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文檔簡(jiǎn)介
《300mm直拉極低氧含量硅單晶》
編制說(shuō)明
1工作簡(jiǎn)況
1.1任務(wù)來(lái)源
根據(jù)2023年2月寧夏材料研究學(xué)會(huì)下發(fā)的《關(guān)于開(kāi)展2023年團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)立項(xiàng)建議的通知》
要求,團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)《300mm直拉極低氧含量硅單晶》由寧夏材料研究學(xué)會(huì)歸口,計(jì)劃編號(hào)為:
T/NXCLXXX—2023。主要起草單位為:寧夏中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司、北方民族大學(xué)、
杭州中欣晶圓半導(dǎo)體股份有限公司、廈門大學(xué)、寧夏盾源聚芯半導(dǎo)體科技股份有限公司、寧夏高
創(chuàng)特能源科技有限公司。
1.2項(xiàng)目背景
絕緣柵雙極晶體管(IGBT)是適于控制大功率的柵電壓驅(qū)動(dòng)型開(kāi)關(guān)元件,廣泛應(yīng)用于
軌道交通、智能電網(wǎng)、航空航天、電動(dòng)車、光伏風(fēng)電、變頻家電等領(lǐng)域。在下游需求拉動(dòng)下,
IGBT芯片行業(yè)保持快速增長(zhǎng)態(tài)勢(shì),國(guó)家“碳達(dá)峰、碳中和”目標(biāo)的提出將推動(dòng)光伏和新能源
車的大力發(fā)展,帶動(dòng)2022-2025年全球IGBT芯片市場(chǎng)空間保持20%的增速。此外,近年來(lái)
中國(guó)功率半導(dǎo)體器件行業(yè)受到國(guó)家產(chǎn)業(yè)政策的重點(diǎn)支持和各級(jí)政府的高度重視,國(guó)家陸續(xù)出
臺(tái)了多項(xiàng)政策,鼓勵(lì)功率半導(dǎo)體器件行業(yè)發(fā)展與創(chuàng)新。作為IGBT芯片制造的最重要的原材
料,半導(dǎo)體級(jí)極低氧硅單晶也迎來(lái)了發(fā)展黃金期。作為襯底材料,半導(dǎo)體級(jí)硅單晶片的品質(zhì)
對(duì)IGBT芯片的性能起著至關(guān)重要的作用。目前,IGBT的襯底主要是通過(guò)區(qū)熔法育成的硅
單晶切出的200mm以下的硅片。為降低IGBT的制造成本,硅片的大尺寸化是主要發(fā)展方
向。但是通過(guò)區(qū)熔法育成直徑200mm的硅單晶是及其困難的,即便能夠制造,也難以較低
的價(jià)格穩(wěn)定供給。雖然通過(guò)直拉法能低成本穩(wěn)定地制造出200mm及以上直徑的硅單晶,但
是直拉法生長(zhǎng)的硅單晶氧含量通常達(dá)到8-18ppma,遠(yuǎn)高于IGBT用硅片所需的小于5ppma
的氧含量,且尺寸越大氧含量越難以控制。
寧夏中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司研發(fā)的單晶生長(zhǎng)技術(shù)突破了300mm直拉極低氧含
量硅單晶生產(chǎn)關(guān)鍵技術(shù)門檻。
目前針對(duì)直拉法生產(chǎn)的300mm極低氧含量硅單晶尚無(wú)標(biāo)準(zhǔn)。為了進(jìn)一步提高300mm
直拉極低氧含量硅單晶的研發(fā)和制造水平,引領(lǐng)半導(dǎo)體行業(yè)的科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)升級(jí),提升行
業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力,有必要制定出300mm直拉極低氧含量硅單晶的團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)。
1.3主要參加單位和工作成員及其所做的工作
本文件起草單位:寧夏中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司、北方民族大學(xué)、杭州中欣晶圓半
導(dǎo)體科技有限公司、廈門大學(xué)、寧夏盾源聚芯半導(dǎo)體科技股份有限公司、寧夏高創(chuàng)特能源科技有
限公司。
本文件主要起草人:芮陽(yáng)、商潤(rùn)龍、王黎光、楊少林、陳亞、趙澤慧、白圓、馬成、曹
啟剛、王忠保、熊歡、李聰、王云峰、李長(zhǎng)蘇、顧燕濱、盛之林、黃柳青、盛旺。
芮陽(yáng)領(lǐng)導(dǎo)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)從事半導(dǎo)體硅材料研發(fā)多年,有著豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)和大量的理論數(shù)
