電子顯微分析試題集1

1、-作者xxxx-日期xxxx電子顯微分析試題集1【精品文檔】材料結(jié)構(gòu)分析一、名詞解釋：球差:球差是由于電磁透鏡的中心區(qū)域和邊沿區(qū)域?qū)﹄娮拥臅勰芰Σ煌斐傻?。色差：由于入射電子波長（或能量）不同造成的。景深：指在保持像清晰的前提下，試樣在物平面上下沿鏡軸可移動的距離，或者說試樣超越物平面所允許的厚度。焦深（焦長）：指在保持像清晰的前提下，像平面沿鏡軸可移動的距離，或者說觀察屏或照相底版沿鏡軸所允許的移動距離。分辨率：成像物體上能分辨出的兩個物點的最小距離明場像：讓投射束通過物鏡光闌所成的像暗場像：僅讓衍射束通過物鏡光闌所稱的像消光距離：符合布拉格條件時透射波與衍射波之間能量交換或強度振蕩的深

2、度周期。菊池花樣：在稍厚的薄膜試樣中觀察電子衍射時，經(jīng)常會發(fā)現(xiàn)在衍射譜的背景襯度上分布著黑白成對的線條。這時，如果旋轉(zhuǎn)試樣，衍射斑的亮度雖然會有所變化，但它們的位置基本上不會改變。但是，上述成對的線條卻會隨樣品的轉(zhuǎn)動迅速移動。這樣的衍射線條稱為菊池線，帶有菊池線的衍射花樣稱之為菊池衍射譜。衍射襯度：衍射襯度是由于晶體薄膜的不同部位滿足布拉格衍射條件的程度有差異而引起的襯度雙光束條件：假設(shè)電子束穿過樣品后，除了透射束以外，只存在一束較強的衍射束精確地符合布拉格條件，而其它的衍射束都大大偏離布拉格條件。作為結(jié)果，衍射花樣中除了透射斑以外，只有一個衍射斑的強度較大，其它的衍射斑強度基本上可以忽略，這

3、種情況就是所謂的雙光束條件。電子背散射衍射：在掃描電子顯微鏡中，利用非彈性散射的背散射電子與晶體衍射后，在樣品的背面得到的菊池衍射結(jié)果，其形成原理與TEM中的菊池衍射沒有本質(zhì)的區(qū)別二次電子：二次電子是被入射電子轟擊出來并離開樣品表面的核外電子，它來自于樣品于距表面510nm深度范圍，能量為050eV二次電子對樣品表面形貌十分敏感，因此非常適合于表面形貌分析。產(chǎn)額與原子序數(shù)之間沒有明顯的依賴關(guān)系，所以不能用它來進(jìn)行成分分析。背散射電子：是指被固體樣品原子反彈回來的一部分入射電子，其中包括彈性背散射電子和非彈性背散射電子。它來自樣品表層幾百納米的深度范圍，其能量很高，彈性背散射電子能量近似于入射電

4、子能量。背散射電子產(chǎn)額隨原子序數(shù)的增加而增加，不僅能用作形貌分析，也可用來顯示原子序數(shù)襯度，定性地用作成份分析。操作反射：在用雙光束成像時，參與成像的衍射斑除了透射斑以外，只有衍射斑h(yuǎn)kl，因此無論是在明場成像還是暗場成像時，如果該衍射斑參與了成像，則圖像上的襯度在理論上來講就與該衍射斑有非常密切的關(guān)系，所以我們經(jīng)常將該衍射斑稱為操作反射，記為ghkl. 特征X射線:樣品中原子受入射電子激發(fā)后，在能級躍遷過程中直接釋放的具有特征能量和波長的一種電磁波輻射，即特征X射線，其發(fā)射深度可達(dá)幾個微米范圍。特征X射線可用于微區(qū)元素分析。俄歇電子:如果在原子內(nèi)層電子能級躍遷過程中釋放的能量把空位層內(nèi)的另一

5、個電子（或更外層電子）發(fā)射出去，這個被電離出來的電子叫俄歇電子，其能量在501500eV之間。只有距樣品表面1nm深度范圍內(nèi)的俄歇電子才能逸出表面，因此特別適用于表面化學(xué)成分分析。二、簡答1透射電鏡主要由幾大系統(tǒng)構(gòu)成?各系統(tǒng)之間關(guān)系如何? 答：三大系統(tǒng):電子光學(xué)系統(tǒng),真空系統(tǒng),電源和控制系統(tǒng)其中電子光學(xué)系統(tǒng)是其核心。其他系統(tǒng)為輔助系統(tǒng)。 （工作原理: 電子槍發(fā)射的電子束在陽極加速電壓作用下加速，經(jīng)聚光鏡會聚成平行電子束照明樣品，穿過樣品的電子束攜帶樣品本身的結(jié)構(gòu)信息，經(jīng)物鏡、中間鏡、投影鏡接力聚焦放大，以圖像或衍射譜形式顯示于熒光屏。 應(yīng)用：早期的透射電子顯微鏡功能主要是觀察樣品形貌，后來發(fā)展

