303Cu(不同爐溫)實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析.docx

303Cu實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析從7月份所取303Cu樣品實(shí)驗(yàn)結(jié)果中我們發(fā)現(xiàn)，有一些小規(guī)格303Cu的固溶樣容易出現(xiàn)晶粒粗大現(xiàn)象，為此，我們此次又取了幾組303Cu的固溶樣品，在不同溫度下對(duì)其進(jìn)行再次固溶，并觀察其晶粒。一、303Cu 爐號(hào)：140614B01-08 規(guī)格6.5 狀態(tài)：固溶本廠固溶工藝工藝1區(qū)2區(qū)3區(qū)4區(qū)溫度975101510551055時(shí)間22min22min22min22min以下為本次實(shí)驗(yàn)所用固溶工藝：（由于實(shí)驗(yàn)室爐溫不穩(wěn)定，所以實(shí)驗(yàn)過程中實(shí)際溫度會(huì)與設(shè)定溫度有10度左右的偏差）實(shí)驗(yàn)固溶工藝一：900入爐，隨爐升溫到1040進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷；實(shí)驗(yàn)固溶工藝二：900入爐，隨爐升溫到1050進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷；實(shí)驗(yàn)固溶工藝三：900入爐，隨爐升溫到1065進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷。我們將實(shí)驗(yàn)前和實(shí)驗(yàn)后觀察到的晶粒組織進(jìn)行了對(duì)比，如下圖所示：實(shí)驗(yàn)前HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-1000X觀察圖片發(fā)現(xiàn)：實(shí)驗(yàn)前，樣品中存在晶粒粗大區(qū)域，分布在橫切面外圍，評(píng)定實(shí)驗(yàn)前正常組織區(qū)域晶粒度為8.5級(jí)；實(shí)驗(yàn)后，晶粒都不同程度長(zhǎng)大，變得很不均勻。二、303Cu 爐號(hào)：140614A01-08 規(guī)格6.5 狀態(tài)：固溶本廠固溶工藝工藝1區(qū)2區(qū)3區(qū)4區(qū)溫度975101510551055時(shí)間22min22min22min22min以下為本次實(shí)驗(yàn)所用固溶工藝：（由于實(shí)驗(yàn)室爐溫不穩(wěn)定，所以實(shí)驗(yàn)過程中實(shí)際溫度會(huì)與設(shè)定溫度有10度左右的偏差）實(shí)驗(yàn)固溶工藝一：900入爐，隨爐升溫到1040進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷；實(shí)驗(yàn)固溶工藝二：900入爐，隨爐升溫到1050進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷；實(shí)驗(yàn)固溶工藝三：900入爐，隨爐升溫到1065進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷。我們將實(shí)驗(yàn)前和實(shí)驗(yàn)后觀察到的晶粒組織進(jìn)行了對(duì)比，如下圖所示：（圖中HW表示橫外向） 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-1000X觀察圖片發(fā)現(xiàn)：實(shí)驗(yàn)前，樣品中存在晶粒粗大區(qū)域，分布在橫切面外圍，評(píng)定實(shí)驗(yàn)前正常組織區(qū)域晶粒度為8.5級(jí)；實(shí)驗(yàn)后，晶粒都不同程度長(zhǎng)大，變得很不均勻。三、303Cu 爐號(hào)：140614B01-03 規(guī)格5.5 狀態(tài)：固溶（取的白絲樣）本廠固溶工藝工藝1區(qū)2區(qū)3區(qū)4區(qū)溫度975101510551055時(shí)間22min22min22min22min以下為本次實(shí)驗(yàn)所用固溶工藝：（由于實(shí)驗(yàn)室爐溫不穩(wěn)定，所以實(shí)驗(yàn)過程中實(shí)際溫度會(huì)與設(shè)定溫度有10度左右的偏差）實(shí)驗(yàn)固溶工藝一：900入爐，隨爐升溫到1040進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷；實(shí)驗(yàn)固溶工藝二：900入爐，隨爐升溫到1050進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷；實(shí)驗(yàn)固溶工藝三：900入爐，隨爐升溫到1065進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷。我們將實(shí)驗(yàn)前和實(shí)驗(yàn)后觀察到的晶粒組織進(jìn)行了對(duì)比，如下圖所示：（圖中HW表示橫外向） 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-1000X觀察圖片發(fā)現(xiàn)：實(shí)驗(yàn)前，樣品中無晶粒異常區(qū)域，晶粒均勻分布，評(píng)定實(shí)驗(yàn)前晶粒度為8.5級(jí)；實(shí)驗(yàn)后，晶粒都不同程度長(zhǎng)大，變得很不均勻。四、303CuS1 爐號(hào)：140614A03 規(guī)格9.5 狀態(tài)：固溶本廠固溶工藝工藝1區(qū)2區(qū)3區(qū)4區(qū)溫度975101510551055時(shí)間22min22min22min22min以下為本次實(shí)驗(yàn)所用固溶工藝：（由于實(shí)驗(yàn)室爐溫不穩(wěn)定，所以實(shí)驗(yàn)過程中實(shí)際溫度會(huì)與設(shè)定溫度有10度左右的偏差）實(shí)驗(yàn)固溶工藝一：900入爐，隨爐升溫到1040進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷；實(shí)驗(yàn)固溶工藝二：900入爐，隨爐升溫到1050進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷；實(shí)驗(yàn)固溶工藝三：900入爐，隨爐升溫到1065進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷。我們將實(shí)驗(yàn)前和實(shí)驗(yàn)后觀察到的晶粒組織進(jìn)行了對(duì)比，如下圖所示：（圖中HW表示橫外向） 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1040）HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1050）HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-1000X觀察這幾組圖片發(fā)現(xiàn)：實(shí)驗(yàn)前，樣品存在一些晶粒粗大的區(qū)域，評(píng)定實(shí)驗(yàn)前正常組織晶粒度為8.0級(jí)；實(shí)驗(yàn)后，這些晶粒都不同程度的長(zhǎng)大了，晶粒分布不均勻。五、303Cu 爐號(hào)：130731C02 規(guī)格7.5 狀態(tài)：固溶本廠固溶工藝工藝1區(qū)2區(qū)3區(qū)4區(qū)溫度975101510551055時(shí)間22min22min22min22min以下為本次實(shí)驗(yàn)所用固溶工藝：（由于實(shí)驗(yàn)室爐溫不穩(wěn)定，所以實(shí)驗(yàn)過程中實(shí)際溫度會(huì)與設(shè)定溫度有10度左右的偏差）實(shí)驗(yàn)固溶工藝：900入爐，隨爐升溫到1065進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷。我們將實(shí)驗(yàn)前和實(shí)驗(yàn)后觀察到的晶粒組織進(jìn)行了對(duì)比，如下圖所示：（圖中HW表示橫外向） 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-100X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-200X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-500X 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-1000X 實(shí)驗(yàn)后（1065）HW1-1-1000X觀察圖片發(fā)現(xiàn)：實(shí)驗(yàn)前，晶粒均勻分布，無不正常區(qū)域，評(píng)定其晶粒度為8.5級(jí)；實(shí)驗(yàn)后，晶粒不同程度長(zhǎng)大分布不均勻。六、303Cu 爐號(hào)：140614B01-06 規(guī)格7.03 狀態(tài)：固溶本廠固溶工藝工藝1區(qū)2區(qū)3區(qū)4區(qū)溫度975101510551055時(shí)間22min22min22min22min以下為本次實(shí)驗(yàn)所用固溶工藝：（由于實(shí)驗(yàn)室爐溫不穩(wěn)定，所以實(shí)驗(yàn)過程中實(shí)際溫度會(huì)與設(shè)定溫度有10度左右的偏差）實(shí)驗(yàn)固溶工藝：900入爐，隨爐升溫到1065進(jìn)行保溫50min，取樣后水冷。我們將實(shí)驗(yàn)前和實(shí)驗(yàn)后觀察到的晶粒組織進(jìn)行了對(duì)比，如下圖所示：（圖中HW表示橫外向） 實(shí)驗(yàn)前HW1-1-50X 實(shí)驗(yàn)