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文檔簡介
第一章太陽電池的工作原理和基本特性
1.1半導(dǎo)體物理基礎(chǔ)
1.1.1半導(dǎo)體的性質(zhì)
世界上的物體如果以導(dǎo)電的性能來區(qū)分,有的容易導(dǎo)電,有的不容易導(dǎo)電。容易導(dǎo)電
的稱為導(dǎo)體,如金、銀、銅、鋁、鉛、錫等各種金屬;不容易導(dǎo)電的物體稱為絕緣體,常見
的有玻璃、橡膠、塑料、石英等等;導(dǎo)電性能介于這兩者之間的物體稱為半導(dǎo)體,主要有錯、
硅、種化錢、硫化鎘等等。眾所周知,原子是由原子核及其周圍的電子構(gòu)成的,一些電子脫
離原子核的束縛,能夠自由運動時,稱為自由電子。金屬之所以容易導(dǎo)電,是因為在金屬體
內(nèi)有大量能夠自由運動的電子,在電場的作用下,這些電子有規(guī)則地沿著電場的相反方向流
動,形成了電流。自由電子的數(shù)量越多,或者它們在電場的作用下有規(guī)則流動的平均速度越
高,電流就越大。電子流動運載的是電量,我們把這種運載電量的粒子,稱為載流子。在常
溫下,絕緣體內(nèi)僅有極少量的自由電子,因此對外不呈現(xiàn)導(dǎo)電性。半導(dǎo)體內(nèi)有少量的自由電
子,在一些特定條件下才能導(dǎo)電。
半導(dǎo)體可以是元素,如硅(Si)和錯(Ge),也可以是化合物,如硫化鎘(OCLS)和
硅化錢(GaAs),還可以是合金,如Ca,ALMs,其中x為0-1之間的任意數(shù)。許多有機(jī)化合
物,如意也是半導(dǎo)體。
半導(dǎo)體的電阻率較大(約lO-'VpMlO'dm),而金屬的電阻率則很?。slO—llTam),
絕緣體的電阻率則很大(約pN10£bm)。半導(dǎo)體的電阻率對溫度的反應(yīng)靈敏,例如錯的溫度
從20°C升高到30℃,電阻率就要降低一半左右。金屬的電阻率隨溫度的變化則較小,例如
銅的溫度每升高1000C,p增加40%左右。電阻率受雜質(zhì)的影響顯著.金屬中含有少量雜質(zhì)
時,看不出電阻率有多大的變化,但在半導(dǎo)體里摻入微量的雜質(zhì)時,卻可以引起電阻率很大
的變化,例如在純硅中摻入百萬分之一的硼,硅的電阻率就從2.14xlOQ.m減小到0.004Q.m
左右。金屬的電阻率不受光照影響,但是半導(dǎo)體的電阻率在適當(dāng)?shù)墓饩€照射下可以發(fā)生顯著
的變化。
1.1.2半導(dǎo)體物理基礎(chǔ)
1.1.2.1能帶結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性
半導(dǎo)體的許多電特性可以用一種簡單的模型來解釋。硅是四價元素,每個原子的最外
殼層上有4個電子,在硅晶體中每個原子有4個相鄰原子,并和每一個相鄰原子共有兩個價
電子,形成穩(wěn)定的8電子殼層。
自由空間的電子所能得到的能量值基本上是連續(xù)的,但在晶體中的情況就可能截然不
同了,孤立原子中的電子占據(jù)非常固定的一組分立的能線,當(dāng)孤立原子相互靠近,規(guī)則整齊
排列的晶體中,由于各原子的核外電子相互作用,本來在孤立原子狀態(tài)是分離的能級擴(kuò)展,
根據(jù)情況相互重疊,變成如圖2.1所示的帶狀。電子許可占據(jù)的能帶叫允許帶,允許帶與允
許帶間不許可電子存在的范圍叫禁帶。
<曲將間距,原子間跑再
圖2.1原子間距和電子能級的關(guān)系
在低溫時,晶體內(nèi)的電子占有最低的可能能態(tài)。但是晶體的平衡狀態(tài)并不是電子全都
處在最低允許能級的一種狀態(tài)?;疚锢矶ɡ硪灰慌堇≒auli)不相容原理規(guī)定,每個允
許能級最多只能被兩個自旋方向相反的電子所占據(jù)。這意味著,在低溫下,晶體的某一能級
以下的所有可能能態(tài)都將被兩個電子占據(jù),該能級稱為費米能級(瓊)。隨著溫度的升高,
一些電子得到超過費米能級的能量,考慮到泡利不相容原理的限制,任一給定能量E的一個
所允許的電子能態(tài)的占有幾率可以根據(jù)統(tǒng)計規(guī)律計算,其結(jié)果是由下式給出的費米-狄拉克
分布函數(shù)f(E),即
1
/(E)=
l+e/KT
現(xiàn)在就可用電子能帶結(jié)構(gòu)來描述金屬、絕緣體和半導(dǎo)體之間的差別。
電導(dǎo)現(xiàn)象是隨電子填充允許帶的方式不同而不同。被電子完全占據(jù)的允許帶(稱為滿
帶)上方,隔著很寬的禁帶,存在完全空的允許帶(稱為導(dǎo)帶),這時滿帶的電子即使加電
場也不能移動,所以這種物質(zhì)便成為絕緣體。允許帶不完全占滿的情況下,電子在很小的電
場作用下就能移動到離允許帶少許上方的另一個能級,成為自由電子,而使電導(dǎo)率變得很大,
這種物質(zhì)稱為導(dǎo)體。所謂半導(dǎo)體,即是天然具有和絕緣體一樣的能帶結(jié)構(gòu),但禁帶寬度較小
的物質(zhì)。在這種情況下,滿帶的電子獲得室溫的熱能,就有可能越過禁帶跳到導(dǎo)帶成為自由
電子,它們將有助于物質(zhì)的導(dǎo)電性。參與這種電導(dǎo)現(xiàn)象的滿帶能級在大多數(shù)情況下位于滿帶
的最高能級,因此可將能帶結(jié)構(gòu)簡化為圖2.2。另外,因為這個滿帶的電子處于各原子的
最外層,是參與原子間結(jié)合的價電子,所以又把這個滿帶稱為價帶。圖中省略了導(dǎo)帶的上部
和價帶的下部.半導(dǎo)體結(jié)晶在相鄰原子間存在著共用價電子的共價鍵。如圖2.2所示,一旦
從外部獲得能量,共價鍵被破壞后,電子將從價帶躍造到導(dǎo)帶,同時在價帶中留出電子的一
電場E
個空位。這個空位可由價帶中鄰黃子移動所留下的新的空位又可
以由其它電子來填補。這樣,我們動,等效于帶正電荷的粒子朝
著與電子運動方向相反的方向移官,空穴和導(dǎo)帶中的自由電子一
樣成為導(dǎo)電的帶電粒子(即載流日書下,朝相反方向運動,但是
由于電荷符號也相反,因此,作為電流流動方向則相同,對電導(dǎo)率起迭加作用。
圖2.2半導(dǎo)體能帶結(jié)構(gòu)和載流子的移動
1.1.2.2本征半導(dǎo)體、摻雜半導(dǎo)體
