半導(dǎo)體設(shè)備中標(biāo)專題（2022年6月）：設(shè)備國產(chǎn)率持續(xù)提升

證券研究報告|行業(yè)專題的信息披露和法律聲明機(jī)機(jī)械設(shè)備于大市(維持)證證券分析師倪正洋資格編號：S0120521020003研研究助理楊云逍市市場表現(xiàn)9%0%-9%-17%-26021-072021-112022-03-34%相關(guān)研相關(guān)研究1.《——第34期周觀點-6月制造業(yè)PMI環(huán)比+0.6pp升至擴(kuò)張區(qū)間，2022年電池新技術(shù)招標(biāo)大年，關(guān)注HJT訂單與降本共振，同時繼續(xù)推薦，2022.7.2+0.6pp升至擴(kuò)張區(qū)間，目前需求偏2022.6.303.《——第33期周觀點-關(guān)注HJT6月底到三季度訂單與降本共振，推薦HJT受益設(shè)備標(biāo)的，同時繼續(xù)推薦油，2022.6.254.《——第32期周觀點-關(guān)注HJT6月底到三季度訂單與降本共振，推薦HJT受益設(shè)備標(biāo)的，同時繼續(xù)推薦船舶、油服行業(yè)》，2022.6.185.《光伏設(shè)備：金剛玻璃擬擴(kuò)建為股份、奧特維等相關(guān)環(huán)節(jié)龍頭公半半導(dǎo)體設(shè)備中標(biāo)專題(2022年2022年6月國內(nèi)主流晶圓廠共開標(biāo)68臺工藝設(shè)備，上海積塔為擴(kuò)產(chǎn)主力。我們以長江存儲、華力集成、華力微電子、福建晉華、華虹無錫、合肥晶合、上海積塔、中車時代、中芯紹興、武漢新芯10家中國大陸主要的IDM或代工企業(yè)為統(tǒng)計樣本，通過中國國際招標(biāo)網(wǎng)對上述晶圓廠中標(biāo)情況進(jìn)行梳理。2022年6月國內(nèi)10家主流晶圓廠共開標(biāo)68臺工藝設(shè)備，主要來自上海積塔(52臺)、華虹無錫(11臺)、福建晉華(3臺)、華力集成(1臺)。22年1-6月合計開標(biāo)548臺工藝設(shè)備，主要來自華虹無錫(291臺)、上海積塔(210臺)、時代電氣(16臺)、福建晉華(23臺)、華力集成(6臺)、華力微電子(2臺)。干法去膠機(jī)、后道測試、清洗設(shè)備為2022年6月國內(nèi)晶圓廠主要開標(biāo)設(shè)備。2022年6月開標(biāo)的68臺設(shè)備中，按照不同工藝設(shè)備開標(biāo)數(shù)量從高到低排列，分別為干法去膠機(jī)(14臺)、清洗設(shè)備(13臺)、后道測試設(shè)備(11臺)、離子注入機(jī)(9臺)、沉積設(shè)備(8臺)、刻蝕設(shè)備(8臺)、前道檢測設(shè)備(2臺)、爐管設(shè)備 (2臺)、拋光設(shè)備(1臺)。2022年1-6月開標(biāo)的548臺設(shè)備中，按照不同工藝設(shè)備開標(biāo)數(shù)量從高到低排列，分別爐管設(shè)備(119臺)、沉積設(shè)備(97臺)、刻蝕設(shè)備(82臺)、前道檢測設(shè)備(64臺)、后道測試設(shè)備(46臺)、清洗設(shè)備(33臺)、干法去膠設(shè)備(31臺)、離子注入機(jī)(28臺)拋光設(shè)備(21臺)、涂膠顯影設(shè)備(17臺)、光刻機(jī)(10臺)。受國內(nèi)刻蝕、干法去膠、涂膠顯影等設(shè)備廠家拉動，中標(biāo)國產(chǎn)率持續(xù)提升。2022年6月中國大陸設(shè)備中標(biāo)數(shù)量為44臺，國產(chǎn)率達(dá)64.7%。2022年1-6月開標(biāo)的548臺設(shè)備中，源自中國大陸廠家制造的設(shè)備共計189臺，占比達(dá)34.5%。分晶月國產(chǎn)率較高的環(huán)節(jié)主要為干法去膠設(shè)備(國產(chǎn)率81%)、刻蝕設(shè)備(54%)、拋光設(shè)備(43%)、清洗設(shè)備(58%)、涂膠顯影設(shè)備(35%)。聚焦6月份國內(nèi)中標(biāo)廠商，稷以科技(12臺)、捷佳偉創(chuàng)(中標(biāo)11臺)、中微公司(7臺)排名靠前，持續(xù)體現(xiàn)國內(nèi)廠家在刻蝕、清洗、干法去膠、涂膠顯影等設(shè)備環(huán)節(jié)的強(qiáng)勢地位。