請日以前向國務(wù)院專利行政部門提出過申請，并記載在申請日以后公布的專利申請文件或者公告的專利文件。關(guān)鍵點(diǎn)：申請日，這是時(shí)間的劃界點(diǎn)，申請日就是向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交申請并被承受的日子。而不是完成創(chuàng)造創(chuàng)造的時(shí)間。專利根底知識——授予專利權(quán)的條件三、授予專利權(quán)的條件※創(chuàng)造性：概念：二十二條第三款：是指與現(xiàn)有技術(shù)相比，該創(chuàng)造具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步，該實(shí)用新型具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和進(jìn)步。關(guān)鍵點(diǎn)：〔1〕申請專利的創(chuàng)造解決了人們長期以來一直沒有解決的技術(shù)難題?！?〕申請專利的創(chuàng)造抑制了技術(shù)偏見。專利根底知識——授予專利權(quán)的條件三、授予專利權(quán)的條件※創(chuàng)造性：關(guān)鍵點(diǎn)：〔3〕申請專利的創(chuàng)造取得了意料不到的技術(shù)效果。〔4〕申請專利的創(chuàng)造在商業(yè)上獲得成功。當(dāng)然創(chuàng)造專利和實(shí)用新型專利的創(chuàng)造性要求不同，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員不能根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)直接得出，必須是或多或少動(dòng)了腦筋的，花費(fèi)了創(chuàng)造性的思維。專利根底知識——授予專利權(quán)的條件三、授予專利權(quán)的條件※實(shí)用性：概念：實(shí)用性是指該創(chuàng)造或者實(shí)用新型能夠制造和使用，并能夠產(chǎn)生積極效果。產(chǎn)品必須是在產(chǎn)業(yè)上能夠制造，方法是在產(chǎn)業(yè)上能夠使用。專利上指的“產(chǎn)業(yè)〞包括工業(yè)，農(nóng)業(yè)，林業(yè)，水產(chǎn)業(yè)，畜牧業(yè)，交通運(yùn)輸業(yè)，建筑業(yè)以及體育醫(yī)療器械等等。專利根底知識——授予專利權(quán)的條件三、授予專利權(quán)的條件※實(shí)用性：關(guān)鍵點(diǎn)：〔1〕能夠產(chǎn)生積極的社會(huì)效果，不產(chǎn)生社會(huì)危害，不產(chǎn)生對人類生存，平安，環(huán)境的危害?！?〕有利于促進(jìn)科學(xué)技術(shù)的開展?！?〕創(chuàng)造或者實(shí)用新型被實(shí)施后能夠給創(chuàng)造人或者專利權(quán)人或者給國家?guī)砹己玫慕?jīng)濟(jì)效益，如節(jié)省材料，節(jié)約能源，增加財(cái)富，提高收入。專利根底知識——授予專利權(quán)的條件三、授予專利權(quán)的條件※不能申請專利的類型〔1〕科學(xué)發(fā)現(xiàn)〔2〕智力活動(dòng)的規(guī)那么和方法〔3〕疾病的診斷與治療方法〔4〕動(dòng)物和植物的新品種〔5〕用原子核變化的方法獲得的物質(zhì)〔6〕對平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標(biāo)識作用的設(shè)計(jì)二TWO科技成果與專利科技成果與專利——科技成果與專利的差異性一、科技成果與專利的差異性科技成果與專利雖然都是人類創(chuàng)造的無形資產(chǎn)，但在技術(shù)領(lǐng)域、技術(shù)成熟度、技術(shù)壟斷性、技術(shù)規(guī)模、技術(shù)等級等方面存在著差異?！?〕技術(shù)領(lǐng)域科技成果與專利雖然都涉及到技術(shù)的各個(gè)領(lǐng)域，但是二者不是完全重疊覆蓋的?？傮w而言，科技成果涉及的技術(shù)領(lǐng)域比專利涉及的技術(shù)領(lǐng)域?qū)挕？萍汲晒c專利——科技成果與專利的差異性一、科技成果與專利的差異性〔2〕技術(shù)的規(guī)模科技成果一般是國家、省〔或部〕、市政府部門下達(dá)科技攻關(guān)方案，由科研單位、大專院校、企業(yè)承擔(dān)完成的；或者是科研單位、大專院校、企業(yè)根據(jù)市場需要，制定科研方案工程、產(chǎn)品攻關(guān)方案工程或產(chǎn)品改造工程，由自己完成、合作完成或委托他人完成的，所涉及的產(chǎn)品一般是整機(jī)產(chǎn)品或圈套的零部件產(chǎn)品，所涉及的方法是生產(chǎn)產(chǎn)品的完整方法或完整的加工工藝，所以是相對較大的產(chǎn)品科研工程或是相對較大的方法科研工程。但專利技術(shù)既可以是單位完成的生產(chǎn)方法、工藝方法工程、產(chǎn)品科研工程，產(chǎn)品改造、技術(shù)革新工程，也可以是個(gè)人完成的小創(chuàng)造創(chuàng)造。并且，但凡具有一定功能和作用、能夠獨(dú)立銷售的零部件均可以單獨(dú)申請專利保護(hù)，就是說，整機(jī)產(chǎn)品除了可以從整體上進(jìn)展專利保護(hù)外，還可以對有創(chuàng)新點(diǎn)的零部件進(jìn)展單獨(dú)的專利保護(hù)?？萍汲晒c專利——科技成果與專利的差異性一、科技成果與專利的差異性〔3〕技術(shù)的成熟度一般情況下，科技成果與專利技術(shù)相比，前者的技術(shù)成熟度相對較高，后者的技術(shù)成熟度相對較低?！?〕技術(shù)的等級技術(shù)等級，對科技成果是鑒定等級：國家級科技工程、省部級科技工程、市級科技工程等；對專利是授權(quán)等級：專利的授權(quán)等級僅由國家一個(gè)級別，國家知識產(chǎn)權(quán)局代表國家受理、審查專利申請，并對符合授權(quán)條件的專利申請授予專利權(quán)?？萍汲晒c專利——科技成果與專利的差異性一、科技成果與專利的差異性〔5〕技術(shù)的法律保護(hù)狀況科技成果是沒有獲得法律保護(hù)的智力資源，其擁有者不享有獨(dú)占實(shí)施權(quán)，因此無權(quán)阻止他人實(shí)施。專利是獲得了法律保護(hù)的技術(shù)，專利權(quán)人可以在一定時(shí)間內(nèi)對技術(shù)壟斷，進(jìn)展獨(dú)占實(shí)施，或許可轉(zhuǎn)讓他人實(shí)施?？萍汲晒c專利——科技成果與專利的聯(lián)系二、科技成果與專利的聯(lián)系在科技成果鑒定制度與專利制度并存的今天，科技成果與專利彼此應(yīng)當(dāng)相互協(xié)調(diào)、有機(jī)結(jié)合、共同開展。１、科技成果是專利申請的重要根底。２、專利是提高科技成果技術(shù)水平的前提。３、專利是科技成果商品化的法律保障。三THREE專利的挖掘?qū)＠耐诰颉獙＠诰虻囊饬x一、專利挖掘的意義

