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流行飾品材料及工藝教育部職業(yè)教育寶玉石鑒定與加工專業(yè)教學資源庫GemsandJadeIdentificationandProcessingTeachingResourceLibrary氮化鈦裝飾鍍膜建設者姓名：尚穎麗物理氣相沉積工藝氮化鈦裝飾鍍膜-磁控濺射技術沉積氮化鈦工藝過程磁控濺射技術沉積氮化鈦工藝過程：(1)安裝工件。將工件安裝在工件掛具上后，關上鍍膜室。(2)抽真空。開啟真空泵，真空度達到6Pa后，開擴散高泵，真空度抽至6×10-3Pa。(3)烘烤加熱。開啟烘烤加熱電源，對工件加熱，達到預定溫度。(4)轟擊凈化。向鍍膜室充入氬氣，真空度保持1~3Pa,轟擊電壓1000~3000V,工件產生輝光放電，氬離子轟擊凈化工件，轟擊時間10~20分鐘。(5)沉積氮化鈦。首先沉積鈦底層，將工件偏壓降低至500V左右，通入氬氣，真空度調至0.3~0.5Pa。開啟磁控濺射靶電。靶面產生輝光放電，高密度的離子流從靶面濺射出鈦原子。接著沉積氮化鈦涂層，需通入氮氣，真空度在0.5~0.7Pa范圍。由于平衡磁控濺射的金屬離化率只有5%~10%，金屬的活性比較低，獲得氮化鈦等化合物涂層控的工藝范圍(配氮量)比較窄。與輝光放電相比，欲獲得優(yōu)質氮化鈦涂層時，必須嚴格控制鈦的濺射量以及氬-氮比。否則沉積速率很低，色澤不好控制。

(6)取出工件。當膜層厚度

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