圖2.2所示的能帶結(jié)構(gòu)中,當(dāng)禁帶寬度Eg比較小的情況下,隨著溫度上升,從價帶
躍遷到導(dǎo)帶的電子數(shù)增多,同時在價帶產(chǎn)生同樣數(shù)目的空穴。這個過程叫電子一空穴對的產(chǎn)
生,把在室溫條件下能進(jìn)行這樣成對的產(chǎn)生并具有一定電導(dǎo)率的半導(dǎo)體叫本征半導(dǎo)體,它只
能在極純的材料情況下得到的。而通常情況下,由于半導(dǎo)體內(nèi)含有雜質(zhì)或存在品格缺陷,作
為自由載流子的電子或空穴中任意一方增多,就成為摻雜半導(dǎo)體。存在多余電子的稱為n
型半導(dǎo)體,存在多余空穴的稱為P型半導(dǎo)體。
雜質(zhì)原子可通過兩種方式摻入晶體結(jié)構(gòu):它們可以擠在基質(zhì)晶體原子間的位置上,這
種情況稱它們?yōu)殚g隙雜質(zhì);另一種方式是,它們可以替換基質(zhì)晶體的原子,保持晶體結(jié)構(gòu)中
的有規(guī)律的原子排列,這種情況下,它們被稱為替位雜質(zhì)。
周期表中in族和V族原子在硅中充當(dāng)替位雜質(zhì),圖2.3示出一個V族雜質(zhì)(如磷)替
換了一個硅原子的部分晶格。四個價電子與周圍的硅原子組成共價鍵,但第五個卻處于不同
的情況,它不在共價鍵內(nèi),因此不在價帶內(nèi),它被束縛于V族原子,所
圖2.3一個V族原子替代了一個硅原子的部分硅晶格
以不能穿過晶格自由運動,因此它也不在導(dǎo)帶內(nèi)??梢灶A(yù)期,與束縛在共價鍵內(nèi)的自由電子
相比,釋放這個多余電子只須較小的能量,比硅的帶隙能量1.leV小得多。自由電子位于導(dǎo)
帶中,因此束縛于V族原子的多余電子位于低于導(dǎo)帶底的能量為E'的地方,如圖(格P28
_______________________H
(b|
圖2.13(a)所示那樣。這就在“禁止的”晶隙中安置了一個允許的能級,01族雜質(zhì)的分析
與此類似。例如,把V族元素(Sb,As,P)作為雜質(zhì)摻入單元素半導(dǎo)體硅單晶中時,這
圖2.4
(a)V族替位雜質(zhì)在禁帶中引入的允許能級(b)HI族雜質(zhì)的對應(yīng)能態(tài)
些雜質(zhì)替代硅原子的位置進(jìn)入晶格點。它的5個價電子除與相鄰的硅原子形成共價鍵外,還
多余1個價電子,與共價鍵相比,這個剩余價電子極松弛地結(jié)合于雜質(zhì)原子。因此,只要雜
質(zhì)原子得到很小的能量,就可以釋放出電子形成自由電子,而本身變成1價正離子,但因受
晶格點陣的束縛,它不能運動。這種情況下,形成電子過剩的n型半導(dǎo)體。這類可以向半導(dǎo)
體提供自由電子的雜質(zhì)稱為施主雜質(zhì)。其能帶結(jié)構(gòu)如圖2.5所示。在n型半導(dǎo)體中,除存在
從這些施主能級產(chǎn)生的電子外,還存在從價帶激發(fā)到導(dǎo)帶的電子。由于這個過程是電子-空
穴成對產(chǎn)生的,因此,也存在相同數(shù)目的空穴。我們把數(shù)量多的電子稱為多數(shù)載流子,將數(shù)
量少的空穴稱為少數(shù)載流子。
、空穴
圖2.5n型半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)圖2.6p型半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)
把HI族元素(B、Al、Ga、In)作為雜質(zhì)摻入時,由于形成完整的共價鍵上缺少一個
電子。所以,就從相鄰的硅原子中奪取一個價電子來形成完整的共價鍵.被奪走的電子留下
一個空位,成為空穴。結(jié)果,雜質(zhì)原子成為1價負(fù)離子的同時,提供了束縛不緊的空穴.這
種結(jié)合用很小的能量就可以破壞,而形成自由空穴,使半導(dǎo)體成為空穴過剩的P型半導(dǎo)體,
可以接受電子的雜質(zhì)原子稱為受主雜質(zhì)。其能帶結(jié)構(gòu)如圖2.6所示。這種情況下,多數(shù)載流
子為空穴,少數(shù)載流子為電子。
上述的例子都是由摻雜形成的n型或P型半導(dǎo)體,因此稱為摻雜半導(dǎo)體.但為數(shù)很多
的化合物半導(dǎo)體,根據(jù)構(gòu)成元素某種過剩或不足,有時導(dǎo)電類型發(fā)生變化。另外,也有由于
構(gòu)成元素蒸氣壓差過大等原因,造成即使摻入雜質(zhì)有時也得不到n、p兩種導(dǎo)電類型的情況。
1.1.2.3載流子濃度
半導(dǎo)體處于熱平衡狀態(tài)時,多數(shù)載流子和少數(shù)載流子的濃度各自達(dá)到平衡值。因某種
原因,少數(shù)載流子一旦超過平衡值,就將發(fā)生與多數(shù)載流子的復(fù)合,企圖恢復(fù)到原來的平衡
的狀態(tài)。設(shè)電子濃度為n,空穴濃度為p,則空穴濃度隨時間的變化率由電子-空穴對的產(chǎn)生
和復(fù)合之差給出下式:
dpjdt=g-rpn(2.1)
電子一一空穴對的產(chǎn)生幾率g是由價帶中成為激發(fā)對象的電子數(shù)和導(dǎo)帶中可允許占據(jù)的能
級數(shù)決定。然而,空穴少于導(dǎo)帶的允許能級時,不依賴于載流子數(shù)而成為定值。復(fù)合率正比
于載流子濃度n與p的乘積,比例系數(shù)r表示復(fù)合幾率。平衡狀態(tài)時dp/dt=O,由此可導(dǎo)出
=g/r=常數(shù)(2.2)
它意味著多數(shù)載流子濃度和少數(shù)載流子濃度的乘積為確定值。這個關(guān)系式也適用于本征半導(dǎo)
體,可得到
Pi%=〃;=g1r(2.3)
根據(jù)量子理論和量子統(tǒng)計理論可以得到
式中,k一一玻耳茲曼常數(shù);
h一—普朗克常數(shù);
---電子有效質(zhì)量;
——空穴有效質(zhì)量;
T一一絕對溫度;
W一一價帶頂能量;
Ee——導(dǎo)帶底能量;
Nv一一價帶頂?shù)挠行B(tài)密度
Nc一一導(dǎo)帶底的有效態(tài)密度
假如知道半導(dǎo)體的禁帶寬度Eg,就可以很容易地計算出本征載流子濃度.
