高純度碳纖維、碳碳復(fù)合材料在半導(dǎo)體硅(多晶、單晶)材料生產(chǎn)制造工藝中的應(yīng)用培訓(xùn)課件_第1頁(yè)
高純度碳纖維、碳碳復(fù)合材料在半導(dǎo)體硅(多晶、單晶)材料生產(chǎn)制造工藝中的應(yīng)用培訓(xùn)課件_第2頁(yè)
高純度碳纖維、碳碳復(fù)合材料在半導(dǎo)體硅(多晶、單晶)材料生產(chǎn)制造工藝中的應(yīng)用培訓(xùn)課件_第3頁(yè)
高純度碳纖維、碳碳復(fù)合材料在半導(dǎo)體硅(多晶、單晶)材料生產(chǎn)制造工藝中的應(yīng)用培訓(xùn)課件_第4頁(yè)
高純度碳纖維、碳碳復(fù)合材料在半導(dǎo)體硅(多晶、單晶)材料生產(chǎn)制造工藝中的應(yīng)用培訓(xùn)課件_第5頁(yè)
已閱讀5頁(yè),還剩7頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

高純度碳纖維、碳/碳復(fù)合材料在半導(dǎo)體硅(多晶、單晶)材料生產(chǎn)制造工藝中的應(yīng)用

眾所周知,大直徑直拉硅單晶生長(zhǎng)的整體工藝有著如下四類關(guān)鍵技術(shù)(或稱在生產(chǎn)中必需關(guān)注的關(guān)鍵問題):硅單晶內(nèi)在質(zhì)量,如無(wú)位錯(cuò)、低微缺陷密度、軸向徑向的電阻率分布高均勻性……等。高的拉制速度—高的單爐產(chǎn)量或稱高的單爐月產(chǎn)量(同時(shí)意味著降低電耗)。2低的電耗,降低生產(chǎn)每一公斤合格硅單晶所消耗的電能,降低生產(chǎn)成本。提高硅單晶生產(chǎn)成品率,降低石墨、石英坩堝和碳素保溫材料的消耗(或稱之為延長(zhǎng)其使用壽命)。多年來(lái),國(guó)內(nèi)、外的生產(chǎn)實(shí)踐證明:解決好上述四個(gè)問題的最關(guān)鍵的核心技術(shù)在于硅單晶生長(zhǎng)的熱場(chǎng)設(shè)計(jì)與配置。在這里,熱場(chǎng)中的加熱器、坩堝托、坩堝桿……等用大尺寸、高強(qiáng)度、高純度的石墨制造(本文暫不重點(diǎn)談熱場(chǎng)設(shè)計(jì)),熱場(chǎng)的保溫系統(tǒng)則用高純度的碳素系列的保溫材料制造(它們是:碳?xì)?、固化碳?xì)帧⑹珰?、石墨箔、碳纖維和碳/碳復(fù)合材料或按一定尺寸設(shè)計(jì)已定形的固化碳/碳復(fù)合材料保溫系統(tǒng))。4據(jù)本人調(diào)研得知:至今國(guó)內(nèi)近百家拉制硅單晶的企業(yè)仍然在使用低拉速(約1~1.2毫米/分)的所謂第一代熱場(chǎng),很少有單位采用1.5毫米/分以上的拉速。而國(guó)外的著名大型硅單晶企業(yè)早已采用高拉速(拉速在1.5~2.5毫米/分)的第三代熱場(chǎng),其石墨加熱器的熱場(chǎng)分布的計(jì)算與設(shè)計(jì)已做了很大的改進(jìn),其熱場(chǎng)的保溫材料早已由碳?xì)指臑樘祭w維、碳/碳復(fù)合材料的定型固化系統(tǒng)結(jié)構(gòu),其優(yōu)點(diǎn)是:5碳灰分低很多,大大降低了對(duì)硅單晶中碳的玷污,可以控制硅單晶中碳含量小于1×1016at/㎝3,提高了硅單晶的內(nèi)在質(zhì)量。保溫效果好,可以節(jié)電20%(生產(chǎn)每公斤硅單晶的電耗可以從60度降至50度)。