現(xiàn)代社會(huì)，不只是物質(zhì)具有價(jià)值，知識更能創(chuàng)造價(jià)值，現(xiàn)在是知識經(jīng)濟(jì)時(shí)代。在大學(xué)，將研究成果知識產(chǎn)權(quán)化，取得專利權(quán)，進(jìn)入社會(huì)流通，對企業(yè)給予實(shí)施許可，取得巨大的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。

專利的挖掘——專利挖掘概述二、專利挖掘概述站在專利的視角，對我們在科學(xué)研究及技術(shù)開發(fā)過程中產(chǎn)生的創(chuàng)造創(chuàng)造及技術(shù)成果進(jìn)展剖析、拆分、篩選以及合理比較、判斷，提取出其中可以申請專利的各技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)，進(jìn)而形成專利申請技術(shù)方案的活動(dòng)。三、專利挖掘的一般方法工程任務(wù)法：1、拆分出工程任務(wù)的各技術(shù)組成局部；2、拆分出各技術(shù)組成局部的技術(shù)要素；3、拆分出各技術(shù)要素的創(chuàng)新點(diǎn)；4、根據(jù)各創(chuàng)新點(diǎn)形成技術(shù)方案，符合專利申請條件的形成專利申請技術(shù)方案。專利的挖掘——專利挖掘的一般方法三、專利挖掘的一般方法創(chuàng)新點(diǎn)法：1、找出該創(chuàng)新點(diǎn)的關(guān)聯(lián)因素；2、找出各關(guān)聯(lián)因素的其他創(chuàng)新點(diǎn)；3、根據(jù)其他創(chuàng)新點(diǎn)總結(jié)技術(shù)方案。

專利的挖掘——專利挖掘的一般方法三、專利挖掘的一般方法工程功能法：1、詳細(xì)列出本工程所能實(shí)現(xiàn)的新功能；以手機(jī)為例，新顯示功能、新輸入功能、新充電功能等；2、分析這些新功能是否只是新的功能發(fā)現(xiàn)還是通過創(chuàng)造性勞動(dòng)產(chǎn)生的新功能；

專利的挖掘——專利挖掘的一般方法三、專利挖掘的一般方法工程功能法：3、對實(shí)現(xiàn)每一新功能的技術(shù)方案進(jìn)展拆分，拆分成諸多個(gè)可以獨(dú)立應(yīng)用的技術(shù)方案；4、對每一個(gè)可以獨(dú)立應(yīng)用的技術(shù)方案進(jìn)展分析、判斷，符合專利申請條件的形成專利申請技術(shù)方案。

專利的挖掘——專利挖掘的一般方法四、不同領(lǐng)域的專利挖掘方法〔一〕硬件領(lǐng)域?qū)＠诰虻乃悸罚?、機(jī)械零件或電子元器件的改進(jìn)，可能涉及構(gòu)造、連接關(guān)系和材料；2、模塊物理構(gòu)造設(shè)計(jì)或電路設(shè)計(jì)的改進(jìn)；3、系統(tǒng)中增加或減少某些裝置或模塊；4、制造工藝的改進(jìn)；5、外觀設(shè)計(jì)的改進(jìn)。專利的挖掘——不同領(lǐng)域的專利挖掘方法四、不同領(lǐng)域的專利挖掘方法〔二〕軟件領(lǐng)域?qū)＠诰虻乃悸罚?、用于控制硬件的方法；2、用于數(shù)據(jù)處理方法；3、用于圖像處理算法；4、加密算法?！踩程囟I(lǐng)域?qū)＠诰驊?yīng)根據(jù)該領(lǐng)域的特點(diǎn)進(jìn)展專利的挖掘——不同領(lǐng)域的專利挖掘方法切記完美主義把握好總體，順藤摸瓜應(yīng)抑制科研工作者普遍存在的低估自己的科研成果的問題五、專利挖掘幾點(diǎn)需要注意的問題專利的挖掘——專利挖掘幾點(diǎn)需要注意的問題誤區(qū)一：專利的技術(shù)含量必須很高誤區(qū)二：簡單的構(gòu)造不能報(bào)專利能否獲得專利的依據(jù)是專利法對于專利的審查標(biāo)準(zhǔn)〔新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性等〕，不是該專利能否符合國家技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)要求，也不是“技術(shù)含量〞的上下，許多技術(shù)人員認(rèn)為自己的產(chǎn)品做了一點(diǎn)改進(jìn)，或做了一些技術(shù)改造，技術(shù)含量不高〔有時(shí)是認(rèn)為沒有原理上的重大突破〕，因此不能報(bào)專利，或者認(rèn)為肯定報(bào)不了創(chuàng)造專利。這是對專利申請與審批的誤解。

