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1、黃光工藝原理轉(zhuǎn)矩，p.r Stripping，cleaning，film dep。mask exp。developer、film etche Alignment compensation factors、mask or plate rotation(mask or plate)orthogonalY) shift后的位置(X Sx，Y Sy) Sx，Sy-3360 X，Y方向的Shift量，Shift，X軸Rotation - Rx原始位置(X，y) rx Y=(ry rx)rx；Magnification，原始定義位置(X，Y)屬于shot，位于中心坐標(biāo)位置(X，Y) Magnificati

2、on之后的位置3360 (x (x-x) *，即位置定義(X，Y) Y) Scaling后面的位置(x x * c，y y * c)，distortion，distortion Mix and matching，grid registration errors while scannens from a perfect grid . when a single scanner is used for both the substrate and overlaying layers，These average deviations cancel out . grid registing、stage mirrors、laser、

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