投資建議：重點關(guān)注國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭北方華創(chuàng)(002371)；高端刻蝕設(shè)備龍頭中微公司(688012)；持續(xù)突破高端后道測試機(jī)的長川科技(300604)、華峰測控(688200)；涂膠顯影與單片清洗不斷突破前道環(huán)節(jié)的國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備小巨人芯源微(688037)；半導(dǎo)體薄膜沉積龍頭拓荊科技(688072)；國產(chǎn)清洗設(shè)備領(lǐng)軍企業(yè)盛美上海(688082)、至純科技(603690)；離子注入機(jī)領(lǐng)先企業(yè)萬業(yè)企業(yè)(600641)；半導(dǎo)體環(huán)保設(shè)備領(lǐng)先企業(yè)盛劍環(huán)境(603324)等。風(fēng)險提示：晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)不及預(yù)期、設(shè)備公司研發(fā)不及預(yù)期、中美貿(mào)易摩擦風(fēng)險。行業(yè)專題機(jī)械設(shè)備2/12請務(wù)必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明1.2022年6月主流晶圓廠設(shè)備開標(biāo)略有下降，上海積塔貢獻(xiàn)主要增量 4 1.2.分晶圓廠看：上海積塔6月開標(biāo)52臺設(shè)備，華虹無錫開標(biāo)11臺設(shè)備 51.3.分設(shè)備看：干法去膠機(jī)、后道測試、清洗設(shè)備貢獻(xiàn)2022年6月主要擴(kuò)產(chǎn)增量.62.設(shè)備國產(chǎn)率：刻蝕、干法去膠等設(shè)備國產(chǎn)率較高 72.1.分晶圓廠看：上海積塔2022年1-6月設(shè)備中標(biāo)國產(chǎn)率超50% 72.2.分設(shè)備看：2022年1-6月干法去膠、刻蝕、清洗設(shè)備國產(chǎn)率較高 83.6月中標(biāo)較多的中國大陸廠家為稷以科技、捷佳偉創(chuàng)、中微公司等 9 3/12請務(wù)必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明 圖2：2022年6月中國大陸廠家中標(biāo)設(shè)備共44臺，國產(chǎn)率達(dá)64.7% 7 4表2：半導(dǎo)體設(shè)備按工藝不同可分為制程核心設(shè)備、良率提升設(shè)備、輔助設(shè)備 4 ：2022年1-6月中國大陸廠家中標(biāo)設(shè)備共189臺，國產(chǎn)率達(dá)34.5% 7國產(chǎn)設(shè)備分別為126、45臺 8表8：2022年1-6月，上海積塔設(shè)備國產(chǎn)率超50% 8：2022年1-6月刻蝕設(shè)備中國大陸廠家共中標(biāo)44臺設(shè)備 8表10：2022年1-6月干法去膠、刻蝕、拋光、清洗國產(chǎn)率較高 9稷以科技、捷佳偉創(chuàng)、中微公司6月中標(biāo)數(shù)量靠前 94/12請務(wù)必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明貢統(tǒng)計樣本，通過中國國際招標(biāo)網(wǎng)對上述晶圓廠中標(biāo)情況進(jìn)行梳理(詳細(xì)樣本選取樣本晶圓廠開標(biāo)數(shù)量(臺)181911361024414710879682,0001,8001,6001,4001,2001,0008006004002000樣本晶圓廠開標(biāo)數(shù)量(臺)2020年2021年2020年2021年升設(shè)備(包括前道檢測設(shè)備、后道測試設(shè)備、清洗設(shè)備)以及重要輔助設(shè)備(包括設(shè)備、輔助設(shè)備類稱結(jié)構(gòu)在涂有光刻膠的硅片進(jìn)行曝光，將圖案復(fù)制到硅片上。