六、專利挖掘的幾個(gè)誤區(qū)專利的挖掘——專利挖掘的幾個(gè)誤區(qū)專利的挖掘——專利挖掘的幾個(gè)誤區(qū)誤區(qū)三：必須做出了樣品、或者技術(shù)方案已經(jīng)經(jīng)過驗(yàn)證創(chuàng)造、實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)都是一種技術(shù)方案，這種可以進(jìn)展表述的技術(shù)方案往往不是樣品、樣機(jī)的狀態(tài)；對于機(jī)械、機(jī)電、電子類的產(chǎn)品而言，構(gòu)造圖、電路圖、示意圖等等圖示與文字的表述方式可以表達(dá)技術(shù)的內(nèi)涵，可以讓技術(shù)人員清晰了解技術(shù)要點(diǎn)，因此不需要作出樣品或者樣機(jī)去論證技術(shù)方案的根本可行性。同時(shí)樣品或樣機(jī)的制作需要消耗一段的時(shí)間與一定的經(jīng)費(fèi)，往往導(dǎo)致申請專利的時(shí)間拖延，不利于專利的搶先申報(bào)。而專利申報(bào)是遵循先申請?jiān)敲?，同樣的技術(shù)誰先申報(bào)，專利局就把專利給誰。六、專利挖掘的幾個(gè)誤區(qū)誤區(qū)四：軟件產(chǎn)品不能申報(bào)專利由于國內(nèi)的?計(jì)算機(jī)軟件保護(hù)條例?中明確，對軟件著作權(quán)的保護(hù)不延及開發(fā)軟件所用的思想、處理過程、操作方法或者數(shù)學(xué)概念等。因此軟件著作權(quán)登記對于軟件的法律保護(hù)有一定的局限性。軟件的專利申請保護(hù)在很大程度上彌補(bǔ)了這一缺乏。六、專利挖掘的幾個(gè)誤區(qū)專利的挖掘——專利挖掘的幾個(gè)誤區(qū)七、專利挖掘的實(shí)例1、盾構(gòu)機(jī)：盾構(gòu)機(jī)中能調(diào)節(jié)開口率的裝置200410010048.7