費米能級在描述半導(dǎo)體的能級圖上是重要的參量。所謂費米能級,即為電子占據(jù)幾率
為1/2處的能級,可根據(jù)半導(dǎo)體電中性條件求出,即
自由空穴濃度+電離施主濃度=自由電子濃度+電離受主濃度(2.5)
費米能級在本征半導(dǎo)體中幾乎位于禁帶中央,而在n型半導(dǎo)體中靠近導(dǎo)帶。在P型半
導(dǎo)體中靠近價帶。同時費米能級將根據(jù)摻雜濃度的不同,發(fā)生如圖2.6所示的變化。例如,
n型半導(dǎo)體中設(shè)施主濃度為刈,可給出:
與帶
N
Ec-EF=^kTIn—(2.6)
N4
圖2.6費米能級與雜質(zhì)濃度的關(guān)系
P型半導(dǎo)體中設(shè)受主濃度為N.,則可給出:
N
EF-EVaATIni(2.7)
如果知道了雜質(zhì)濃度就可以通過計算求得費米能級。
1.1.2.4載流子的傳輸
一、漂移
在外加電場C的影響下,一個隨機(jī)運動的自由電子在與電場相反的方向上有一個加速
度a=1/m,在此方向上,它的速度隨時間不斷地增加。晶體內(nèi)的電子處于一種不同的情況,
它運動時的質(zhì)量不同于自由電子的質(zhì)量,它不會長久持續(xù)地加速,最終將與晶格原子、雜質(zhì)
原子或晶體結(jié)構(gòu)內(nèi)的缺陷相碰撞。這種碰撞將造成電子運動的雜亂無章,換句話說,它將降
低電子從外加電場得到附加速度,兩次碰撞之間的“平均”時間稱為弛豫時間3,由電子無
規(guī)則熱運動的速度來決定。此速度通常要比電場給與的速度大得多,在兩次碰撞之間由電場
所引起的電子平均速度的增量稱為漂移速度。導(dǎo)帶內(nèi)電子的漂移速度由下式得出:
11qt
而r(2.8)
(如果t,是對所有的電子速度取平均,則去掉系數(shù)2)。電子載流子的遷移率定義為:
(2.9)
&叫
來自導(dǎo)帶電子的相應(yīng)的電流密度將是
Je=qnvd=q4喈(2.10)
對于價帶內(nèi)的空穴,其類似公式為
L、=qNhP&(2.11)
總電流就是這兩部分的和。因此半導(dǎo)體的電導(dǎo)率。為
O-=—=4=qjjen+q^hp(2.12)
PJ
其中p是電阻率.
對于結(jié)晶質(zhì)量很好的比較純的半導(dǎo)體來說,使載流子速度變得紊亂的碰撞是由晶體的
原子引起的。然而,電離了的摻雜劑是有效的散射體,因為它們帶有凈電荷。因此,隨著半
導(dǎo)體摻雜的加重,兩次碰撞間的平均時間以及遷移率都將降低。
當(dāng)溫度升高時,基體原子的振動更劇烈,它們變?yōu)楦蟮摹鞍小?,從而降低了兩次?/p>
撞間的平均時間及遷移率。重?fù)诫s時,這個影響就得不太顯著,因為此時電離了的摻雜劑是
有效的截流子的散射體。
電場強(qiáng)度的提高,最終將使載流子的漂移速度增加到可與無規(guī)則熱速度相比。因此,
電子的總速度歸根結(jié)底將隨著電場強(qiáng)度的增加而增力口.電場的增加使碰撞之間的時間及遷移
率減小了。
二、擴(kuò)散
除了漂移運動以外,半導(dǎo)體中的載流子也可以由于擴(kuò)散而流動。象氣體分子那樣的任
何粒子過分集中時,若不受到限制,它們就會自己散開.此現(xiàn)象的基本原因是這些粒子的無
規(guī)則的熱速度。
粒子流與濃度梯度的負(fù)值成正比.因為電流與荷電粒子流成正比,所以對應(yīng)于電子的
一維濃度梯度的電流密度是
(=血工(2.13)
ax
其中De是擴(kuò)散常數(shù)。同樣對于空穴,有
J?=-qD(2.14)
hax
從根本上講,漂移和擴(kuò)散兩個過程是有關(guān)系的,因而,遷移率和擴(kuò)散常數(shù)不是獨立的,它們
通過愛因斯坦關(guān)系相互聯(lián)系,即
和(
DC=—K.Dh=—2.15)
kT/q是在與太陽電池有關(guān)的關(guān)系式中經(jīng)常出現(xiàn)的參數(shù),它具有電壓的量綱,室溫時為26mv。
1.1.2.5半導(dǎo)體的吸收系數(shù)
半導(dǎo)體晶體的吸光程度由光的頻率v和材料的禁帶寬度所決定。當(dāng)頻率低、光子能量
hv比半導(dǎo)體的禁帶寬度&小時,大部分光都能穿透;隨著頻率變高,吸收光的能力急劇增
強(qiáng)。吸收某個波長九的光的能力用吸收系數(shù)a(hv)來定義。半導(dǎo)體的光吸收由各種因素決
定,這里僅考慮到在太陽電池上用到的電子能帶間的躍遷.一般禁帶寬度越寬,對某個波長
的吸收系數(shù)就越小。除此以外,光的吸收還依賴于導(dǎo)帶、價帶的態(tài)密度.
