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文檔簡介

1、光的基本性質(zhì):波動性和微粒性2、光與物質(zhì)的相互作用吸收、發(fā)射、透射、折射、反射、散射、衍射絕對折射率ni=c/vi折射率是隨著頻率改變而改變的,即波長不同的光的折射率不同光學(xué)分析法3、光源:連續(xù)光譜光源和線光譜光源4、單色器:棱鏡、光柵光學(xué)分析法λ1

λ1λ2λ3λ2

λ3θ1

θ2

bABDCir1231’2’3’d5、檢測器:光電效應(yīng)檢測器,熱檢測器。原子發(fā)射光譜1、基本概念:Zeeman效應(yīng)、Stark效應(yīng)、激發(fā)、電離、共振線、靈敏線、最后線、自吸、自蝕2、光源----提供能量使樣品蒸發(fā)、離解、原子化、激發(fā)。電弧、火花、ICP光學(xué)分析法3、定性分析

依據(jù)----波長;方法----4、定量分析光學(xué)分析法I=kc賽伯-羅馬金公式:I=acb

原子吸收光譜1、基本概念:自然寬度、多普勒變寬、壓力變寬、場致變寬積分吸收、峰值吸收、銳線光源(空心陰極燈)2、原子化系統(tǒng)----提供能量使樣品蒸發(fā)、離解、原子化?;鹧嬖踊到y(tǒng)----霧化器、燃燒器、火焰類型非火焰原子化系統(tǒng)----電熱石墨爐、冷原子化光學(xué)分析法3、定量方法:標(biāo)準(zhǔn)曲線法、標(biāo)準(zhǔn)加入法4、干擾及消除方法

光譜干擾、物理干擾、化學(xué)干擾、背景吸收干擾光學(xué)分析法(1)鄰近非共振吸收線法(2)氘燈法(3)Zeeman效應(yīng)(4)空白溶液校正紫外-可見吸收光譜1、基本概念:生色團、助色團、藍(lán)移、紅移、最大吸收波長、吸收系數(shù)2、躍遷類型

ππ*躍遷;nπ*躍遷光學(xué)分析法nπ*π非極性溶劑極性溶劑溶劑對紫外-可見光譜的影響3、吸收定律:光學(xué)分析法A=-lgT=-lg(It/I0)=bc4、對比爾定律的偏離:加和性A=1bc1+2bc2+3bc3+……比爾定律本身的局限性化學(xué)因素-等吸光點儀器因素-單色光、譜帶寬度與狹縫寬度化學(xué)因素5、應(yīng)用:定性、定量、測定各種常數(shù)雙波長法、示差分光光度法分子發(fā)光光譜法光致發(fā)光分子熒光分子磷光化學(xué)發(fā)光生物發(fā)光01230123012S101240123S0S2T1T2內(nèi)轉(zhuǎn)換外轉(zhuǎn)換振動馳豫系間跨越1234吸收吸收熒光磷光光學(xué)分析法1、基本概念:振動馳豫、內(nèi)轉(zhuǎn)換、外轉(zhuǎn)換、系間跨越、熒光猝滅、熒光量子效率、激發(fā)光譜、發(fā)射光譜、同步熒光光譜、三維熒光光譜2、熒光的特點光學(xué)分析法斯托克斯(Stokes)位移鏡像對稱規(guī)則熒光發(fā)射光譜的形狀與激發(fā)波長的選擇無關(guān)3、影響熒光強度的因素:光學(xué)分析法分子結(jié)構(gòu)躍遷類型:*→量子效率高共軛效應(yīng)取代基效應(yīng):給電子基團(-NH2等)熒光增強,吸電子基團(-Cl等)熒光減弱結(jié)構(gòu)剛性效應(yīng)環(huán)境因素溶劑極性增加,→*躍遷能量減小,熒光紅移溫度高,熒光效率下降pH動態(tài)猝滅(碰撞)靜態(tài)猝滅(形成不發(fā)熒光化合物)內(nèi)濾作用4、熒光儀與紫外分光光度計的結(jié)構(gòu)差異光學(xué)分析法光源入射狹縫激發(fā)單色器出射狹縫樣品池發(fā)射單色器入射狹縫出射狹縫信號輸出裝置檢測器放大器樣品池-四面透光的方形石英池5、磷光與熒光的區(qū)別光學(xué)分析法試樣管盛液氮的杜瓦瓶至發(fā)射單色器來自激發(fā)單色器6、化學(xué)發(fā)光光學(xué)分析法CL=發(fā)光分子數(shù)/參加反應(yīng)的分子數(shù)=CEEM一般CL都小于0.01樣品池光檢測器放大器信號輸出裝置高壓穩(wěn)壓電源直接化學(xué)發(fā)光