本創(chuàng)造公開一種盾構(gòu)機(jī)中能調(diào)節(jié)開口率的裝置,包括刀盤、盾殼、位于刀盤上的刀梁、裝在刀梁上的刀具,與刀盤相聯(lián)的刀盤支撐和中心回轉(zhuǎn)接頭及刀盤驅(qū)動(dòng)馬達(dá),土壓艙及與土壓艙相通的螺旋輸送機(jī),刀盤上還開有嵌入孔,準(zhǔn)備艙內(nèi)置有嵌入體,嵌入體與位于伸縮套筒內(nèi)的頂推液壓缸通過電磁吸盤相聯(lián),裝置內(nèi)設(shè)有自動(dòng)控制部件。該裝置可根據(jù)所施工中的地質(zhì)條件讓嵌入孔內(nèi)置入所需求數(shù)量的嵌入體,以此來調(diào)節(jié)開口率,它具有在保證施工質(zhì)量的情況下提高工作效率的特點(diǎn)。本實(shí)用新型涉及一種平臺的構(gòu)造設(shè)計(jì)，特別是在城市軌道交通領(lǐng)域，供乘客緊急逃生的消防疏散平臺。平臺的連接件包括T形連接架和連接板〔3〕；T形連接架具有：用以壓緊在平臺構(gòu)件上表面的平板〔1〕，用以穿過相鄰兩個(gè)平臺構(gòu)件之間間隙和支撐件一側(cè)的連桿〔2〕；下部具有螺紋的連桿〔2〕位于平板的底面的中部，連桿〔2〕與平板〔1〕為一體成型或聯(lián)接為一體；T形連接架為兩個(gè)；用于從底部托撐支撐件的連接板〔3〕的兩端具有連接孔；設(shè)置有將連接板與兩個(gè)T形連接架連接、從而將平臺的平臺構(gòu)件〔6〕與支撐件〔7〕聯(lián)接并緊固的螺母〔5〕。本實(shí)用新型平臺的連接件為二連桿構(gòu)造，本錢低、安裝方便，且不需要打孔，不損傷支撐件的強(qiáng)度，是一種實(shí)用性很高的平臺連接件。3、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)一種防止四沖程V6發(fā)動(dòng)機(jī)怠速熄火的節(jié)能裝置-CN2021101614654本創(chuàng)造公開一種木創(chuàng)造涉及一種防止四沖程V6發(fā)動(dòng)機(jī)怠速熄火的節(jié)能裝置，屬于動(dòng)力機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域包括四沖程V6發(fā)動(dòng)機(jī)的輸出軸，6個(gè)氣缸分成兩排，兩排氣缸之間成60,輸出軸旋轉(zhuǎn)360。形成3個(gè)周期的轉(zhuǎn)矩脈動(dòng)，在四沖程V6發(fā)動(dòng)機(jī)與飛輪之間的輸出軸上設(shè)置增弧負(fù)轉(zhuǎn)矩脈動(dòng)的組合永磁裝置，組合永磁裝置包括同定在發(fā)動(dòng)機(jī)輸出軸卜的轉(zhuǎn)動(dòng)永磁體組件和固定在機(jī)架卜與轉(zhuǎn)動(dòng)永磁體配合的固定永磁體組件;轉(zhuǎn)動(dòng)永磁體組件由沿圓周交替設(shè)置的大小相等、極性相反的6塊永磁體組成轉(zhuǎn)動(dòng)永磁體組件;固定永磁體組件山沿圓周交替設(shè)置的大小相等、極性相反的6塊永磁體組成固定永磁體組件;轉(zhuǎn)動(dòng)永磁體組件與固定永磁體組件之間由磁力線穿過氣隙產(chǎn)生永磁轉(zhuǎn)矩脈動(dòng)。4、機(jī)械電梯：本創(chuàng)造公開一種無繩循環(huán)多轎廂電梯及其循環(huán)系統(tǒng)，涉及無繩電梯領(lǐng)域。包括豎直井筒，豎直井筒內(nèi)固定升降導(dǎo)軌，升降導(dǎo)軌上連接轎廂、升降動(dòng)力機(jī)構(gòu)及控制系統(tǒng)；豎直井筒內(nèi)固定升降導(dǎo)軌，豎直井筒上設(shè)置水平井筒；水平井筒內(nèi)設(shè)置移動(dòng)，移動(dòng)架上固定升降導(dǎo)軌，升降導(dǎo)軌與升降導(dǎo)軌之間是有縫對接；水平井筒內(nèi)設(shè)置移動(dòng)架轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)，移動(dòng)架由平移動(dòng)力源驅(qū)動(dòng)；轎廂上固定提升制動(dòng)器和提升滾動(dòng)導(dǎo)靴。