據(jù)。在半導(dǎo)體硅單晶拉制相關(guān)的研究方面取得了豐碩成果。結(jié)合大量資料與豐富研究成果,
在北方民族大學(xué)、杭州中欣晶圓半導(dǎo)體股份有限公司、廈門大學(xué)、寧夏盾源聚芯半導(dǎo)體科技股
份有限公司、寧夏高創(chuàng)特能源科技有限公司的大力支持下負(fù)責(zé)起草了“300mm直拉極低氧含量
硅單晶”團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)。
1.4主要工作過(guò)程
寧夏中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司在現(xiàn)有設(shè)備、人員、技術(shù)的基礎(chǔ)上,加上對(duì)客戶需求
的了解,成立了團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)編制組,召開(kāi)了標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)目編制啟動(dòng)會(huì)議,對(duì)標(biāo)準(zhǔn)編寫工作進(jìn)行了部
署和分工,主要工作過(guò)程經(jīng)歷了以下幾個(gè)階段。
1.4.1起草階段
1)2022年3月,成立了《300mm直拉極低氧含量硅單晶》標(biāo)準(zhǔn)編制組,確定了各成
員的工作職能和任務(wù),制定了工作計(jì)劃和進(jìn)度安排。
2)2022年4-10月,調(diào)研客戶提出的300mm直拉極低氧含量硅單晶的技術(shù)需求,并收
集涉及硅單晶的標(biāo)準(zhǔn),分析不能滿足300mm直拉極低氧含量硅單晶的具體點(diǎn)。
3)2022年11月,提交了團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)《300mm直拉極低氧含量硅單晶》。。
1.4.2征求意見(jiàn)階段
2022年11月,就《300mm直拉極低氧含量硅單晶》團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)文本和編制說(shuō)明,
征求了xx、xx等單位的意見(jiàn),所有意見(jiàn)全部采納,形成了《300mm直拉極低氧含量硅單
晶》送審稿。
2標(biāo)準(zhǔn)的編制原則
2.1符合性:按照GB/T1.1-2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)
則》的要求對(duì)本部分進(jìn)行了編寫。
2.2合理性:滿足國(guó)內(nèi)300mm直拉極低氧含量硅單晶的需要為原則,提高標(biāo)準(zhǔn)的適用性;
以與實(shí)際相結(jié)合為原則,提高標(biāo)準(zhǔn)的可操作性;充分考慮國(guó)家法律、安全、衛(wèi)生、環(huán)保法規(guī)
的要求。
3主要內(nèi)容說(shuō)明
本文件規(guī)定了300mm直拉極低氧含量硅單晶的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)格以及標(biāo)
志、包裝、運(yùn)輸、貯存和質(zhì)量承諾等方面的內(nèi)容。
其中技術(shù)要求包括原材料、直徑及允許偏差、晶向及偏離度、化學(xué)成分、完整性、頭尾
區(qū)分等。試驗(yàn)方法包括直徑、導(dǎo)電類型、電阻率、電阻率變化、晶向及偏離度、間隙氧含量、
徑向氧含量、碳含量、體內(nèi)金屬(鐵)含量、晶體完整性、頭尾標(biāo)記的測(cè)量或檢驗(yàn)方法。
4主要實(shí)驗(yàn)和驗(yàn)證的分析
標(biāo)準(zhǔn)涉及的300mm直拉極低氧含量硅單晶的檢測(cè)項(xiàng)目中直徑、導(dǎo)電類型、電阻率、電
阻率變化、晶向及偏離度、間隙氧含量、徑向氧含量、碳含量、體內(nèi)金屬(鐵)含量、晶體
完整性的實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證結(jié)果表明檢測(cè)所確定的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)重現(xiàn)性、偏差、準(zhǔn)確性符合要求。
表1300mm極低氧含量硅單晶拋光片試驗(yàn)驗(yàn)證數(shù)據(jù)
試驗(yàn)結(jié)果
試驗(yàn)驗(yàn)證項(xiàng)目單位
123
摻雜元素/Phos
導(dǎo)電類型/N
直徑mm301.03301.01301.01
電阻率Ω·cm25-3040-6072-79
電阻率徑向變化%1.81.42.2
晶向/100100100
晶向偏離度°111
間隙氧含量atoms/cm31.4E+171.25E+171.35E+17