間接化學(xué)發(fā)光

氣相化學(xué)發(fā)光反應(yīng)液相化學(xué)發(fā)光反應(yīng)紅外吸收光譜1、基本概念:紅外吸收條件、基本振動頻率的計算、基頻、倍頻、組頻2、振動類型伸縮振動、變形振動、振動自由度光學(xué)分析法胡克定律3、影響紅外吸收強度的因素:(1)基態(tài)向第一激發(fā)態(tài)躍遷幾率最大,強;(2)偶極距變化越大,峰越強。很明顯,鍵兩端的原子電負(fù)性相差越大,偶極距變化越大,例如vC=O強度就大于vC=C。(3)反對稱伸縮振動強度大于對稱伸縮振動,伸縮振動強度大于變形振動光學(xué)分析法4、影響基團頻率位移的因素:

-外部因素和內(nèi)部因素光學(xué)分析法電子效應(yīng)誘導(dǎo)效應(yīng)(I效應(yīng))共軛效應(yīng)(C效應(yīng))中介效應(yīng)(M效應(yīng))氫鍵的影響分子間氫鍵分子內(nèi)氫鍵振動偶合費米共振空間效應(yīng)環(huán)的張力外部因素-物質(zhì)狀態(tài)和溶劑效應(yīng)氣態(tài)時,分子間作用力弱,可觀察到伴隨著振動的轉(zhuǎn)動精細(xì)結(jié)構(gòu)極性溶劑中,溶質(zhì)分子的極性基團的伸縮振動隨溶劑極性的增大向低波數(shù)方向移動,并且強度增大5、紅外光譜儀:

-吸收池NaCl、KBr、CsI光學(xué)分析法傅立葉變換紅外光譜儀激光拉曼光譜法1、基本概念:瑞利散射、拉曼散射、拉曼位移(與入射光頻率無關(guān))2、拉曼光譜與紅外光譜的比較互相補充、極化率光學(xué)分析法核磁共振波譜法1、基本概念:磁旋比、核磁矩、屏蔽作用、化學(xué)位移、相對化學(xué)位移、化學(xué)全同質(zhì)子、磁全同質(zhì)子、自旋-自旋裂分、偶合常數(shù)2、化學(xué)位移、偶合常數(shù)與外磁場的關(guān)系

光學(xué)分析法3、自旋-自旋裂分規(guī)律:4、積分高度與質(zhì)子數(shù)成正比5、13C與1H譜的區(qū)別與聯(lián)系

偏共振去偶,質(zhì)子全去偶,二維核磁光學(xué)分析法偶合裂分模式13C-13C-不出現(xiàn)(13C自然豐度?。┡己希棺V復(fù)雜去偶合質(zhì)子全去偶

偏共振去偶13C-1H13C-C-1H、13C-C-C-1H核磁共振波譜法質(zhì)譜法1、基本概念:方向聚焦、能量聚焦、分辨率、亞穩(wěn)離子峰、重排離子峰2、各種離子源及其特點電子電離源、化學(xué)電離源、場電離源、快速原子轟擊源及電噴霧電離源等,其中以電子電離源及電噴霧電離源應(yīng)用廣泛。光學(xué)分析法3、各種質(zhì)量分析器及其特點磁分析器、四極質(zhì)量分析器、離子捕獲分析器、離子回旋共振分析器、飛行時間分析器4、分辨率光學(xué)分析法5、離

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