光為價帶電子提供能量,使它躍遷到導(dǎo)帶,在躍遷過程中,能量和動量守恒,對沒有
聲子參與的情況,即不伴隨有動量變化的躍遷稱為直接躍遷,其吸收過程的形式示于圖2.7,
而伴隨聲子的躍遷稱為間接躍遷,其吸收躍遷過程示于圖2.8。
圖2.7直接帶隙半導(dǎo)體的能量-晶體動量圖
硅屬于間接躍遷類型,其吸收系數(shù)上升非常平緩,所以在太陽光照射下,光可到達(dá)距
表面20國1以上相當(dāng)深的地方,在此還能產(chǎn)生電子一空穴對。與此相反,對直接躍遷型材料
GaAs,在其禁帶寬度附近吸收系數(shù)急劇增加,對能量大于禁帶寬度的光子的吸收緩慢增加,
此時,光吸收和電子一空穴對的產(chǎn)生,大部分是在距表面2Hm左右的極薄區(qū)域中發(fā)生。簡
言之,制造太陽電池時,用直接躍遷型材料,即使厚度很薄,也能充分的吸收太陽光,而用
間接躍遷型材料,沒有一定的厚度,就不能保證光的充分吸收。但是作為太陽電池必要的厚
度,并不是僅僅由吸收系數(shù)來決定的,與少數(shù)載流子的壽命也有關(guān)系,當(dāng)半導(dǎo)體摻雜時,吸
收系數(shù)將向高能量一側(cè)發(fā)生偏移。
由于一部分光在半導(dǎo)體表面被反射掉,因此,進(jìn)入內(nèi)部的光實際上等于扣除反射后所
剩部分。為了充分利用太陽光,應(yīng)在半導(dǎo)體表面制備絨面和減反射層,以減少光在其表面的
反射損失。
1.1.2.6載流子的復(fù)合
-馳豫到平衡
適當(dāng)波長的光照射在半導(dǎo)體上會產(chǎn)生電子一空穴對。因此,光照射時材料的載流子濃
度將超過無光照時的值。如果切斷光源,則載流子濃度就衰減到它們平衡時的值。這個衰減
過程通稱為復(fù)合過程。下面將介紹幾種不同的復(fù)合機(jī)構(gòu).
二輻射復(fù)合
輻射復(fù)合就是光吸收過程的逆過程。占據(jù)比熱平衡時更高能態(tài)的電子有可能躍遷到空
的低能態(tài),其全部(或大部分)初末態(tài)間的能量差以光的方式發(fā)射。所有已考慮到的吸收機(jī)
構(gòu)都有相反的輻射復(fù)合過程。由于間接帶隙半導(dǎo)體需要包括聲子的兩級過程,所以輻射復(fù)合
在直接帶隙半導(dǎo)體中比間接帶隙半導(dǎo)體中進(jìn)行得快。
總的輻射復(fù)合速率RR與導(dǎo)帶中占有態(tài)(電子)的濃度和價帶中未占有態(tài)(空穴)的濃
度的乘積成正比,即
RR=Bnp(2.16)
式中,B對給定的半導(dǎo)體來說是一個常數(shù)。由于光吸收和這種復(fù)合過程之間的關(guān)系,由半導(dǎo)
體的吸收系數(shù)能夠計算出B.
熱平衡時,即np=n「時,復(fù)合率由數(shù)目相等但過程相反的產(chǎn)生率所平衡。在不存在由
外部激勵源產(chǎn)生載流子對的情況下,與上式相對應(yīng)的凈復(fù)合率%由總的復(fù)合率減去熱平衡
時的產(chǎn)生率得到,即
UR=B(np-n:)(2.17)
對任何復(fù)合機(jī)構(gòu),都可定義有關(guān)載流子壽命(對電子)和(對空穴)它們分別為
A/?
U(2.18)
r=包,
"U
式中,U為凈復(fù)合率,An和Ap是相應(yīng)載流子從它們熱平衡時的值n°和的擾動。
對An=Ap的輻射復(fù)合機(jī)構(gòu)而言,由式(2.17)確定的特征壽命是
T=;。0。~r(2.19)
Bnt[n0+p0)
,5
硅的B值約為2xl0-cm7so
正如前面所說的直接帶隙材料的復(fù)合壽命比間接帶隙材料的小得多。利用GaAs及其
合金為材料的商用半導(dǎo)體激光器和光發(fā)射二極管就是以輻射復(fù)合過程作為基礎(chǔ)的。但對硅來
說,其它的復(fù)合機(jī)構(gòu)遠(yuǎn)比這重要得多。
三、俄歌復(fù)合
在俄歇(Auger)效應(yīng)中,電子與空穴復(fù)合時,將多余的能量傳給第二個電子而不是
發(fā)射光。圖2.9示出了這個過程。然后,第二個電子通過發(fā)射聲子弛豫回到它初始所在的能
級。俄歇復(fù)合就是更熟悉的碰撞電離效應(yīng)的逆過程。對具有充足的電子和空穴的材料來說,
與俄歇過程有關(guān)的特征壽命t分別是
1,1,
—=Cnp+Dn'或一=Cnp+Dp-(2.20)
rr
在每種情況下,右邊的第一項描述少數(shù)載流子能帶的電子激發(fā),第二項描述多數(shù)載流子能帶
的電子激發(fā).由于第二項的影響,高摻雜材料中俄歇復(fù)合尤其顯著。對于高質(zhì)量硅,摻雜濃
度大于10%n?時,俄歇復(fù)合處于支配地位。
圖2.9俄歇復(fù)合過程
(a)多余的能量傳給導(dǎo)帶中的電子
(b)多余的能量傳給價帶中的電子
四、通過陷阱的復(fù)合
前面已指出,半導(dǎo)體中的雜質(zhì)和缺陷會在禁帶中產(chǎn)生允許能級。這些缺陷能級引起一