使用壽命長(zhǎng),一套固化碳纖維、碳/碳復(fù)合材料保溫罩至少可以使用1年以上,降低了成本,而且提高了單晶爐開爐、折爐過程中熱場(chǎng)安裝的重復(fù)性和穩(wěn)定性。高密度的高強(qiáng)度的固化定型碳纖維、碳/碳復(fù)合材料也可以用來(lái)制作加熱器、坩堝托、坩堝桿及其它部件,可以延長(zhǎng)使用壽命,降低成本(由于導(dǎo)熱系數(shù)與石墨不同,在熱場(chǎng)分布計(jì)算上還需進(jìn)一步考慮)。7下面介紹:直拉硅單晶生長(zhǎng)(石墨、碳素保溫材料)熱場(chǎng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)舉例總結(jié)數(shù)十年來(lái)國(guó)內(nèi)、外在直拉硅單晶爐設(shè)備的設(shè)計(jì)上的經(jīng)驗(yàn)存在如下規(guī)律:假定Ф為晶體、坩堝、加熱器、保溫罩和爐室內(nèi)壁的直徑,則一般地會(huì)有如下經(jīng)驗(yàn)公式:(一)Ф爐膛內(nèi)徑=(Ф單晶×2.5~3)石英坩堝+(1″~2″)石墨托+1″間隙+2″石墨加熱器+1″間隙+6″保溫罩+4″間隙舉例:如要設(shè)計(jì)拉制電路級(jí)8″硅單晶的直拉硅單晶爐:則應(yīng)該是:石英坩堝直徑24″。石墨坩堝托外徑為25″(厚度12.7㎜)。石墨加熱器內(nèi)徑26″,厚度12.7㎜(1/2″)。石墨加熱器外徑27″(注:可以加厚為1″).碳素保溫罩內(nèi)徑為28″。碳素保溫罩外徑為32″(厚2″)(外徑可以為34″)。爐膛內(nèi)徑為38″~40″(1米)。9因此結(jié)論是:設(shè)計(jì)拉制電路級(jí)8″硅單晶的直拉單晶爐的爐膛內(nèi)徑應(yīng)該是1米。同時(shí)大致也可以得出如下結(jié)論:TDR-70型單晶爐最好裝16″熱系統(tǒng)。TDR-80型爐最好裝18″熱系統(tǒng)。TDR-90型爐最好裝20″熱系統(tǒng)。TDR-95型爐最好裝22″熱系統(tǒng)。10其它有關(guān)熱場(chǎng)的關(guān)鍵尺寸參考:拉制不同直徑硅單晶石墨加熱器的高度與直徑之比(簡(jiǎn)稱高徑比):6″單晶為1:1,8″單晶為4:5,12″單晶為2:3加熱器頂端與保溫罩蓋頂距離(簡(jiǎn)稱器蓋距)為40㎜至20㎜(加磁場(chǎng)時(shí))。導(dǎo)流筒底端面離硅液面距離為20~25㎜,導(dǎo)流筒下口內(nèi)徑=晶體直徑+2″保溫罩系統(tǒng)采用定形固化碳纖維、碳/碳復(fù)合材料整體結(jié)構(gòu)可節(jié)約電耗20%以上。其厚度可取2″~3″;為保證低的灰分,最好內(nèi)、外徑都襯以石墨筒。11高純度、高密度的碳纖維、碳/碳復(fù)合材料的加熱器(片)在半導(dǎo)體多晶硅生產(chǎn)線的四氯化硅氫化爐中也有著成功的應(yīng)用。它的優(yōu)點(diǎn)是:高溫下抗(SiCl4、SiHCl3和HCl)腐蝕,使用壽命長(zhǎng),片式加熱器的熱交換面積大,氫化率及產(chǎn)率高,氫化爐中的固化定形的碳纖維、碳/

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫(kù)網(wǎng)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論