第三磨牙的運動軌跡觀察_第1頁
第三磨牙的運動軌跡觀察_第2頁
第三磨牙的運動軌跡觀察_第3頁
第三磨牙的運動軌跡觀察_第4頁
全文預覽已結(jié)束

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

第三磨牙的運動軌跡觀察

咀嚼運動是下頜最重要的功能之一,與后牙咬合密切相關(guān)。第三磨牙因無對頜牙而伸長是現(xiàn)代人常見的后牙咬合異常表現(xiàn),與顳下頜關(guān)節(jié)紊亂癥有密切關(guān)系。第三磨牙伸長是否對咀嚼運動產(chǎn)生影響,其規(guī)律如何?本項研究采用新型下頜運動軌跡描記儀對此進行了探討。材料和方法一、下頜第三磨牙伸長第四軍醫(yī)大學口腔醫(yī)學院學生志愿者,有第三磨牙伸長者11人,均為男性,年齡17~19歲。受檢者為中性ue367,除個別前牙擁擠外均無其他類型的錯ue367畸形。11例中雙側(cè)下頜第三磨牙伸長者4例,雙側(cè)上頜第三磨牙伸長者1例,單側(cè)下頜第三磨牙伸長者3例,單側(cè)上頜第三磨牙伸長者3例。取研究模型確認咬合時,伸長的第三磨牙與對頜的第二磨牙遠中有密切接觸關(guān)系。正常ue36712人(男9人,女3人,年齡19~21歲),中性ue367,除第三磨牙外牙列完整、整齊,覆ue367覆蓋正常,無顳下頜關(guān)節(jié)紊亂病(Temporomandibulardisorders,TMD)的癥狀和體征,否認磨牙癥。二、下頜關(guān)節(jié)混雜詢問TMD及磨牙癥病史。檢查開閉口時有無可觸及的顳下頜關(guān)節(jié)雜音,頜面部有無觸壓痛。以游標卡尺測量上下中切牙近中切角處最大開口時的距離(開口度)。三、材料的運動軌跡采用美國Myotronic公司研制的K6-Ⅰ型下頜運動軌跡描記儀,隨機先后、分別記錄左右側(cè)咀嚼口香糖(綠箭牌,廣州產(chǎn))時的運動軌跡。每側(cè)重復咀嚼5次,觀察測試以下指標。1.冠狀面、矢狀面及水平面三維方向上咀嚼運動軌跡的形態(tài)。2.ue367期軌跡:如圖1所示,5次咀嚼運動軌跡重疊的部分稱為ue367期軌跡,開口ue367期軌跡稱為出軌,閉口ue367期軌跡稱為入軌。矢狀面上ue367期出軌、入軌呈前后方向分布且常重合,需借助顏色區(qū)分。本項研究主要觀察冠狀面和水平面上ue367期軌跡的特點。3.測量指標:(1)每側(cè)重復5次咀嚼時三維方向的運動幅度平均值:向同側(cè)移動幅度Lchi,向?qū)?cè)移動幅度Lchcon,向下移動幅度Lchv,向后移動幅度Lchp。(2)每側(cè)重復5次咀嚼時最大開、閉口速度(vmaxcho,vmaxchc),平均開、閉口速度(vavecho,vavechc)和咀嚼至牙尖交錯位(intercuspalposition,ICP)時的平均速度——ICP時速度(Vt)。上述各項內(nèi)容的測量均由儀器內(nèi)部程序設定,自動給出數(shù)值。四、統(tǒng)計方法計數(shù)資料采取χ2檢驗,計量資料的組間比較采取分組t檢驗,組內(nèi)比較采取配對t檢驗。結(jié)果一、臨床表現(xiàn)及治療適應證單側(cè)第三磨牙伸長組中,2例有單側(cè)顳下頜關(guān)節(jié)彈響病史和體征并有頜面部疼痛史。其他受試者未見顳下頜關(guān)節(jié)紊亂病癥狀和體征。所有受試者均否認有磨牙癥癥狀,未見開口受限者。開口度對照組為:(45.28±10.65)mm,單側(cè)第三磨牙伸長組為:(43.93±16.12)mm,雙側(cè)第三磨牙伸長組為:(40.19±25.42)mm,各組間差異無顯著性。二、咀嚼環(huán)的形狀特征1.正常ue367對照組圖1(1)下頜前咀嚼側(cè)向咀嚼側(cè)轉(zhuǎn)向咀嚼側(cè),以把咀嚼側(cè)作為咀嚼側(cè)的原因12例正常ue367者24側(cè)咀嚼環(huán)形態(tài)基本一致,表現(xiàn)為:下頜從ICP開始,先向咀嚼對側(cè)移動一段距離,爾后張口由咀嚼對側(cè)逐漸轉(zhuǎn)向咀嚼側(cè),再閉口至ICP進行下一次循環(huán)。