種很有效的兩級復(fù)合過程。如圖2.10(a)所示,在此過程中,電子從導(dǎo)帶能級弛豫到缺陷
能級,然后再弛豫到價帶,結(jié)果與一個空穴復(fù)合。
圖2.10
(a)通過半導(dǎo)體禁帶中的陷阱能級的兩級復(fù)合過程
(b)在半導(dǎo)體表面位于禁帶中的表面態(tài)
對此過程進(jìn)行動力學(xué)分析可得,通過陷阱的凈復(fù)合一產(chǎn)生率Ur可寫為
2
nn
Ur=-——P~i-------(2.21)
式中,。和E是壽命參數(shù),它們的大小取決于陷阱的類型和陷阱缺陷的體密度,m和必是
分析過程中產(chǎn)生的參數(shù),此分析過程還引入一個復(fù)合速率與陷阱能E,的關(guān)系式:
%=Ncexp[⑵22)
〃iPi=〃:(2.23)
式(2.22)在形式上與用費米能級表示電子濃度的公式很相似.如果?和型數(shù)量級相同,可
知當(dāng)nep,時,U有其峰值。當(dāng)缺陷能級位于禁帶間中央附近時,就出現(xiàn)這種情況。因此,
在帶隙中央引入能級的雜質(zhì)是有效的復(fù)合中心。
五、表面復(fù)合
表面可以說是晶體結(jié)構(gòu)中有相當(dāng)嚴(yán)重缺陷的地方。如圖2.10(b)所示,在表面處存
在許多能量位于禁帶中的允許能態(tài)。因此由上面所敘述的機(jī)構(gòu),在表面處,復(fù)合很容易發(fā)生。
單能級表面態(tài)每單位面積的凈復(fù)合率L具有與2.21類似的形式,即
S?S(np-nf)
11h
U.=—7個~>~?(2.24)
Se.(〃+〃J+S,s(p+pJ
式中S”和家是表面復(fù)合速度。位于帶隙中央附近的表面態(tài)能級也是最有效的復(fù)合中心。
1.1.2.7半導(dǎo)體器件物理學(xué)基本方程
前面幾節(jié)中已經(jīng)概述了半導(dǎo)體的有關(guān)特性,這些內(nèi)容現(xiàn)在將被歸納為一組能描述半導(dǎo)
體器件工作的基本方程。這些方程的解使我們能夠確定包括太陽電池在內(nèi)的大部分半導(dǎo)體器
件的理想特性。忽略其余兩維空間的變化,方程組將寫成一維的形式。
1、泊松方程
它描述了電場散度與空間電荷密度P之間的關(guān)系,在一維情況下,其形式為:
d&_P_(2.25)
dx£
式中£是介電常數(shù)。P為電荷密度。在半導(dǎo)體中,p值為
2=-(2.26)
式中,P和n是空穴和電子的濃度,N;和NJ分別是已電離的施主和受主的濃度。在正常情況
下,大部分施主和受主都被電離,因此
N*ND
DD(2.27)
式中Nn和NA為施主和受主雜質(zhì)的總濃度。
2、電流密度方程
電子和空穴通過漂移和擴(kuò)散過程可對電流作出貢獻(xiàn).因此,電子和空穴的總電流密度
Je和Jh的表達(dá)式為
而
晟
⑵28
切
A,=q%p&一cd瓦
遷移率和擴(kuò)散系數(shù)的關(guān)系由愛因斯坦關(guān)系式[D『(kT/q)內(nèi)和D產(chǎn)(kT/q)內(nèi)]確定。
3、連續(xù)方程
圖2.11推導(dǎo)電子連續(xù)方程用的單元體積
參看圖2.11中長為Bx、橫截面積為A的單元體積,可以說這個體積中電子的凈增加
幾率等于它們進(jìn)入的速率減去它們出去的速率,加上該體積中它們的產(chǎn)生率,減去它們的復(fù)
合率,寫成方程為:
進(jìn)入速率-出去速率=4{—4⑴—4/,(%+&)]}=4也原(2.29)
qqdx
產(chǎn)生率-復(fù)合率=AQ(G—U)(2.30)
式中G是由于外部作用(如光照)所一引起的凈產(chǎn)生率,U是凈復(fù)合率。在穩(wěn)態(tài)情況下,凈
增加率必須為0,這樣就有
L/=U-G(2.31)
qdx
同樣,對于空穴有
q,以dx=-(U-G)(2.32)
4,方程組
由上述方程,我們可得到應(yīng)用于半導(dǎo)體器件的基本方程組:
竿ax=幺£("_〃+七-NJ
.嚴(yán)一dlt
Je=取點+qDe—dx
Jh=q"hP4-qDh牛dx(2.33)
Lq嘰dx=u-G
,也=-(u-G)
qdx
利用計算機(jī),通過引入一些考慮周詳?shù)慕铺幚恚赡軜O簡單地就可求得這些方程的解。
1.1.3半導(dǎo)體pn結(jié)
1.1.3.1能帶圖
在一塊半導(dǎo)體晶體內(nèi),P型和n型緊接在一起時,將它們交界處稱為pn結(jié)。當(dāng)p型,
n型單獨存在時,費米能級如圖2.12(a)所示,分別位于介帶和導(dǎo)帶附近.
一旦形成pn結(jié),由于結(jié)兩邊的電子和空穴的濃度不同,電子就強(qiáng)烈地要從n區(qū)向p
2型3型
導(dǎo)招
德主能級
,費米能級/
-受主隨級
修會?價?海財
(a)
空間電荷區(qū)
1W-Y
.導(dǎo)帶?
T-rm;.
