標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 31227-2014 原子力顯微鏡測(cè)量濺射薄膜表面粗糙度的方法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，專門針對(duì)使用原子力顯微鏡（AFM）技術(shù)來(lái)測(cè)定濺射薄膜材料表面粗糙度的過(guò)程提供了詳細(xì)的指導(dǎo)。該標(biāo)準(zhǔn)適用于各種通過(guò)物理氣相沉積方法制備的濺射薄膜樣品，旨在為科研人員及工業(yè)界提供一個(gè)統(tǒng)一且準(zhǔn)確的測(cè)試平臺(tái)。

根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容，首先明確了適用范圍，即本標(biāo)準(zhǔn)所涵蓋的具體領(lǐng)域和對(duì)象；接著對(duì)術(shù)語(yǔ)進(jìn)行了定義，包括但不限于“表面粗糙度”、“原子力顯微鏡”等關(guān)鍵概念，確保了行業(yè)內(nèi)對(duì)于這些專業(yè)詞匯有一致的理解基礎(chǔ)。此外，還詳細(xì)介紹了實(shí)驗(yàn)所需儀器設(shè)備的基本要求，比如AFM的工作模式選擇、探針規(guī)格等，并給出了具體的操作步驟說(shuō)明，從樣品準(zhǔn)備到數(shù)據(jù)采集再到結(jié)果分析都有明確指示。

在樣品制備方面，強(qiáng)調(diào)了需要保證待測(cè)表面清潔無(wú)污染，并且推薦了一定條件下進(jìn)行預(yù)處理以提高測(cè)量準(zhǔn)確性。關(guān)于數(shù)據(jù)處理部分，則是基于國(guó)際通用算法對(duì)獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，計(jì)算出平均粗糙度值Ra以及其他相關(guān)參數(shù)。同時(shí)，也提到了如何評(píng)估測(cè)量不確定度以及重復(fù)性與再現(xiàn)性的控制方法。

整個(gè)過(guò)程強(qiáng)調(diào)了標(biāo)準(zhǔn)化操作的重要性，通過(guò)規(guī)范化的流程設(shè)置來(lái)減少人為因素造成的誤差，從而能夠更客觀地反映濺射薄膜的真實(shí)表面特性。


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....

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  • 2014-09-30 頒布
  • 2015-04-15 實(shí)施
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GB/T 31227-2014原子力顯微鏡測(cè)量濺射薄膜表面粗糙度的方法_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

ICS1704020

J04..

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T31227—2014

原子力顯微鏡測(cè)量

濺射薄膜表面粗糙度的方法

Testmethodforthesurfaceroughnessbyatomicforcemicroscope

forsputteredthinfilms

2014-09-30發(fā)布2015-04-15實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T31227—2014

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)科學(xué)院提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC279)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位上海交通大學(xué)納米技術(shù)及應(yīng)用國(guó)家工程研究中心

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)起草人李慧琴梁齊路慶華何丹農(nóng)張冰

:、、、、。

Ⅰ

GB/T31227—2014

引言

濺射技術(shù)因其能夠使材料均勻致密并且大面積地按照合適的比例鍍?cè)诨w表面上而得到廣泛運(yùn)

,

用形成的薄膜表面粗糙程度對(duì)其光電性能具有很大影響由于其粗糙度一般處于納米尺度但目前

,、。,

已有的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)都是大于微米尺度的測(cè)量方法標(biāo)準(zhǔn)不適用這種材料表面粗糙度的測(cè)量

,。

原子力顯微鏡利用一尖銳探針接觸到樣品表面得到表面的高度信息達(dá)到了縱向上優(yōu)于橫向

,,0.1nm,

上優(yōu)于的分辨率用原子力顯微鏡來(lái)測(cè)量濺射薄膜的表面粗糙度平均標(biāo)準(zhǔn)偏差可以達(dá)到

1nm。,1nm,

因而適合這種薄膜表面粗糙度的測(cè)量

。

Ⅱ

GB/T31227—2014

原子力顯微鏡測(cè)量

濺射薄膜表面粗糙度的方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用原子力顯微鏡測(cè)量表面粗糙度的方法

(AFM)。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于測(cè)量濺射成膜方法生成的平均粗糙度Ra小于的薄膜

、100nm。

其他非濺射薄膜的表面粗糙度的測(cè)量可以參考此方法

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

利用晶面原子臺(tái)階對(duì)原子力顯微鏡亞納米高度測(cè)量進(jìn)行校準(zhǔn)的方法

GB/T27760—2011Si(111)。

3術(shù)語(yǔ)和定義符號(hào)和縮略語(yǔ)

、

31術(shù)語(yǔ)和定義

.

界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

GB/T27760—2011。

311

..

原子力顯微鏡atomicforcemicroscope

利用晶面原子臺(tái)階對(duì)原子力顯微鏡亞納米高度測(cè)量進(jìn)行校準(zhǔn)的方法

Si(111)。

312

..

濺射薄膜sputteredthinfilms

利用濺射工藝在某種基體上形成的均勻的膜

。

313

..

探針污染tipcontaminated

探針針尖的表面吸附上了其他物質(zhì)造成了針尖的污染

,。

32符號(hào)和縮略語(yǔ)

.

下列符號(hào)和縮略語(yǔ)適用于本文件見表

(1)。

表1符號(hào)和縮略語(yǔ)

縮寫和符號(hào)說(shuō)明單位

原子力顯微鏡

AFM(AtomicForceMicroscope)

云母片用于的方向的原子級(jí)分辨的校正

Mica,AFMx-y

Ra平均粗糙度

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