是指使用氣態(tài)的化學(xué)刻蝕劑與硅片上未被光刻膠覆蓋的材料發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng)(或兩者均有)，以去除暴露行業(yè)專題機(jī)械設(shè)備5/12請務(wù)必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明、合金及部分沉積工藝，使得金屬和介質(zhì)層的局部或全局平坦化薄膜沉積設(shè)備、合金及部分沉積工藝，使得金屬和介質(zhì)層的局部或全局平坦化度下，準(zhǔn)確控制雜質(zhì)摻入濃度和深度，重復(fù)性好。性和可預(yù)期性，多用到電鏡、膜厚測量設(shè)備，套刻測試設(shè)備制造后或者封裝后芯片功能和電性能的測試，包括探針臺、分選機(jī)、測試機(jī)等設(shè)備涂膠的方法涂上液相光刻膠材料，用顯影液溶解光刻膠可溶區(qū) 形出現(xiàn)在硅片上，硅片用去離子水沖洗后甩干IDM或代工企業(yè)為主。以上十家企業(yè)分別覆蓋存儲、邏輯、驅(qū)動IC、功D華力微電子(華虹5廠)28nm藝(華虹6廠)nm藝(華虹7廠)5nm/MOSFETTMEMS建晉華合肥晶合位為設(shè)備中標(biāo)“臺”數(shù)，為保證中標(biāo)時間的領(lǐng)先性，我們以設(shè)備評標(biāo)公示時間為準(zhǔn)，并結(jié)合后續(xù)中標(biāo)信息備6月開標(biāo)的68臺設(shè)備主要來自上海積塔(52臺)、華虹無錫(11臺)、福建晉華(3臺)、華力集成(1臺)，上海積塔及華虹無錫擴(kuò)產(chǎn)貢獻(xiàn)主要增量。6月開標(biāo)的548臺設(shè)備主要來自華虹無錫(291臺)、上海積塔(210臺)、時代電氣(16臺)、福建晉華(23臺)、華力集成(6臺)、華力微電子(2臺)，行業(yè)專題機(jī)械設(shè)備6/12請務(wù)必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明。20年21年月月月月月月月98000000030001012001131600000000342701320建晉華133583合肥晶合000000008420000000計4448由于不同招標(biāo)批次對應(yīng)設(shè)備采購種類不同，因此不同時期工藝設(shè)備招標(biāo)種類也會低排列，分別為干法去膠機(jī)(14臺)、清洗設(shè)備(13臺)、后道測試設(shè)備(11臺)、離子注入機(jī)(9臺)、沉積設(shè)備(8臺)、刻蝕設(shè)備(8臺)、前道檢測設(shè)備(2臺)、爐管設(shè)備(2臺)、拋光設(shè)備(1臺)。標(biāo)臺)、沉積設(shè)備(97臺)、刻蝕設(shè)備(82臺)、前道檢測設(shè)備(64臺)、后道測試設(shè)備(46臺)、清洗設(shè)備(33臺)、干法去膠設(shè)備(31臺)、離子注入機(jī) (28臺)拋光設(shè)備(21臺)、涂膠顯影設(shè)備(17臺)、光刻機(jī)(10臺)。311140488475188972143076141902道測試110120464410943001151740311936052計4行業(yè)專題機(jī)械設(shè)備7/12請務(wù)必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明2.設(shè)備國產(chǎn)率：刻蝕、干法去膠等設(shè)備國產(chǎn)率較高此與實際市場規(guī)模測算的國產(chǎn)率有一定差異。且考慮不同晶圓廠、不同工藝設(shè)備近年來受益于北方華創(chuàng)、中微公司、盛美半導(dǎo)體、芯源微、屹唐半導(dǎo)體、至純科干法去管、涂膠顯影等領(lǐng)域半導(dǎo)體設(shè)備中標(biāo)國產(chǎn)率較高。從年度數(shù)據(jù)來看，2021；70%60%50%40%30%20%10%0%半導(dǎo)體設(shè)備中標(biāo)國產(chǎn)率2021年2020年2022年1月2022年2月22021年2020年2022年1月2022年2月2022年3月2022年5月2022年6月月備中標(biāo)0%%%0%6%%開標(biāo)的548臺設(shè)備主要來自華虹無錫(291臺)、上海積塔(210臺)、時代電氣(16臺)、福建晉華(23臺)、華力集成(6臺)、華力微電子(2臺)。