史且上.十誤^£7-施主能級
,、價帶與N、;0米的級
1
電位/
(3
區(qū)擴(kuò)散,空穴則要向相反方向擴(kuò)散,其結(jié)果在n型一邊出現(xiàn)正電荷,在p型一邊出現(xiàn)負(fù)電荷,
這兩種電荷層在半導(dǎo)體內(nèi)部建立了一個內(nèi)建電場,這個電場反過來又在結(jié)處產(chǎn)生一個內(nèi)部電
位降,阻擋了電子和空穴的進(jìn)一步擴(kuò)散,包含這兩種電荷層的空間稱為耗盡區(qū)或空間電荷區(qū)。
通過這個空間電荷區(qū)的作用,使費米能級成同一水平,達(dá)到平衡狀態(tài).圖2.12(b)表示pn
結(jié)的能帶圖及從P區(qū)向n區(qū)變化的空間電荷區(qū)。內(nèi)建電場從n區(qū)指向p區(qū),形成勢壘。
在平衡狀態(tài)下,由于擴(kuò)散,從P區(qū)越過勢壘向n區(qū)移動的空穴數(shù)目等同于空間電荷區(qū)
附近n區(qū)中由于熱運動產(chǎn)生的少數(shù)載流子空穴在空間電荷區(qū)內(nèi)建電場的作用下漂移到p區(qū)的
數(shù)目,因此沒有電流流過。對于電子也可做同樣的論述。
1.1.3.2電流電壓特性
在pn結(jié)上加偏置電壓時,由于空間電荷區(qū)內(nèi)沒有載流子(又稱為耗盡區(qū))形成高阻
區(qū),因此,電壓幾乎全部跨落在空間電荷區(qū)上。當(dāng)外加電壓使得p區(qū)為正時,勢壘高度減小,
空穴從P區(qū)向n區(qū)的移動以及電子從n區(qū)向p區(qū)的移動變得容易,在兩個區(qū)內(nèi)有少數(shù)載流子
注入,因此電流容易流動(稱為正向)。當(dāng)外加電壓使得n區(qū)為正時,勢壘高度增加,載流
子的移動就變得困難,幾乎沒有電流流過(此時稱為反向)?當(dāng)存在外加電壓時,空間電荷
區(qū)的n區(qū)邊界和p區(qū)邊界的空穴濃度p“及電子濃度n,如下:
P"=P'Mexpg%)
:,(2.34)
?〃屋xp1%)
當(dāng)加正向電壓時v>o,加反向電壓時v<o。
由于我們認(rèn)為外加電壓僅跨越在空間電荷區(qū),所以可視為n區(qū)內(nèi)沒有電場,由空穴構(gòu)
成的電流只是由于它的濃度梯度形成的擴(kuò)散電流。電流密度J0為
Jp=q+(P“—P”)=qP“a+exp(普)一1(2.35)
同樣,注入到p區(qū)的少數(shù)載流子電子的電流密度J0為
因加編壓V而產(chǎn)生的總電流是空穴電流與電子電流之和,故總電流密度J為:
J=Jp+Jn=J()exp甥-1(2.37)
DD
=n(2.38)
JUoq11Pn0n-J----qn1PO—T—
總電流密度J具有如圖2.13所示的整流特性。正向時,在電壓較大的區(qū)域,電流密度與
exp(qV/kT)成正比;反向時則趨近于-J。。稱J。為飽和電流密度。
圖2.13pn結(jié)的電流-電壓特性
1.2太陽電池工作原理
1.2.1半導(dǎo)體的內(nèi)光電效應(yīng)
當(dāng)光照射到半導(dǎo)體上時,光子將能量提供給電子,電子將躍遷到更高的能態(tài),在這些
電子中,作為實際使用的光電器件里可利用的電子有:
(1)價帶電子;
(2)自由電子或空穴(FreeCarrier);
(3)存在于雜質(zhì)能級上的電子。
太陽電池可利用的電子主要是價帶電子。由價帶電子得到光的能量躍遷到導(dǎo)帶的過程
決定的光的吸收稱為本征或固有吸收。
太陽電池能量轉(zhuǎn)換的基礎(chǔ)是結(jié)的光生伏特效應(yīng).當(dāng)光照射到pn結(jié)上時,產(chǎn)生電子一
空穴對,在半導(dǎo)體內(nèi)部結(jié)附近生成的載流子沒有被復(fù)合而到達(dá)空間電荷區(qū),受內(nèi)建電場的吸
引,電子流入n區(qū),空穴流入p區(qū),結(jié)果使n區(qū)儲存了過剩的電子,p區(qū)有過剩的空穴。它
們在pn結(jié)附近形成與勢壘方向相反的光生電場。光生電場除了部分抵消勢壘電場的作用外,
還使P區(qū)帶正電,N區(qū)帶負(fù)電,在N區(qū)和P區(qū)之間的薄層就產(chǎn)生電動勢,這就是光生伏特效
應(yīng)。此時,如果將外電路短路,則外電路中就有與入射光能量成正比的光電流流過,這個電
流稱作短路電流,另一方面,若將PN結(jié)兩端開路,則由于電子和空穴分別流入N區(qū)和P區(qū),
使N區(qū)的費米能級比P區(qū)的費米能級高,在這兩個費米能級之間就產(chǎn)生了電位差V8??梢?/p>
測得這個值,并稱為開路電壓。由于此時結(jié)處于正向偏置,因此,上述短路光電流和二極管
的正向電流相等,并由此可以決定V”.的值。
1.2.2太陽電池的能量轉(zhuǎn)換過程
太陽電池是將太陽能直接轉(zhuǎn)換成電能的器件。它的基本構(gòu)造是由半導(dǎo)體的PN結(jié)組成。
此外,異質(zhì)結(jié)、肖特基勢壘等也可以得到較好的光電轉(zhuǎn)換效率。本節(jié)以最普通的硅PN結(jié)太
陽電池為例,詳細(xì)地觀察光能轉(zhuǎn)換成電能的情況。
首先研究使太陽電池工作時,在外部觀測到的特性。圖2.14表示了無光照時典型的
電流電壓特性(暗電流)。當(dāng)太陽光照射到這個太陽電池上時,將有和暗電流方向相反的光
圖2.14無光照及光照時電流-電壓特性
當(dāng)給太陽電池連結(jié)負(fù)載R,并用太陽光照射時,則負(fù)載上的電流L和電壓/將由圖中
有光照時的電流一電壓特性曲線與V=-1R表示的直線的交點來確定。此時負(fù)載上有Pw=RI:
的功率消耗,它清楚地表明正在進(jìn)行著光電能量的轉(zhuǎn)換。通過調(diào)整負(fù)載的大小,可以在一個
最佳的工作點上得到最大輸出功率。輸出功率(電能)與輸入功率(光能)之比稱為太陽電
池的能量轉(zhuǎn)換效率.