6、到可以通過電子衍射原位分析樣品的晶體結(jié)構(gòu)。具有能將形貌和晶體結(jié)構(gòu)原位觀察的兩個功能是其它結(jié)構(gòu)分析儀器（如光鏡和X射線衍射儀）所不具備的。）2照明系統(tǒng)的作用是什么?它應(yīng)滿足什么要求?作用是提供一束亮度高、照明孔徑半角小、平行度好、束流穩(wěn)定的照明源。為了滿足明場和暗場成像的需要，照明束可以在5度范圍內(nèi)傾轉(zhuǎn)。3成像系統(tǒng)的主要構(gòu)成及其特點是什么? 答：主要由物鏡、物鏡光欄、選區(qū)光欄、中間鏡和投影鏡組成. 1）物鏡：強勵磁短焦透鏡（f=1-3mm）,放大倍數(shù)100300倍。 作用：形成第一幅放大的衍射花樣或與組織對應(yīng)的顯微像 2）物鏡光欄：裝在物鏡背焦面，直徑20120um，無磁金屬制成。 3）選區(qū)光欄

7、：裝在物鏡像平面上，直徑20-400um，作用：對樣品進(jìn)行微區(qū)衍射分析。 4）中間鏡：弱勵磁長焦距的變倍透鏡，放大倍數(shù)可調(diào)節(jié)020倍作用a.控制電鏡總放大倍數(shù)。B.成像/衍射模式選擇。 5）投影鏡：短焦、強磁透鏡，進(jìn)一步放大中間鏡的像。投影鏡內(nèi)孔徑較小，使電子束進(jìn)入投影鏡孔徑角很小。 小孔徑角有兩個特點： a. 景深大，改變中間鏡放大倍數(shù)，使總倍數(shù)變化大，也不影響圖象清晰度。 b焦深長，放寬對熒光屏和底片平面嚴(yán)格位置要求。4分別說明成像操作與衍射操作時各級透鏡(像平面與物平面)之間的相對位置關(guān)系，并畫出光路圖。中間鏡的物平面和物鏡的像平面重合，則在熒光屏上得到一幅放大的電子顯微圖像，這就是成像

8、操作；如果把中間鏡的物平面和物鏡的背焦面重臺，則在熒光屏上得到一幅電子衍射花樣，這就是透射電鏡的電子衍射操作。5說明多晶、單晶及非晶衍射花樣的特征及形成原理。答：單晶花樣是一個零層二維倒易截面，其倒易點規(guī)則排列，具有明顯對稱性，且處于二維網(wǎng)絡(luò)的格點上。因此表達(dá)花樣對稱性的基本單元為平行四邊形。單晶電子衍射花樣就是(uvw)*0 零層倒易截面的放大像。 多晶面的衍射花樣為：各衍射圓錐與垂直入射束方向的熒光屏或照相底片的相交線，為一系列同心圓環(huán)。每一族衍射晶面對應(yīng)的倒易點分布集合而成一半徑為1/d的倒易球面，與Ewald球的相慣線為圓環(huán)，因此，樣品各晶粒hkl晶面族晶面的衍射線軌跡形成以入射電子束

9、為軸、2為半錐角的衍射圓錐，不同晶面族衍射圓錐2不同，但各衍射圓錐共頂、共軸。 非晶的衍射花樣為一個圓斑6制備薄膜樣品的基本要求是什么?具體工藝過程如何?雙噴減薄與離子減薄各適用于制備什么樣品?答：樣品的基本要求：1）薄膜樣品的組織結(jié)構(gòu)必須和大塊樣品相同，在制備過程中，組織結(jié)構(gòu)不變化；2）樣品相對于電子束必須有足夠的透明度3）薄膜樣品應(yīng)有一定強度和剛度，在制備、夾持和操作過程中不會引起變形和損壞；4）在樣品制備過程中不允許表面產(chǎn)生氧化和腐蝕。樣品制備的工藝過程：1) 切薄片樣品2) 預(yù)減薄3) 終減薄離子減?。?）不導(dǎo)電的陶瓷樣品2）要求質(zhì)量高的金屬樣品3）不宜雙噴電解的金屬與合金樣品雙噴電解

10、減?。?）不易于腐蝕的裂紋端試樣2）非粉末冶金試樣3）組織中各相電解性能相差不大的材料4）不易于脆斷、不能清洗的試樣7什么是衍射襯度?它與質(zhì)厚襯度有什么區(qū)別?衍射襯度是由于晶體薄膜的不同部位滿足布拉格衍射條件的程度有差異而引起的襯度；質(zhì)量厚度襯度本質(zhì)上是一種散射吸收襯度，即襯度是由散射物不同部位對入射電子的散射吸收程度有差異而引起的，它與散射物體不同部位的密度和厚度的差異有關(guān)；衍襯成像反映的是晶體內(nèi)部的組織結(jié)構(gòu)特征，而質(zhì)量厚度襯度反映的基本上是樣品的形貌特征。8畫圖說明衍襯成像原理，并說明什么是明場像，暗明場像。答：設(shè)薄膜有A、B兩晶粒B內(nèi)的某(hkl)晶面嚴(yán)格滿足Bragg條件，或B晶粒內(nèi)滿

