電鍍課Open與Short改善報(bào)告(結(jié)案)

廣大科技(廣州)有限公司製造部電鍍課Open&Short改善報(bào)告核準(zhǔn)審核報(bào)告人:李鐵軍李華一.主題選定二.計(jì)劃擬定三.現(xiàn)狀分析四.目標(biāo)訂定五.原因分析六.真因証實(shí)七.對(duì)策實(shí)施八.效果確認(rèn)九.標(biāo)準(zhǔn)化十.成果及反省主題

Open&Short改善主題選定

Open&Short專案QCC全員九月份以來,Open&Short嚴(yán)重影響了AOI良率及成測(cè)良率,加大了電鍍及外層整體報(bào)廢率,特成立專案追蹤改善,提高AOI良率及成測(cè)良率,以降低報(bào)廢率.注:虛線表示計(jì)劃進(jìn)度.實(shí)線箭頭表示實(shí)際進(jìn)度.項(xiàng)目二.計(jì)劃擬定時(shí)間

9/15-9/16

9/17-9/20

9/21-9/23

9/24-9/30

10/1-10/5

10/6—10/10主題選定

計(jì)劃擬定

現(xiàn)狀把握

目標(biāo)設(shè)定

原因分析

真因証實(shí)

對(duì)策擬定

對(duì)策實(shí)施

效果確認(rèn)

標(biāo)準(zhǔn)化

成果評(píng)價(jià)

報(bào)告整理

主題

Open&Short改善主題

Open&Short改善三.現(xiàn)狀分析1.選定目前廠內(nèi)大量生產(chǎn)的A25料號(hào),持續(xù)分析其品質(zhì)狀況,以確定改善成效,分析狀況如下:主題

Open&Short改善2.Open＆Short不良率日推移圖主題

Open&Short改善3.Open＆Short不良項(xiàng)目分析(追蹤04LA25029C01600PNl至AOI分析不良項(xiàng)目)銅渣圖基板刮傷蝕刻不盡刮傷斷路板面異物蝕刻不潔臟點(diǎn)短路子彈孔干膜刮傷凹陷短路主題

Open&Short改善四.目標(biāo)訂定不良率0.5%以下不良率2.0%以下五.原因分析

為什么會(huì)

Open&Short人物料輸錯(cuò)電流密度管理不夠嚴(yán)謹(jǐn)輸錯(cuò)片數(shù)員工辦事不認(rèn)真管理人員檢查不夠認(rèn)真手套未洗干淨(jìng)管理不嚴(yán)格機(jī)器方法飛鈀掛具設(shè)計(jì)不合理電流不均整流機(jī)異常點(diǎn)檢不夠認(rèn)真干膜質(zhì)量不佳進(jìn)料沒認(rèn)真檢查銅槽含雜質(zhì)水質(zhì)不良去膜點(diǎn)管控不利干膜退洗方法不正確去膜速度,藥水濃度規(guī)定合理蝕刻或去膜機(jī)噴嘴堵塞保養(yǎng)周期太長(zhǎng)容易刮傷板面不能阻擋末端電流銅槽有機(jī)汙染嚴(yán)重保養(yǎng)不撤底假鍍板使用不合理藥不不良教育訓(xùn)練沒做好管理不夠嚴(yán)謹(jǐn)工務(wù)維修不利浮板設(shè)計(jì)不合理不能阻擋電流導(dǎo)電線斷脫易刮傷干膜主題

Open&Short改善主題

Open&Short改善1.顯影與二銅之間存放時(shí)間驗(yàn)証實(shí)驗(yàn)六:真因証實(shí)主題

Open&Short改善主題

Open&Short改善總結(jié)論:顯影與二銅之間的存放時(shí)間對(duì)OPEN&SHORT有影響.以外層的存放時(shí)間影響最大.主要影響項(xiàng)目為板面異物.主題

Open&Short改善2.驗(yàn)証去膜濾渣滾輪速度與OPEN&SHORT的關(guān)系主題

Open&Short改善3.蝕刻結(jié)晶驗(yàn)証實(shí)驗(yàn)6.實(shí)驗(yàn)總結(jié)通過以上幾個(gè)實(shí)驗(yàn)得出:1.二銅前存放的干膜板最多不能超過18個(gè)墊板,二銅人員根據(jù)工單個(gè)標(biāo)示的時(shí)間嚴(yán)格按照先進(jìn)先出.2.蝕刻去膜段濾渣滾輪速度以25±3秒/圈為標(biāo)準(zhǔn).主題

Open&Short改善七:對(duì)策擬定與實(shí)施主題

Open&Short改善