下面我們把目光轉(zhuǎn)到太陽電池的內(nèi)部,詳細(xì)研究能量轉(zhuǎn)換過程.太陽電池由硅pn結(jié)
構(gòu)成,在表面及背面形成無整流特性的歐姆接觸.并假設(shè)除負(fù)載電阻R外,電路中無其它電
阻成分。當(dāng)具有hv(eV)(hv>E8,瓊為硅的禁帶寬度)能量的光子照射在太陽電池上時,
產(chǎn)生電子一空穴對。由于光子的能量比硅的禁帶寬度大,因此電子被激發(fā)到比導(dǎo)帶底還高的
能級處。對于P型硅來說,少數(shù)載流子濃度n,極?。ㄒ话阈∮趌O'/cm),導(dǎo)帶的能級幾乎都
是空的,因此電子又馬上落在導(dǎo)帶底。這時電子及空穴將總的hv-Eg(ev)的多余能量
以聲子(晶格振動)的形式傳給晶格。落到導(dǎo)帶底的電子有的向表面或結(jié)擴(kuò)散,有的在半導(dǎo)
體內(nèi)部或表面復(fù)合而消失了。但有一部分到達(dá)結(jié)的載流子,受結(jié)處的內(nèi)建電場加速而流入n
型硅中。在n型硅中,由于電子是多數(shù)載流子,流入的電子按介電馳豫時間的順序傳播,同
時為滿足n型硅內(nèi)的載流子電中性條件,與流入的電子相同數(shù)目的電子從連接n型硅的電極
流出。這時,電子失去相當(dāng)于空間電荷區(qū)的電位高度及導(dǎo)帶底和費米能級之間電位差的能量。
設(shè)負(fù)載電阻上每秒每立方厘米流入N個電子,則加在負(fù)載電阻上的電壓V=QNr=IR表示。由
于電路中無電源,電壓V=IR實際加在太陽電池的結(jié)上,即結(jié)處于正向偏置.一旦結(jié)處于正
向偏置時,二極管電流I產(chǎn)I°[exp(qV/nkT)-l]朝著與光激發(fā)產(chǎn)生的載流子形成的光電流Iph
相反的方向流動,因而流入負(fù)載電阻的電流值為
/==g-/。晶(d/〃⑺-1](2.39)
在負(fù)載電阻上,一個電子失去一個qV的能量,即等于光子能量hv轉(zhuǎn)換成電能qV。流過負(fù)
載電阻的電子到達(dá)P型硅表面電極處,在P型硅中成為過剩截流子,于是和被掃出來的空穴
復(fù)合,形成光電流
1.3太陽電池的基本特性
1.3.1短路電流
太陽電池的短路電流等于其光生電流。分析短路電流的最方便的方法是將太陽光譜劃
分成許多段,每一段只有很窄的波長范圍,并找出每一段光譜所對應(yīng)的電流,電池的總短路
電流是全部光譜段貢獻(xiàn)的總和:
isc=RK/Qd/la二3“"(/1)4/1=—%㈤77(2)14(2.40)
式中
入0---本征吸收波長限
R(入)---表面反射率
F(入)一一太陽光譜中波長為大?九+d九間隔內(nèi)的光子數(shù)。
F(X)的值很大的程度上依賴于太陽天頂角。作為表示F(九)分布的參數(shù)是AM(AirMass)。
AM表示入射到地球大氣的太陽直射光所通過的路程長度,定義為
h
AM=—secZ(2.41)
b°
式中:
bo---標(biāo)準(zhǔn)大氣壓
b一-測定時的大氣壓
Z一一太陽天頂距離
一般情況下,b“b?,例如,AMI相當(dāng)于太陽在天頂位置時的情況,AM2相當(dāng)于太陽高度角
為30。時的情況,AMO則表示在宇宙空間中的分布
在實際的半導(dǎo)體表面的反射率與入射光的波長有關(guān),一般為30-50%.為防止表面的
反射,在半導(dǎo)體表面制備折射率介于半導(dǎo)體和空氣折射率之間的透明薄膜層。這個薄膜層稱
為減反射膜(Antireflectivecoating)o
設(shè)半導(dǎo)體、減反射膜、空氣的折射率分別為m、m、no,減反射膜厚度為d?則反射
率R為
R_廠;+1+2八弓cos26
1++2化cos2。
式中:
ri=(no-nJ/(n0+n,)
r;=(ni-n2)/(m+n2)
0=2nnidi/入
X-波長
通過減反膜的厚度計算,反射率
顯然,減反射膜的厚度小為1/4波長時,R為最小。即
,12°
4=----時
4%
2[”叫…)
一般在太陽光譜的峰值波長處,使得R變?yōu)樽钚?,以此來決定&的值。
以硅電池為例,因為在可見光至紅外光范圍內(nèi),硅的折射率為n2=3.4-4.0,使式(2.43)
為零,則n,的值("I”。叼,n"=1)為1.84n,<2.0.設(shè)九=4800埃,則600埃4dK667
埃,滿足這些條件的材料一般可采用一氧化硅,在中心波長處,反射率達(dá)到1%左右。由于
制備了減反射膜,短路電流可以增加30-40%.此外,采用的減反射膜SiO2(n,?1.5),
A1A(n,?1.9).SM03(ni?l.9),TQ、Ta20s(n,?2.25)?將具有不同折射率的氧化膜重疊二層,
在滿足一定的條件下,就可以在更寬的的波長范圍內(nèi)減少折射率。此外也可以將表面加工成
棱錐體狀的方法,來防止表面反射。
1.3.2開路電壓
當(dāng)太陽電池處于開路狀態(tài)時,對應(yīng)光電流的大小產(chǎn)生電動勢,這就是開路電壓.在式
(2.39)中,設(shè)1=0(開路),中卜=Ig,則
4=四1曲/3/。)+1](2.44)
q
在可以忽略串聯(lián)、并聯(lián)電阻的影響時,h為與入射光強(qiáng)度成正比的值,在很弱的陽光下,
Isc?Io,因此
%,=迎?=/潭。(2.45)
q1°
在很強(qiáng)的陽光下,Isc>>Io,
v“.=皿In組(2.46)
qI。
由此可見,在較弱陽光時,硅太陽電池的開路電壓隨光的強(qiáng)度作近似直線的變化.而當(dāng)有較
1
CaAs-,一
>.90
強(qiáng)的陽光時,V℃則與入ILAM0)表示具有代表性的硅和GaAs太
)
*.AM2AMI
陽電池的Isc與V8之間白4內(nèi)禁帶寬度寬,故I。值比Si的小
均8
W
宏
幾個數(shù)量級,GaAs的Vo.大.7;形成的很好,禁帶寬度愈寬的半
導(dǎo)體,Voc也愈大。
AMO
x
-Si_-__-__r__i______:
AM2AM!
