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文檔簡介

掃描電子顯微鏡&X射線能譜儀應用介紹掃描電子顯微鏡/X射線能譜儀(SEM&EDS)理論依據是電子與物質之間的相互作用。如圖1所示，當一束高能的入射電子轟擊物質表面時，被激發(fā)的區(qū)域將產生二次電子、俄歇電子、特征射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、以及在可見、紫外、紅外光區(qū)域產生的電磁輻射。原則上講，利用電子和物質的相互作用，可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息，如形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。SEM/EDS正是根據上述不同信息產生的機理，對二次電子、背散射電子的采集，可得到有關物質微觀形貌的信息，對x射線的采集，可得到物質化學成分的信息。應用范圍材料組織形貌觀察，如斷口顯微形貌觀察，鍍層表面形貌觀察，微米級鍍層厚度測量，粉體顆粒表面觀察，材料晶粒、晶界觀察等；微區(qū)化學成分分析，利用電子束與物質作用時產生的特征X射線，來提供樣品化學組成方面的信息，可定性、半定量檢測大部分元素(Be4-PU94)，可進行表面污染物的分析；焊點、鍍層界面組織成分分析。根據測試目的的不同可分為點測、線掃描、面掃描；顯微組織及超微尺寸材料分析，如鋼鐵材料中諸如馬氏體、回火索氏體、下貝氏體等顯微組織的觀察分析，納米材料的分析；在失效分析中主要用于定位失效點，初步判斷材料成分和異物分析。主要特點樣品制備簡單，測試周期短；景深大，有很強的立體感，適于觀察像斷口那樣的粗糙表面；可進行材料表面組織的定性、半定量分析；既保證高電壓下的高分辨率，也可提供低電壓下高質量的圖像。技術參數分辨率：高壓模式：3nm，低壓模式：4nm放大倍數：5?100萬倍檢測元素：Be4-PU94最大樣品直徑：200mm圖象模式：二次電子、背散射X射線（元素信息）背散射電f（凹凸/組成信息）電廣散亂區(qū)域入射電f束in熒光（化和結合狀志信息）二次電子（樣品的衣面信息），俄歌電子（表層元素信息）x*10rmi以內（二次聰千激發(fā)區(qū)域）\樣品吸收電流圖1.電子激發(fā)物體表面圖2.日立3400N+IXRF典型圖片SU1510500KV6.3mmx!5QkBSE-COMP20Pa3(?.0ufn'圖3.PCB銅箔相結構觀察圖4.金相結構分析-304不銹鋼T咿8.2013伽因1105HL的備視濕活N印圖5.ENIG焊盤剝金后觀察圖6.金屬斷口分析-解理斷口圖7.顆粒形貌觀察

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