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文檔簡介

第十章典型MEMS器件封裝10.1壓力傳感器10.2加速度計10.3RFMEMS開關(guān)10.4風傳感器

10.1壓?力?傳?感?器

在現(xiàn)代工業(yè)、科學研究及日常生活中,壓力測試技術(shù)有著非常廣泛的應用。凡是利用液體、氣體等作為動力、傳遞介質(zhì)、燃燒體等的儀器儀表,都需要指示壓力變化。10.1.1壓力傳感器的工作原理

1.壓阻式

1)金屬應變

圖10-1所示的截面面積為S,長為l的金屬片,其變形前電阻為

(10-1)

當金屬片受軸向拉力F作用時,其電阻變化率為

(10-2)圖10-1金屬片受軸向力作用變形

2)半導體應變

綜合考慮半導體材料和金屬應變效應,總的電阻變化率為

(10-3)實驗證明,對半導體材料,1+2μ<<πE,故電阻變化率為

(10-4)

2.電容式

電容式壓力傳感器是利用電容原理,將被測物理量轉(zhuǎn)換成電容的變化來進行測量。圖10-2所示的平行板電容,若長、寬分別為l和b,相距d,則電容為

(10-5)圖10-2平行板電容

3.壓電式

壓電式壓力傳感器的工作原理是壓電效應。圖10-3所示為壓電式壓力傳感器的工作原理圖。圖中,敏感質(zhì)量塊與壓電晶體相連,當外界輸入壓力時,質(zhì)量塊產(chǎn)生的慣性力作用在壓電晶體上。由于壓電效應,輸出的電信號同外界壓力成比例變化。圖10-3壓電式壓力傳感器工作原理10.1.2壓力傳感器的封裝形式

壓力傳感器根據(jù)芯片結(jié)構(gòu)、被測對象和應用環(huán)境的不同,采用不同的封裝形式。軍品、航空航天等應用領(lǐng)域產(chǎn)品,對封裝的要求很高;民品等應用領(lǐng)域產(chǎn)品,對封裝的要求低些。相比于加速度、諧振器和陀螺儀等器件,壓力傳感器的芯片必須直接暴露在被測量的環(huán)境中,從而要求封裝既要保護芯片,又要傳遞壓力。因此,壓力傳感器對封裝要求相當高。圖10-4常見壓力傳感器封裝

1.TO封裝

TO封裝是一種低成本的封裝形式,屬非氣密封裝,主要用于監(jiān)測非腐蝕氣體、干燥氣體,其應用領(lǐng)域包括汽車儀表、醫(yī)藥衛(wèi)生、氣體控制系統(tǒng)、空調(diào)、制冷設備、環(huán)境監(jiān)測和儀器儀表等。TO封裝屬于一級封裝,使用時需根據(jù)環(huán)境要求,進行二次封裝,以滿足性能和可靠性要求。圖10-5TO封裝壓力傳感器的結(jié)構(gòu)圖

2.膜片封裝

不銹鋼膜片封裝壓力傳感器廣泛應用于航天、航空、工業(yè)自動化控制、汽車等領(lǐng)域,其主要制造工藝為:硅芯片靜電鍵合、膠接粘貼管殼、焊盤管座Au絲引線鍵合。圖10-6所示的不銹鋼膜片法工藝復雜,成本較高。圖10-6金屬膜片法圖10-7所示為膜片封裝的封裝結(jié)構(gòu)圖。圖10-8所示為膜片封裝的引線框架,實現(xiàn)芯片與外部電路的連接。圖10-7膜片封裝的結(jié)構(gòu)圖10-8引線框架

3.塑料SOP

圖10-9所示為塑料SOP封裝外形。A孔是壓力傳感器與外界環(huán)境的傳感孔,外界環(huán)境的氣體壓力通過A孔感應到壓力芯片上。蓋板下面為壓力傳感器芯片腔體,腔體內(nèi)硅膠保護芯片表面引線,防止外界氣體腐蝕。B孔為頂針孔,阻止塑封中溢料飛邊,提高塑封成品率。圖10-9塑料SOP圖10-10所示為GE公司的智能傳感器,它集成了由MEMS技術(shù)制作的壓力傳感器、加速度傳感器和一個包含溫度傳感器、電池電壓檢測、內(nèi)部時鐘和模/數(shù)轉(zhuǎn)換器(ADC)、取樣/保持(S/H)、SPI接口、傳感器數(shù)據(jù)校準、數(shù)據(jù)管理、ID碼等功能的數(shù)字信號處理ASIC芯片。圖10-10壓力、加速度和ASIC、MCU組合封裝在一起圖10-11壓力溫度導入孔圖10-12壓阻式壓力傳感器壓力傳感器、加速度傳感器、ASIC/MCU是三個分別獨立的裸芯片,它們通過芯片的集成廠商整合封裝在一個單元里。圖10-13所示是美國GE公司研制的NPX2芯片,去掉封裝材料后能清晰地看到三個裸芯片,三個芯片之間的聯(lián)接、匹配也都做在其中了,如圖10-14所示。圖10-13NPX2芯片圖10-14去掉封裝材料后的三個裸芯片

