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晶體硅太陽(yáng)電池反面鈍化研究中山大學(xué)太陽(yáng)能系統(tǒng)研究所報(bào)告人:朱彥斌第十一屆中國(guó)光伏大會(huì)主要內(nèi)容研究背景晶體硅太陽(yáng)電池反面鈍化方法介紹實(shí)驗(yàn)及結(jié)果分析結(jié)論及展望1、研究背景硅片厚度不斷降低近來(lái),為了降低太陽(yáng)電池的本錢(qián),硅片的厚度不斷降低,從最初的350μm到270、240、220、180μm,將來(lái)甚至?xí)蚋》较蜷_(kāi)展。帶來(lái)的影響
1〕反面復(fù)合
隨著硅片厚度的減薄,少數(shù)載流子的擴(kuò)散長(zhǎng)度可能接近或大于硅片的厚度,局部少數(shù)載流子將擴(kuò)散到電池反面而產(chǎn)生復(fù)合,這將對(duì)電池效率產(chǎn)生重要影響。2)內(nèi)外表背反射性能
當(dāng)硅片厚度降低到200μm以下時(shí),長(zhǎng)波長(zhǎng)的光吸收減少,需要電池有良好的背反射性能。
反面復(fù)合速率對(duì)電池性能的影響ArminG.Aberle.Surfacepassivationofcrystallinesiliconsolarcells:Areview.Prog.Photovolt:Res.Appl,2000;8:473-487.背反射率對(duì)電池性能的影響
TechnischeUniversiteitEindhoven
TU/e怎樣降低反面復(fù)合速率,提高背反射率?作為背反射器,增加長(zhǎng)波光的吸收;介于硅基體和鋁背場(chǎng)間,可以有效地減少電池片的翹曲;原子態(tài)的氫飽和基體外表懸掛鍵大量的固定電荷的場(chǎng)鈍化效應(yīng)鈍化層反面鈍化是一個(gè)很好的途徑降低反面復(fù)合2、晶體硅太陽(yáng)電池反面鈍化方法介紹
SiNx:H沉積溫度低〔≤450℃〕,良好的體和外表鈍化效果,沉積速率高適合工業(yè)化生產(chǎn)。a-Si:H沉積溫度低〔200~250℃〕良好的鈍化及陷光效果,可用于制備高效電池,如Sanyo公司的HIT電池。
采用a-Si鈍化,Sanyo公司得到轉(zhuǎn)換效率為22.3%的HIT太陽(yáng)電池,厚度可降到70μm熱氧化SiO2鈍化性能高,常用于制備高效電池,如UNSW的PERC、PERL電池。
原子層沉積〔ALD〕Al2O3沉積溫度低〔200~400℃〕;薄膜厚度易控制,精確度高;鈍化性能良好;可滿足工業(yè)化生產(chǎn)〔3000片/h〕。UNSW轉(zhuǎn)換效率為24.7%的PERL太陽(yáng)電池疊層鈍化SiNx/SiO2,SiNx/a-Si,SiO2/Al2O3等,鈍化性能良好,也常用于制備高效電池。ISFH&TU/eAl2O3/SiOx反面鈍化電池效率20.4%FraunhoferISEa-Si/SiOx反面鈍化電池效率21.7%3.實(shí)驗(yàn)及結(jié)果分析
SiNx、SiO2及SiO2/SiNx反面鈍化工藝流程少子壽命測(cè)試樣品結(jié)構(gòu)示意圖反面沒(méi)有鈍化處理反面SiNx鈍化反面SiO2鈍化反面SiNx/SiO2鈍化不同鈍化法少子壽命測(cè)試結(jié)果〔μs,5片平均值〕不同鈍化法少子壽命測(cè)試結(jié)果〔單片〕ALD-Al2O3鈍化工藝流程及少子壽命測(cè)試樣品結(jié)構(gòu)示意圖少子壽命測(cè)試結(jié)果〔μs,6片平均值〕利用Glunz等人提出的俄歇復(fù)合模型,反面復(fù)合速率可由如下公式計(jì)算獲得:τeff—測(cè)量到的有效少子壽命;τb—硅片體壽命;W—硅片厚度;Seff—外表復(fù)合速率;Dn—電子擴(kuò)散常數(shù)。通過(guò)上式,計(jì)算得到在ALD-Al2O3鈍化層前,硅片的反面復(fù)合速率為2.34×103㎝/s,ALD-Al2O3鈍化層〔100nm〕后反面復(fù)合速率降低為3.09×102㎝/s,反面復(fù)合速率降低一個(gè)數(shù)量級(jí)。ALD100nmAl2O3前后少子壽命測(cè)試結(jié)果SiNx反面鈍化前后背反射率測(cè)試結(jié)果實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析1.鈍化后少子壽命增加,反面復(fù)合速率降低:化學(xué)鈍化作用:鈍化層中原子態(tài)的氫飽和硅片外表懸掛鍵,從而起到化學(xué)鈍化作用,包括SiNx鈍化層和ALD-Al2O3鈍化層。場(chǎng)鈍化效應(yīng):鈍化層中含有一些固定電荷,這些固定電荷會(huì)產(chǎn)生場(chǎng)鈍化效應(yīng),排斥一種載流子,使電子和空穴不能同時(shí)到達(dá)反面而產(chǎn)生復(fù)合。包括SiNx、SiO2〔固定正電荷〕和Al2O3〔固定負(fù)電荷〕HighresolutionTEMimageshowinga20nmthickAl2O3filmon
c-Siaftera30minannealingat425℃inaN2environment.B.Hoex
etal.Ultralowsurface
recombinationofc-Sisubstratespassivatedbyplasma-assistedatomiclayerdepositedAl2O3.3、結(jié)論及展望
PECVDSiNx,PECVDa-Si,熱氧化SiO2、ALD-Al2O3都具有良好鈍化性能,特別是ALD-Al2O3,可使硅片反面的復(fù)合速率由鈍化前的2.34×103㎝/s,降低到鈍化后
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