材料分析方法復(fù)試題目(南理工各大材料學(xué)院可用)_第1頁
材料分析方法復(fù)試題目(南理工各大材料學(xué)院可用)_第2頁
材料分析方法復(fù)試題目(南理工各大材料學(xué)院可用)_第3頁
材料分析方法復(fù)試題目(南理工各大材料學(xué)院可用)_第4頁
材料分析方法復(fù)試題目(南理工各大材料學(xué)院可用)_第5頁
已閱讀5頁，還剩10頁未讀， 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

經(jīng)典word整理文檔，僅參考，雙擊此處可刪除頁眉頁腳。本資料屬于網(wǎng)絡(luò)整理，如有侵權(quán)，請聯(lián)系刪除，謝謝！Xθ,-2而X,。4故xxX3個）XXXXIλSWLXXII特連特連X為K）αXKXXXKKaa。Xθ,-2而X,。XXX程XXXX、、、多晶電子衍射花樣及其標(biāo)定對于多晶薄膜、納米晶體，當(dāng)電子束照射時，被照射區(qū)域*零層特征0電子束照射多晶、納米晶體時，衍射成像原理與多晶線衍射相似。如圖所示。錐）OC1/）PC至PKO點(diǎn)P=λOOOλ。以B’B’S0/λ=OB，OOBxO)和）?）XX°8ab）晶4個4個LK22+f+)+f+)+f+)+f+)+f++)+f)K2H2+f)+f)=f+e++]+f+++πi(L)]=++++f]））當(dāng)L=+f]+f+)+f+)+f+)+f++)CC++]+feC001|2=?f?f|=??=922C002|2=++f|=+3?+=22C011|2=?f+f|=?+=22C）1N）1ddd嘗試-核算（校核）法12R，R341d124111122221hhkkll121212hk2l2h2kl112RRR3127)31312312312[]hkl22111222uvwhklhkl111111hklhkl222222123KL1KL)2KL1231112223331）a=λ=a=dλ經(jīng)11dR1kl111kl222又Rkl12111由1(hkl)(hkl)2222211222得213。O12311122233a=a==Rd?1）XXX5.5度原理及其應(yīng)用5.5.1二次電子成像原理SE信號主要用于分析樣品表面形貌。（5－10nm范圍）二次電子產(chǎn)額對微區(qū)表面的幾何形狀十分敏感，如圖所增大，二次電子產(chǎn)額

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽，若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論