5次咀嚼環(huán)疊加,ue367期軌跡非常明顯。(2)icp與其他聚合物的聚合有9例分別用左右側(cè)咀嚼時,其ICP附近的開閉口軌跡基本重合,且越接近ICP,重合程度越大,最終在ICP處匯聚為一點。另3例6側(cè)咀嚼環(huán)中有2側(cè)(分屬于2例)ICP附近的開閉口軌跡基本重合,有4側(cè)ICP附近開閉口軌跡不完全重合。(3)icp的方向下頜由咀嚼側(cè)的略前、略后或基本平齊ICP的方向匯聚于ICP,然后從咀嚼對側(cè)以略前、略后或基本平齊ICP的方向離開ICP,在ICP附近咀嚼環(huán)平滑。2.第三磨牙伸展圖2(1)咀嚼環(huán)的聚合性表現(xiàn)在ICP附近。三維方向上的咀嚼環(huán)變化如下述。冠狀面:變化最明顯。有9例14側(cè)在ICP處形成一約0.2~1.0mm大小的平臺,可出現(xiàn)在出軌,也可出現(xiàn)在入軌。另外8側(cè)咀嚼環(huán)無明顯平臺,其中上述9例的另外4側(cè)中,有2側(cè)咀嚼環(huán)形態(tài)基本正常,1側(cè)為同出同入型(即出軌入軌在同一側(cè))軌跡,1側(cè)為紊亂型(即出軌、入軌的重復性較差,不能形成良好的ue367期軌跡)軌跡。另外的2例,1例雙側(cè)均為同出同入型,1例雙側(cè)均為紊亂型。矢狀面:有2例3側(cè)咀嚼環(huán)在矢狀面上不能匯聚于ICP,其中2側(cè)開閉口軌跡明顯不重合,另1側(cè)重合;其他19側(cè)咀嚼環(huán)均可匯聚于ICP,但除5側(cè)開閉口軌跡為重合型外,其余14側(cè)(分屬于9例)在匯聚到ICP之前,開閉口軌跡明顯不重合。水平面:11例22側(cè)咀嚼環(huán)中有11側(cè)(分屬于8例)ICP處有前后向0.2~0.5mm的臺階。沒有臺階的11側(cè)中僅5側(cè)為正常形態(tài),3側(cè)為同出同入型,3側(cè)在水平面上不能匯聚于ICP。與對照組相比,三維方向上各咀嚼環(huán)類型的比例均有明顯差異(表1)。(2)臺階型咀嚼環(huán)的垂直分布冠狀面平臺型咀嚼環(huán)與矢狀面不重合型咀嚼環(huán)及水平面臺階型咀嚼環(huán)均有明顯的相關(guān)關(guān)系(表2),且冠狀面出現(xiàn)平臺的部位與矢狀面出現(xiàn)不重合的部位在同一垂直水平(圖2)。三、下頜第三磨牙伸長至1.5代與對照組相比,第三磨牙伸長者咀嚼運動中向后運動的幅度明顯增大,差異有高度顯著性(P<0.01);ICP時速度(Vt)也明顯增大,差異有顯著性(P<0.05)。由于單側(cè)第三磨牙伸長可致下頜向一側(cè)偏斜,如右側(cè)上頜或左側(cè)下頜第三磨牙伸長,均可致下頜向左側(cè)偏斜的趨勢,由此將下頜分為趨向側(cè)(如上述左側(cè))和背向側(cè)(如上述右側(cè))。檢查結(jié)果表明,以趨向側(cè)咀嚼時,其閉口平均速度明顯大于對照組(P<0.05);且無論以何側(cè)咀嚼,其最大開口速度和平均開口速度均明顯大于對照組(P<0.05)。其余指標,各組間差異無顯著性。咀嚼運動的ue6期軌跡咀嚼口香糖的運動是ICP附近的研磨運動,有牙ue367者距ICP2mm范圍內(nèi)的運動是由牙ue367面形態(tài)確定的。正常ue367者水平面的ue367期軌跡不如冠狀面明顯,說明在正常咀嚼過程中,咬合引導主要出現(xiàn)在冠狀面上。第三磨牙伸長時咀嚼運動的ue367期軌跡明顯異常,且在三維方向上的不同表現(xiàn)具有明顯的相關(guān)性,說明這些異常軌跡與由第三磨牙伸長所致的ICP附近異常的研磨運動有關(guān)。這種異常的咬合引導作用,可能會成為顳下頜關(guān)節(jié)的微小創(chuàng)傷源。本組樣本中第三磨牙伸長組僅有2例有TMD病史和體征,可能與受試者建立恒牙ue367的時間較短,口頜系統(tǒng)的功能代償能力較強有關(guān)。一般認為,咀嚼運動中閉口速度較開口速度快。本項研究中雖

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論