10.2加速度計

10.2.1加速度計的工作原理

MEMS慣性加速度計機械結(jié)構(gòu)可以等效為圖10-15所示的二階彈簧—阻尼—質(zhì)量系統(tǒng)。圖10-15MEMS慣性加速度計模型10.2.2單芯片封裝結(jié)構(gòu)

MEMS器件通常采用單芯片封裝。高量程加速度傳感器的單芯片封裝結(jié)構(gòu)如圖10-16所示,芯片正面為硅蓋板,背面為聚酰亞胺膜,膠水將蓋板與芯片粘貼在一起。圖10-16高量程加速度傳感器的單芯片封裝如圖10-17所示,蓋板下面的凸臺將膠水擋在芯片中心區(qū)域之外。凸臺并非完整四邊形,有一邊沒有凸臺,為引線路徑留有間隙,可將信號線從芯片中心區(qū)域引到焊盤來。圖10-17蓋板

1.蓋板制作

選擇兩英寸<100>硅片,厚度大約為320μm;利用光刻、漂洗、異性淺腐蝕等正面腐蝕工藝,形成蓋板,如圖10-17所示;利用氧化、光刻、漂洗去膠、異性深腐蝕等背面穿透腐蝕工藝,形成分片槽。

2.蓋板封裝

用筆蘸取少許紫外膠,涂在蓋板的四周(除了焊盤一邊之外);仔細地在蓋板與芯片的縫合界面進行描膠;120℃加熱固化;貼片和壓焊;描膠和固化焊盤一側(cè)正對蓋板與芯片的間隙。

3.背面保護

采用聚酰亞胺薄膜作為載體保護材料。聚酰亞胺膠帶以聚酰亞胺薄膜為基材,采用丙烯酸聚合物為膠粘劑。

4.貼片

加速度計的封裝多用管殼封裝,可以用陶瓷管殼,也可以用Kovar合金管殼。如用塑料封裝,則需事先將芯片的正面和背面保護起來。

5.壓焊

通常使用的壓焊工藝有:超聲熱壓工藝(ThermosonicBonding)、超聲壓焊工藝(UltrasonicBonding)和熱壓工藝(ThermocompressionBonding)。由于金絲球焊工藝過程的速度遠快于楔焊,符合現(xiàn)代半導體行業(yè)的要求,因此多采用超聲熱壓金絲球焊(150℃~200℃)或超聲室溫鋁線楔焊工藝。圖10-18所示為經(jīng)過壓焊的加速度計。圖10-18經(jīng)過壓焊的加速度計

6.灌封

常用的灌封材料有環(huán)氧樹脂、硅橡膠、聚氨酯彈性體等,其中環(huán)氧樹脂應用最為廣泛。目前,國外半導體器件的80%~90%是環(huán)氧樹脂灌封材料封裝。

7.管殼蓋板密封

通??刹捎闷叫锌p焊或儲能焊對陶瓷或金屬基管殼進行封蓋。平行縫通過電流加熱,局部燒熔金屬,從而使蓋板和管殼焊接成一體,是一種電阻焊。儲能焊以電容儲能方式將電能存儲起來,在焊接過程中迅速釋放。儲能焊適用于時間短、功率大的焊接要求,既滿足了大功率焊接的需要,又解決了大功率焊接對電源的影響。10.2.3圓片級封裝結(jié)構(gòu)