采用本創(chuàng)造所提供的技術(shù)方案，解決了高層建筑中電梯等待時(shí)間過長的問題，合理安排建筑空間，有效的提高了電梯的空間利用率。專利的挖掘——專利挖掘的實(shí)例專利的挖掘——專利挖掘的實(shí)例5.直驅(qū)電梯防墜平安裝置CN202120314795.3本實(shí)用新型屬于無繩電梯領(lǐng)域,具體涉及一種直驅(qū)電梯防墜平安裝置，包括沿井道布置的固定支撐總成、用于夾卡制動(dòng)軌的平安鉗，其特征在于：觸發(fā)平安鉗的提拉鋼絲繩纏繞固定在繩輪上，繩輪通過連接軸I連接在超越離合器的一端，超越離合器的另一端與齒輪連接軸2相連，連接軸1、連接軸2上的軸承固定在軸承座上，軸承座固定在承載轎廂的動(dòng)子或轎廂架的測速限速提拉機(jī)構(gòu)固定板上，在固定支撐總成的至少一個(gè)側(cè)面固定與齒輪嚙合的齒條。本實(shí)用新型把平安鉗安裝在制動(dòng)軌上，連接觸發(fā)提拉鋼絲繩的繩輪與超越離合器連接，超越離合器又與能夠測出轎廂速度的齒輪連接，這樣不僅能夠快速制動(dòng)，并且平安可靠。專利的挖掘——專利挖掘的實(shí)例直驅(qū)電梯轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)CN202110265640.X本創(chuàng)造屬于無繩電梯領(lǐng)域，具體涉及一種直驅(qū)電梯轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)，包括定子軌道和定子轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)，定子轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)及與定子轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)配合的動(dòng)子轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)，構(gòu)成一套轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)，在一個(gè)轎廂或者轎廂架上，設(shè)置至少兩套轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)。相對于現(xiàn)有技術(shù)，本創(chuàng)造直驅(qū)電梯轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)采用動(dòng)子分段多軸驅(qū)動(dòng)構(gòu)造，實(shí)現(xiàn)轎廂高效、快捷的轉(zhuǎn)向，整段長動(dòng)子可分段設(shè)置和單獨(dú)定位，當(dāng)軌道不平時(shí)，各段動(dòng)子可圍繞各自旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，保證了轎廂在垂直運(yùn)行和轉(zhuǎn)向全過程自穩(wěn)定，這樣在一個(gè)電梯井中能夠運(yùn)行多部電梯，不僅提高了電梯的利用率，還能夠減少電梯占用的建筑面積。四FOUR如何撰寫技術(shù)交底書如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書概述一、技術(shù)交底書概述技術(shù)交底書的概念： 技術(shù)交底書，是完成創(chuàng)造創(chuàng)造的技術(shù)人員或者部門將希望申請專利的創(chuàng)造創(chuàng)造內(nèi)容以書面形式提交給專利代理機(jī)構(gòu)或?qū)W校專利管理部門的技術(shù)文件，是學(xué)校決定是否提交專利申請、申請類型和申請地域等的依據(jù)。