徑向氧含量%0.91.82.3
碳濃度atoms/cm31.8E+153.95E+152.5E+14
基體金屬雜質(zhì)濃度(Fe)atoms/cm31.43E+93.90E+091.2E+09
晶體完整性/OKOKOK
5標(biāo)準(zhǔn)中涉及專利的情況
本文件不涉及專利問(wèn)題。
6預(yù)期達(dá)到的社會(huì)效益等情況
(一)300mm直拉極低氧含量硅單晶團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)的制定,有利于改善國(guó)內(nèi)大尺寸低氧高
阻硅單晶制造行業(yè)制造水平參差不齊的現(xiàn)狀,有利于推動(dòng)我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化體系建設(shè)。
(二)有利于促進(jìn)半導(dǎo)體級(jí)硅單晶產(chǎn)品質(zhì)量的提升,推動(dòng)相關(guān)技術(shù)、產(chǎn)品的升級(jí)、換代。
(三)有利于提高半導(dǎo)體級(jí)硅單晶的市場(chǎng)銷售收入,增加就業(yè)崗位,帶動(dòng)地方經(jīng)濟(jì)發(fā)展,
實(shí)現(xiàn)良好的社會(huì)效益。
(四)以東西部技術(shù)合作的方式,積極響應(yīng)了“一帶一路”發(fā)展大戰(zhàn)略以及寧夏自治區(qū)
深化科技體制改革,提高科技對(duì)經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)貢獻(xiàn)的政策號(hào)召。
7采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)和國(guó)外先進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)的情況
7.1采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)和國(guó)外先進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)的程度
經(jīng)查,國(guó)外無(wú)相同類型的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。
7.2國(guó)際、國(guó)外同類型標(biāo)準(zhǔn)水平的對(duì)比分析
經(jīng)查,國(guó)外無(wú)相同類型的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。
7.3與測(cè)試的國(guó)外樣品、樣機(jī)的有關(guān)數(shù)據(jù)對(duì)比情況
無(wú)。
8與現(xiàn)行法律、法規(guī)、強(qiáng)制性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)及相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)協(xié)調(diào)配套情況
本文件與有關(guān)的現(xiàn)行法律、法規(guī)和強(qiáng)制性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)沒(méi)有沖突。
本文件與現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)及制定中的標(biāo)準(zhǔn)無(wú)重復(fù)交叉情況。
9重大分歧意見(jiàn)的處理經(jīng)過(guò)和依據(jù)
編制組嚴(yán)格按照既定編制原則進(jìn)行編寫,本文件制訂過(guò)程中未發(fā)生重大的分歧意見(jiàn)。
10標(biāo)準(zhǔn)作為強(qiáng)制性或推薦性標(biāo)準(zhǔn)的建議
本標(biāo)準(zhǔn)建議作為推薦性團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn),供相關(guān)組織參考采用。
11貫徹標(biāo)準(zhǔn)的要求和措施建議
本文件規(guī)范了300mm直拉極低氧含量硅單晶的術(shù)語(yǔ)和定義、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢
驗(yàn)規(guī)格、和標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存等方面的內(nèi)容,有利于進(jìn)一步提高半導(dǎo)體級(jí)硅單晶行業(yè)
研發(fā)和制造水平。生產(chǎn)企業(yè)和相關(guān)部門、單
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