武漢理工大學材料科學基礎-第二章-部分習題_第1頁
武漢理工大學材料科學基礎-第二章-部分習題_第2頁
武漢理工大學材料科學基礎-第二章-部分習題_第3頁
武漢理工大學材料科學基礎-第二章-部分習題_第4頁
武漢理工大學材料科學基礎-第二章-部分習題_第5頁
已閱讀5頁,還剩16頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

第二章晶體結構與晶體中的缺陷習題課2、書寫缺陷反應式應遵循的原則3、缺陷濃度計算4、固溶體的分類及形成條件5、研究固溶體的方法第一章習題課1、缺陷的分類6、非化學計量化合物點缺陷熱缺陷

雜質缺陷非化學計量結構缺陷(電荷缺陷)Frankel缺陷Schttyq缺陷非化學計量化合物類型:陽離子填隙型陰離子間隙型陽離子空位型陰離子缺位型2-1名詞解釋:類質同晶:化學組成相似或相近的物質,在相同的熱力學條件下,形成的晶體具有相同的結構,這種現(xiàn)象稱為類質同晶現(xiàn)象。同質多晶:化學組成相同的物質,在不同的熱力學條件下,結晶成結構不同的晶體的現(xiàn)象。正型尖晶石:MgAl2O4(尖晶石)型結構O2-按立方緊密堆積排列,二價離子A充填1/8四面體空隙,三價離子B充填1/2八面體空隙——正型尖晶石結構反型尖晶石結構:二價陽離子充填八面體空隙,三價陽離子一半充填四面體空隙,另一半充填八面體空隙中。弗侖克爾Frankel缺陷:正常結點上的原子(離子)跳入間隙,形成間隙原子。肖特基Schttky缺陷:正常結點上的原子離開平衡位置遷移到晶體表面,在原來位置形成空位。刃位錯:位錯線與滑移矢量垂直的位錯。螺旋位錯:位錯線與滑移方向相互平行,位錯線周圍的一組原子面形成了一個連續(xù)的螺旋形坡面,故稱為螺位錯。2-2ThO2具有螢石結構:Th4+離子半徑為0.100nm,O2-離子半徑為0.140nm,試問a)實際結構中的Th4+正離子配位數(shù)與預計配位數(shù)是否一致?b)結構是否滿足鮑林規(guī)則。

b)不滿足多面體規(guī)則,可滿足電價規(guī)則。

(1)第一規(guī)則(多面體規(guī)則):圍繞每一陽離子,形成一個陰離子配位多面體,陰、陽離子的間距決定于它們的半徑之和,陽離子的配位數(shù)則取決于它們的半徑之比。

(2)第二規(guī)則(靜電價規(guī)則):在一個穩(wěn)定的晶體結構中,從所有相鄰的陽離子到達一個陰離子的靜電鍵的總強度,等于陰離子的電荷數(shù)。由螢石型結構知:Th4+離子的CN=8,O2-離子的CN=4S=Z+/n=4/8=1/2Z-=∑Si=1/2×4=2即等于O2-離子的電價Z-=2答:a)預計計算值:因為r+/r-=0.100/0.140=0.7140.414<0.714<0.732,當配位數(shù)為8時不穩(wěn)定,預計配位數(shù)為7或6。實際值:由于ThO2具有螢石結構,實際Th4+正離子配位數(shù)為八配位。所以實際與預計不一致。MgO具有NaCl結構,根據(jù)O2-半徑0.140nm和Mg2+半徑為0.072nm,計算①球狀離子所占據(jù)的空間分數(shù)(堆積系數(shù));②MgO的密度。解:①