二、技術(shù)交底書的內(nèi)容 技術(shù)交底書不是提交給專利局的正規(guī)文件，其主要讀者是學(xué)校管理決策層及專利管理部門或?qū)＠頇C(jī)構(gòu)，因此，技術(shù)人員或部門在撰寫技術(shù)交底書的時(shí)候沒有必要完全按照專利說明書的構(gòu)造來撰寫。但是，為了清楚、準(zhǔn)確地表達(dá)創(chuàng)造創(chuàng)造的內(nèi)容，應(yīng)至少包括以下四局部內(nèi)容。如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的內(nèi)容〔一〕背景技術(shù)

背景技術(shù)是與該創(chuàng)造創(chuàng)造最接近的現(xiàn)有技術(shù)，需客觀評價(jià)現(xiàn)有技術(shù)的特點(diǎn)和技術(shù)效果，現(xiàn)有技術(shù)的信息可以來源于專利文獻(xiàn)、非專利文獻(xiàn)〔報(bào)刊、雜志〕、本領(lǐng)域的公知信息等。

如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的內(nèi)容〔二〕技術(shù)問題

技術(shù)問題是指所要解決的現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，該局部應(yīng)當(dāng)指出現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷或缺乏，并有針對性地說明創(chuàng)造技術(shù)方案所要解決的技術(shù)問題，對于本創(chuàng)造無法解決的缺陷或缺乏那么無需描述。