使用手工操作進行單芯片封裝,效率低、可靠性不高、穩(wěn)定性差;使用機械化自動化圓片級封裝,有利于提高封裝的可靠性和穩(wěn)定性,提高工作效率,降低成本。圓片級封裝是一種先進的封裝技術(shù),也是加速度計封裝的發(fā)展趨勢。圖10-19加速度計圓片級封裝圖10-20所示為圓片級加速度計封裝結(jié)構(gòu);圖10-21所示為硅蓋板。蓋板中有環(huán)形凸臺,將芯片的中心區(qū)域保護住。環(huán)形凸臺相對于蓋板的中心的高度為3μm,相對于邊緣的高度為100μm。凸臺可將點膠機所涂膠擋在四周,避免進入中心區(qū)域。蓋板上還有穿通腐蝕槽,露出芯片的焊盤,從而可以進行信號的輸入與輸出。圖10-20圓片級加速度計封裝結(jié)構(gòu)圖10-21硅蓋板圓片級加速度計封裝工藝流程如圖10-22所示,首先進行硅玻璃鍵合,然后再與涂了貼片膠的蓋板進行粘接,固化之后形成芯片的保護性夾層結(jié)構(gòu)。各階段封裝實物如圖10-23~圖10-27所示。圖10-22圓片級加速度計的封裝工藝流程圖10-23涂膠

圖10-24粘接

圖10-25固化

圖10-26劃片

圖10-27放大部分10.2.4BCB圓片級封裝結(jié)構(gòu)

圖10-28所示為BCB圓片級封裝結(jié)構(gòu)。圖10-28BCB封裝蓋板硅片腐蝕有通孔,BCB膠把器件硅片和硅蓋板粘接起來,形成空腔,包含MEMS加速度計。硅蓋板上通孔,暴露硅片上的焊盤,經(jīng)壓焊實現(xiàn)電路互連。圖10-29BCB封裝蓋板制備工藝流程圖10-30蓋板

10.3RFMEMS開關(guān)

10.3.1RFMEMS開關(guān)概述

RFMEMS開關(guān)是RFMEMS中研究最廣泛的部件。在無線電通信工業(yè)中,RF開關(guān)主要用于信號路徑選擇、阻抗匹配、天線重構(gòu)和放大器增益改變。從1MHz頻段到100GHz頻段的各種無線電通信都需要RF開關(guān)。圖10-31Rockwell金屬—金屬接觸式開關(guān)圖10-32Michigan大學RFMEMS開關(guān)圖10-33MIT(麻省理工學院)林肯實驗室RFMEMS開關(guān)圖10-34RFMEMS開關(guān)接觸通斷10.3.2RFMEMS開關(guān)的封裝要求

1.密封性

密封性是RFMEMS開關(guān)器件的重要指標之一。

2.高頻性能

封裝引起的器件高頻性能的變化,主要是由于封裝在高頻時引入了寄生的電阻、電感、電容,使阻抗不匹配,從而使器件的性能變差。結(jié)構(gòu)設計應盡量彌補封裝引入的寄生效應,提高器件的高頻性能。

3.熱性能

由于RFMEMS都是較精細的結(jié)構(gòu),不能承受很高的溫度,一般認為不能高于350℃,這就限制了很多技術(shù)的應用。另外,保證封裝對RFMEMS開關(guān)自身熱量散熱,是封裝設計必須解決的問題。

4.機械性能

RFMEMS的可靠性問題很大程度上來自封裝。RFMEMS芯片對封裝殘余應力非常敏感。在封裝過程中,熱膨脹系數(shù)不匹配,會導致熱應力;機械振動也會產(chǎn)生機械應力。各種應力使RFMEMS微結(jié)構(gòu)產(chǎn)生變形。

5.封裝環(huán)境

封裝體內(nèi)的壓力和氣體都會對RF開關(guān)器件產(chǎn)生很大的影響。RFMEMS開關(guān)器件需要在常壓的氮氣或惰性氣體中進行封裝。封裝體內(nèi)外壓強的平衡,會有效地減少外界的濕氣通過封裝體的漏洞進入封裝體內(nèi)。10.3.3RFMEMS開關(guān)的封裝過程

RFMEMS開關(guān)封裝的主要工藝過程如圖10-35所示。下面具體說明各過程。圖10-35RFMEMS開關(guān)封裝的主要工藝

1.設計

RFMEMS開關(guān)封裝設計要遵循以下原則:

●根據(jù)RFMEMS開關(guān)性能,設計封裝外殼結(jié)構(gòu)形式,實現(xiàn)開關(guān)對封裝外殼的功能要求。

●設計方案要滿足工藝可行性、可靠性、工作環(huán)境等問題。

●要充分考慮有可能對封裝氣密性有影響的分步工藝。

●根據(jù)現(xiàn)有的組裝方法,以最小的風險,開發(fā)完成整個封裝系統(tǒng)。

2.貼片

貼片即將開關(guān)芯片粘貼到外殼底板上。RFMEMS開關(guān)的貼片步驟要滿足以下要求:

●要求使RFMEMS開關(guān)結(jié)構(gòu)與外殼基板有很好的粘接強度,以保證RFMEMS開關(guān)芯片與外殼基板不發(fā)生相對移動,以免承受熱冷溫度、濕氣、沖擊和振動。

●粘接材料必須在RFMEMS開關(guān)和外殼基板之間提供良好的熱通道,使開關(guān)芯片產(chǎn)生的熱量順利地從芯片傳到底板,保證RFMEMS開關(guān)工作所要求的溫度范圍?!裾辰硬牧弦笥泻芎玫姆€(wěn)定性和可靠性,粘接材料的穩(wěn)定性和可靠性取決于RFMEMS開關(guān)芯片和外殼基板材料的熱膨脹系數(shù),熱膨脹系數(shù)不匹配將導致熱應力。

●?RFMEMS開關(guān)的貼片精度要求。

RFMEMS開關(guān)貼片工藝的主要過程為施膠、貼片、固化三個步驟。

2)貼片

施膠之后,用真空吸頭或鑷子把芯片按要求的引腳方向放上去,輕輕按一下,使芯片緊貼平坦,再放入烘箱中或用紫外光照射,使膠固化,即為貼片。貼片過程易出現(xiàn)以下問題:

●由于貼片膠固化不良或者未完全固化,導致芯片粘接強度不夠,出現(xiàn)芯片脫落。

●傳熱通道熱阻過大。

3)固化

丙烯酸樹脂和環(huán)氧樹脂粘接劑的固化條件不相同,同量的丙烯酸樹脂膠粘劑的粘接強度低于環(huán)氧樹脂膠粘劑的粘接強度。

3.引線鍵合

1)清洗

目前清洗主要采用分子清洗(等離子清洗)和紫外線臭氧清洗兩種。

2)引線鍵合

引線鍵合工藝有焊球鍵合工藝和楔鍵合工藝兩種。

4.檢查

1)界面絕緣層形成

芯片鍵合區(qū)光刻膠或鈍化膜去除不干凈,形成絕緣層。管殼鍍金層質(zhì)量低劣,造成表面疏松、發(fā)紅、鼓泡、起皮等。

2)金屬化層缺陷

金屬化層缺陷主要有:芯片金屬化層過薄,鍵合時無緩沖作用;芯片金屬化層出現(xiàn)合金點,在鍵合處形成殘缺;芯片金屬化層黏附不牢,壓點掉落。

3)表面沾污

外界環(huán)境凈化度不夠,造成灰塵沾污;人體凈化不良,造成有機物沾污等;芯片、管殼等未及時清理干凈,殘留鍍金液,造成沾污。

4)應力不當

鍵合應力包括熱應力、機械應力和超聲波力。

鍵合應力過小,會造成鍵合不牢;鍵合應力過大,會影響鍵合點的機械性能。應力過大不僅會造成鍵合點根部損傷,斷裂失效,而且還會損傷鍵合芯片,出現(xiàn)裂縫。

5)環(huán)境不良

超聲鍵合時,外界振動、機件振動、管座固件松動或位于通風口,均可造成鍵合缺陷。

6)靜電損傷

鍵合引線與電源金屬條之間放電會引起靜電損傷,從而導致失效。當鍵合引線與芯片水平面夾角太小時,在靜電放電作用下,鍵合引線與環(huán)繞芯片的電源線(或地線)之間易發(fā)生電弧放電而造成失效。10.3.4RFMEMS開關(guān)的封帽

封帽的目的是為保護器件和封裝的金屬鍍層不受環(huán)境腐蝕,避免機械損傷。潮氣是器件受腐蝕的主要根源之一,電解氧化、金屬遷移均和潮氣的存在相關(guān)。10.3.5RFMEMS開關(guān)的電連接

電連接技術(shù)可以改善RFMEMS開關(guān)封裝的高頻性能、氣密性和熱性能。

1.埋層法

很多研究致力于設計新的電連接方式,以減少寄生效應。圖10-36所示為采用埋層方法將信號線輸出。圖10-36信號線埋層方法

2.通孔法

圖10-37所示為采用通孔技術(shù)實現(xiàn)高頻段的信號傳輸。為適應高頻需要,一般在較薄的圓片上加工通孔,長度較短時,可以用致密的金或銅填充,確保氣密性。圖10-37通孔技術(shù)封裝

3.雙層FGC法

圖10-38所示為雙層

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