國產(chǎn)設(shè)備中標(biāo)數(shù)較多的晶圓廠為上海積塔(126臺)、華虹無錫(45臺)、時代電氣(8臺)、福建晉華(9臺)。其中上海積塔國產(chǎn)率超50%，華虹無錫開標(biāo)設(shè)備行業(yè)專題機(jī)械設(shè)備8/12請務(wù)必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明0000000400000000400001015341445480000000460204243600152008建晉華021103319合肥晶合800000000070000000計4948440%%%0%6%1%年年%/華力微電子(華虹5廠)%華力集成(華虹6廠)%華虹無錫(華虹7廠)%%/建晉華合肥晶合.4%///計國產(chǎn)率%備中標(biāo)數(shù)量從高到低排序，不同工藝設(shè)備國內(nèi)廠家中標(biāo)情況如下：刻蝕設(shè)備(44臺)、沉積設(shè)備(29臺)、爐管設(shè)備(26臺)、干法去膠設(shè)備(25臺)、前道清洗設(shè)備(19臺)、離子注入機(jī)(7臺)、后道測試設(shè)備(12臺)、涂膠顯影設(shè)備(6臺)、光刻機(jī)(1臺)。其中國產(chǎn)率較清洗設(shè)備(58%)、涂膠顯影設(shè)備(35.3%)。備21年光刻2000001010425844沉積39400402203294001061離子注入400610007行業(yè)專題機(jī)械設(shè)備9/12請務(wù)必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明002171后道測試71410130081282100230CMP拋光3215301050901093爐管6327000223126計4948440%%%0%6%0%%%%道測試.7%.9%.4%.0%計國產(chǎn)率%%%%務(wù)的設(shè)備廠家)。類簡稱體有限公司特色工藝機(jī)6上海市2022/6/7上海稷以科技有限公司機(jī)稷以科技體有限公司特色工藝機(jī)6/6/7技有限公司機(jī)稷以科技體有限公司特色工藝1上海市2022/6/7創(chuàng)微微電子(常州)有偉創(chuàng)行業(yè)專題機(jī)械設(shè)備10/12請務(wù)必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明體有限公司特色工藝金屬鈦去除機(jī)1/6/7創(chuàng)微微電子(常州)有佳偉創(chuàng)體有限公司特色工藝2上海市2022/6/7創(chuàng)微微電子(常州)有偉創(chuàng)體有限公司特色工藝2/6/7創(chuàng)微微電子(常州)有佳偉創(chuàng)體有限公司特色工藝片清洗機(jī)1上海市2022/6/7創(chuàng)微微電子(常州)有偉創(chuàng)體有限公司特色工藝1/6/7創(chuàng)微微電子(常州)有佳偉創(chuàng)體有限公司特色工藝槽2上海市2022/6/7創(chuàng)微微電子(常州)有偉創(chuàng)體有限公司特色工藝槽1/6/7創(chuàng)微微電子(常州)有佳偉創(chuàng)體有限公司特色工藝度測量設(shè)備1上海市2022/6/7上海精測半導(dǎo)體技術(shù)有前道檢測設(shè)備體有限公司特色工藝電性測試測1/6/7電路有限后道測試公司設(shè)備體有限公司特色工藝鋁銅金屬濺射設(shè)備3上海市2022/6/7公司江蘇旭宇騰體有限公司特色工藝4/6/10子有限公司測試建晉華建省晉華集成電路有限公司存儲目1福建省2022/6/9盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司盛美半導(dǎo)體備備1/6/27中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司體有限公司特色工藝鈍化層等離子刻蝕機(jī)7上海市2022/6/21刻蝕設(shè)備中微公司2/6/16杭州廣立微電子股份有后道測試設(shè)備杭州廣立微電子儀1/6/16杭州廣立微電子股份有后道測試設(shè)備杭州廣立微電子11/12請務(wù)必閱讀正文之后的信