如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的內(nèi)容〔三〕技術(shù)內(nèi)容

技術(shù)內(nèi)容是技術(shù)方案的詳細(xì)說明。該局部應(yīng)當(dāng)提出解決問題的思路，說明技術(shù)關(guān)鍵點(diǎn)，并至少描述一個(gè)具體的技術(shù)解決方案，其描述的具體化程度應(yīng)到達(dá)使本領(lǐng)域的技術(shù)人員按照其內(nèi)容可以實(shí)施該方案的程度。

如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的內(nèi)容〔四〕技術(shù)效果

技術(shù)效果指本創(chuàng)造創(chuàng)造與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的效果。通常技術(shù)效果可以從以下幾個(gè)方面表達(dá)出來：產(chǎn)率、質(zhì)量、精度和效率的提高；能耗、原材料、工序的節(jié)??；加工、操作、控制、使用的簡便；環(huán)境污染的治理或根治；新的用途的出現(xiàn)等。如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的內(nèi)容三、技術(shù)交底書的具體要求〔一〕背景技術(shù)

1、描述最接近的現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)方案；2、對現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)效果進(jìn)展描述，記載創(chuàng)造人所知，且對理解、檢索、審查該申請有參考作用的技術(shù)內(nèi)容。如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的具體要求三、技術(shù)交底書的具體要求〔二〕技術(shù)問題

1、客觀評價(jià)現(xiàn)有技術(shù)的缺乏或缺陷；2、所要解決的技術(shù)問題?，F(xiàn)有技術(shù)的缺乏或缺陷局部往往會(huì)成為創(chuàng)造人的創(chuàng)造動(dòng)機(jī)，從而產(chǎn)生本創(chuàng)造的創(chuàng)造目的。如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的具體要求三、技術(shù)交底書的具體要求〔三〕技術(shù)內(nèi)容 1、解決問題的思路，即創(chuàng)造人對現(xiàn)有技術(shù)缺乏或缺陷的解決思路；2、技術(shù)關(guān)鍵點(diǎn)。按照重要程度，逐條列出本創(chuàng)造需要保護(hù)的關(guān)鍵點(diǎn)，這樣做的好處是在形成專利申請文件時(shí)更加策略地安排權(quán)利要求書的構(gòu)造。如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的具體要求三、技術(shù)交底書的具體要求〔三〕技術(shù)內(nèi)容

3、總體技術(shù)方案。描述為到達(dá)本創(chuàng)造的目的所采用的總體技術(shù)方案，描述的程度應(yīng)到達(dá)使所屬技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)人員按照所述內(nèi)容可重現(xiàn)創(chuàng)造，而不必再付出創(chuàng)造性勞動(dòng)，如進(jìn)展摸索研究或者大量實(shí)驗(yàn)等。如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的具體要求三、技術(shù)交底書的具體要求〔三〕技術(shù)內(nèi)容 4、具體實(shí)施例。具體描述實(shí)施所述技術(shù)方案的例子，每個(gè)例子都是包含創(chuàng)造點(diǎn)和實(shí)現(xiàn)創(chuàng)造的其他技術(shù)內(nèi)容在內(nèi)的完整技術(shù)方案。每個(gè)例子都應(yīng)當(dāng)詳細(xì)、具體地描述本領(lǐng)域技術(shù)人員實(shí)施和再現(xiàn)本創(chuàng)造所需的一切必要條件，如參數(shù)、材料、設(shè)備以及必要的設(shè)備、零件的規(guī)格、型號等，如果其中使用了新物質(zhì)或者自己制造的材料，還應(yīng)當(dāng)說明其制造方法。如何撰寫技術(shù)交底書——技術(shù)交底書的具體要求三、技術(shù)交底書的具體要求〔四〕技術(shù)效果

技術(shù)效果是指由技術(shù)方案帶來的，或者是由所述的技術(shù)特征產(chǎn)生的技術(shù)效果。