MgO屬于NaCl型結構,即面心立方結構,每個晶胞中含有4個Mg2+和4個O2-,故MgO所占體積為VMgO=4×4/3π(RMg2+3+RO2-3)=16/3π×(0.0723+0.1403)=0.0522(nm3)∵Mg2+和O2-在面心立方的棱邊上接觸∴a=2(RMg2++RO2-)=2×(0.072+0.140)=0.424nm∴堆積系數(shù)=VMgO/V晶胞=0.0522/(0.424)3=68.5%②DMgO=mMgO/V晶胞=n.(M/N0)/a3=4×(24.3+16.0)/[(0.424×10-7)3×6.02×1023]=3.51g/cm32-3在螢石晶體結構中,Ca2+半徑0.112nm,F(xiàn)-半徑0.131nm,螢石晶胞棱長為0.547nm,求:⑴螢石晶體中離子堆積系數(shù)(球狀離子所占據(jù)的空間分數(shù))⑵螢石的密度解:①螢石屬于立方面心結構,每個晶胞中含有4個Ca2+和8個F-

,故CaF2所占體積為VCaF2

=4×4/3π(RCa2+

3)+8×4/3π(RF-

3)=16/3π×0.1123+32/3π

0.1313=0.0988(nm3)∵a=0.547nm∴V晶胞=0.5473=0.1637nm3∴堆積系數(shù)=VCaF2/V晶胞=0.0988/0.1637=60.4%②DCaF2

=mCaF2

/V晶胞=n.(M/N0)/a3(阿伏加德羅常數(shù)N0=6.02×1023

mol-1)=4×(40+2×19)/[(0.1637×10-21)×6.02×1023]=3.17g/cm32-4硅酸鹽晶體結構分類原則:根據(jù)結構中硅氧四面體的連接方式分成五種

硅酸鹽晶體結構類型與Si/O比的關系2-5(1)O2-作立方面心堆積時,畫出適合陽離子位置的間隙類型及位置,(以一個晶胞為結構基元表示出來);

(2)計算八而體空隙數(shù)與O2-數(shù)之比,四面體空隙數(shù)與O2-數(shù)之比;

(3)用鍵強度及鮑林規(guī)則解釋(電價規(guī)則),對于獲得穩(wěn)定結構各需何種價離子(空隙內(nèi)各需填入何種價數(shù)的陽離子,舉出—個例子)

I.所有八而體空隙位置均填滿;

II.所有四面體空隙位置均填滿;

III.填滿—半八面休空隙位置.

IV.填滿—半四面體空隙位置;

解:(1)略(第一章中等大球體立方米堆);第一章PPT113-119

(2)八面體空隙數(shù)/O2-數(shù)=1:1,四面體空隙數(shù)/O2-數(shù)=2:1;

(3)(靜電價規(guī)則):在一個穩(wěn)定的晶體結構中,從所有相鄰的陽離子到達一個陰離子的靜電鍵的總強度,等于陰離子的電荷數(shù)。

I.

CN=6,z+/6×6=2,z+=2,2價陽離子FeO,MnO;

II.

CN=4,z+/4×8=2,z+=1,1價陽離子

Na2O,Li2O;

III.

CN=6,z+/6×3=2,z+=4,4價陽離子

MnO2.

IV.

CN=4,z+/4×4=2,z+=2,2價陽離子

ZnO;

緊密堆積中球數(shù)和兩種空隙間的關系:在兩種最緊密堆積方式中,每一個球的周圍都有6個八面體空隙和8個四面體空隙。而八面體空隙由6個球組成,四面體空隙由4個球組成,因此一個球周圍只有6×1/6=1個八面體空隙和8×1/4=2個四面體空隙是屬于它的。若有n個球最緊密堆積,則四面體空隙總數(shù)為8×n∕4=2n個;而八面體空隙總數(shù)為6×n∕6=n個。球的數(shù)目:八面體數(shù)目:四面體數(shù)目=1:1:2等大球體的最緊密堆積方式,最基本的就是六方最緊密堆積和立方最緊密堆積兩種。八面體空隙四面體空隙

2-6(a)在CaF2晶體中,F(xiàn)rankel缺陷形成能為2.8eV,Schttky缺陷的生成能為5.5eV,計算在25℃和1600℃時熱缺陷的濃度?(b)如果CaF2晶體中,含有10-6的YF3雜質,則在1600℃時,CaF2晶體中是熱缺陷占優(yōu)勢還是雜質缺陷占優(yōu)勢?說明原因。解:(a)由題可知,F(xiàn)rankel缺陷形成能<Schttky缺陷的生成能由知,

Frankel缺陷濃度高,因而是主要

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論