°計
°010203u4050
短路光電流(mACUT')
圖2.15開路電壓與短路電流的關(guān)系
1.3.3太陽電池的輸出特性
1.3.3.1等效電路
為了描述電池的工作狀態(tài),往往將電池及負(fù)載系統(tǒng)用一等效電路來模擬。在恒定光照
下,一個處于工作狀態(tài)的太陽電池,其光電流不隨工作狀態(tài)而變化,在等效電路中可把它看
作是恒流源。光電流一部分流經(jīng)負(fù)載Ri,在負(fù)載兩端建立起端電壓V,反過來它又正向偏置
于p—n結(jié)二極管,引起一股與光電流方向相反的暗電流1“,這樣,一個理想的PN同質(zhì)結(jié)
太陽電池的等效電路就被繪制成如圖2.16(a)所示。但是,由于前面和背面的電極和接觸,
以及材料本身具有一定的電阻率,基區(qū)和頂層都不可避免的要引入附加電阻.流經(jīng)負(fù)載的電
流,經(jīng)過它們時,必然引起損耗。在等效電路中,可將它們的總效果用一個串聯(lián)電阻Rs來
表示。由于電池邊沿的漏電和制作金屬化電極時,在電池的微裂紋、劃痕等處形成的金屬橋
漏電等,使一部分本應(yīng)通過負(fù)載的電流短路,這種作用的大小可用一并聯(lián)電阻IU來等效。
其等效電路就繪制成上圖2.16(b)的形式。其中暗電流等于總面積AT與人乘積,而光電
流h為電池的有效受光面積肌與L的乘積,這時的結(jié)電壓不等于負(fù)載的端電壓,由圖可見
V,=IRS+V(2.47)
v。桐
(a)不考慮串并聯(lián)電阻(b)考慮串并聯(lián)電阻
1.3.3.2輸出特性
根據(jù)上圖就可以寫出輸出電流I和輸出電壓V之間的關(guān)系
Rsh
(2.48)
Rs+Rsh
其中暗電流L應(yīng)為結(jié)電壓Vj的函數(shù),而明又是通過式(2.47)與輸出電壓V相聯(lián)系的。
當(dāng)負(fù)載Ri從0變化到無窮大時,輸出電壓V則從。變到V”,同時輸出電流便從小變
到0,由此得到電池的輸出特性曲線,如圖2.17所示。曲線上任何一點都可以作為工作點,
工作點所對應(yīng)的縱橫坐標(biāo),即為工作電流和工作電壓,其乘積
P=IV
為電池的輸出功率
圖2.17太陽電池的輸出特性
1.3.4轉(zhuǎn)換效率
轉(zhuǎn)換效率表示在外電路連接最佳負(fù)載電阻R時,得到的最大能量轉(zhuǎn)換效率,其定義為
Ad
7
E"P.,,
即電池的最大功率輸出與入射功率之比,
這里我們定義一個填充因子FF為
IVp
FF="P=——(2.49)
填充因子正好是I-V曲線下最大長方形面積與乘積Lx%之比,所以轉(zhuǎn)換效率可表示為
FFVI
n=------(2.50)
Pin
1.3.5太陽電池的光譜響應(yīng)
太陽電池的光譜響應(yīng)是指光電流與入射光波長的關(guān)系,設(shè)單位時間波長為人的光人身
到單位面積的光子數(shù)為①,(九),表面反射系數(shù)為p(X),產(chǎn)生的光電流為L,則光譜響應(yīng)
SR(X)定義為
SRW=--綽々--.(2.51)
(㈤卜夕⑷]
其中J1.=J1.1頂層+JJ勢壘+JJ基區(qū)。
理想吸收材料的光譜響應(yīng)應(yīng)該是:當(dāng)光子能量hv<及時,SR=O;hv>E.時,SR=1。
1.3.6太陽電池的溫度效應(yīng)
載流子的擴(kuò)散系數(shù)隨溫度的增高而增大,所以少數(shù)載流子的擴(kuò)散長度也隨溫度的升高
稍有增大,因此,光生電流L也隨溫度的升高有所增加。但是L隨溫度的升高是指數(shù)增大,
因而V℃隨溫度的升高急劇下降。當(dāng)溫度升高時,I—V曲線形狀改變,填充因子下降,所以
轉(zhuǎn)換效率隨溫度的增加而降低。
I3.7太陽電池的輻照效應(yīng)
作為人造衛(wèi)星和宇宙飛船的電源,太陽電池已獲得了廣泛的應(yīng)用。但是在外層空間存
在著高能粒子,如電子、質(zhì)子、丫粒子等。高能粒子輻照時通過與晶格原子的碰撞,將能量
傳給晶格,當(dāng)傳遞的能量大于某一閾值時,便使晶格原子發(fā)生位移,產(chǎn)生晶格缺陷,如填隙
原子、空位、缺陷簇、空位一雜質(zhì)復(fù)合體等。這些缺陷將起復(fù)合中心的作用,從而降低少子
壽命。大量研究工作表明,壽命參數(shù)對輻照缺陷最為靈敏,也正因為輻照影響了壽命值,從
而使太陽電池性能下降.
1.4影響太陽電池轉(zhuǎn)換效率的因素
一、禁帶亮度
Voc隨品的增大而增大,但另一方面,Jsc隨員的增大而減小。結(jié)果是可期望在某一個
確定的隨處出現(xiàn)太陽電池效率的峰值。
二、溫度
隨溫度的增加,效率n下降。Ise對溫度T很敏感,溫度還對起主要作用.
對于Si,溫度每增加1久,VM下降室溫值的0.4%,n也因而降低約同樣的百分?jǐn)?shù)。例
如,一個硅電池在20。(:時的效率為20%,當(dāng)溫度升到120久時,效率僅為12%。又如CaAs
電池,溫度每升高1℃,V℃降
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