11、足“雙光束條件”，則通過(hkl)衍射使入射強度I0分解為Ihkl和I0-Ihkl兩部分A晶粒內(nèi)所有晶面與Bragg角相差較大，不能產(chǎn)生衍射。在物鏡背焦面上的物鏡光闌，將衍射束擋掉，只讓透射束通過光闌孔進(jìn)行成像（明場），此時，像平面上A和B晶粒的光強度或亮度不同，分別為IA » I0IB » I0 - IhklB晶粒相對A晶粒的像襯度為明場成像：只讓中心透射束穿過物鏡光欄形成的衍襯像稱為明場鏡。 暗場成像：只讓某一衍射束通過物鏡光欄形成的衍襯像稱為暗場像。 中心暗場像：入射電子束相對衍射晶面傾斜角，此時衍射斑將移到透鏡的中心位置，該衍射束通過物鏡光欄形成的衍襯像稱為中心暗場

12、成像9什么是消光距離?影響晶體消光距離的主要物性參數(shù)和外界條件參數(shù)是什么?答：符合布拉格條件時透射波與衍射波之間能量交換或強度振蕩的深度周期。影響因素:晶胞體積,結(jié)構(gòu)因子,Bragg角,電子波長。10衍襯運動學(xué)的基本假設(shè)及其意義是什么?怎樣做才能滿足或接近基本假設(shè)?答：（1）忽略樣品對電子束的吸收和多重散射 。 （2）不考慮衍射束和透射束間的交互作用。即對襯度有貢獻(xiàn)的衍射束，其強度相對于入射束強度是非常小的。 （3）雙光束近似意味著：a) 存在一個S值； b) 具有互補性 基本假設(shè)： （4）柱體近似。試樣下表面某點所產(chǎn)生的衍射束強度近似為以該點為中心的一個小柱體衍射束的強度，柱體與柱體間互不干

13、擾11舉例說明理想晶體衍襯運動學(xué)基本方程在解釋衍襯圖像中的應(yīng)用。等厚條紋和等傾條紋12什么是缺陷不可見判據(jù)?如何用不可見判據(jù)來確定位錯的布氏矢量?答：層錯不可見判據(jù)是指：a ；b層錯平行于樣品表面時；位錯的不可見判據(jù)為g.b=0；確定位錯的布氏矢量可按如下步驟：找到兩個操作發(fā)射g1和g2，其成像時位錯均不可見，則必有g(shù)1·b0，g2·b0。這就是說，b應(yīng)該在g1和g2所對應(yīng)的晶面（h1k1l1）和（h2k2l2）內(nèi)，即b應(yīng)該平行于這兩個晶面的交線，bg1×g2，再利用晶面定律可以求出b的指數(shù)。至于b的大小，通?？扇∵@個方向上的最小點陣矢量。13寫出電子束入射固體晶

14、體表面激發(fā)出的三種物理信號，它們有哪些特點和用途?答：主要有六種：1)背散射電子:能量高；來自樣品表面幾百nm深度范圍；其產(chǎn)額隨原子序數(shù)增大而增多.用作形貌分析、成分分析2)二次電子:能量較低；來自表層510nm深度范圍；對樣品表面化狀態(tài)十分敏感。不能進(jìn)行成分分析.主要用于分析樣品表面形貌。3)吸收電子:其襯度恰好和SE或BE信號調(diào)制圖像襯度相反;與背散射電子的襯度互補。吸收電子能產(chǎn)生原子序數(shù)襯度，即可用來進(jìn)行定性的微區(qū)成分分析.4)透射電子：透射電子信號由微區(qū)的厚度、成分和晶體結(jié)構(gòu)決定.可進(jìn)行微區(qū)成分分析。5)特征X射線: 用特征值進(jìn)行成分分析，來自樣品較深的區(qū)域達(dá)幾微米，可進(jìn)行微區(qū)元素分析

15、 6)俄歇電子:各元素的俄歇電子能量值很低；來自樣品表面12nm范圍。它適合做表面分析。14掃描電鏡的成像原理與透射電鏡有何不同? 掃描電子顯微鏡的成像原理和光學(xué)顯微鏡或透射電子顯微鏡不同，它是以電子束作為照明源，把聚焦得很細(xì)的電子束以光柵狀掃描方式照射到試樣上，產(chǎn)生各種與試樣性質(zhì)有關(guān)的信息，然后加以收集和處理從而獲得微觀形貌放大像。15二次電子像和背散射電子像在顯示表面形貌襯度時有何相同與不同之處?答：二次電子像：二次電子圖像反映試樣表面狀態(tài)，二次電子產(chǎn)額強烈地依賴于入射束與試樣表面法線之間的夾角q:二次電子產(chǎn)額 µ 1/cosq即q角大的地方出來的二次電子多，呈亮像；q角小的地方

16、出來的電子少，呈暗像，二次電子像是一種無影像，這對觀察復(fù)雜表面形貌是有益的背散射電子像：背散射電子產(chǎn)額隨原子序數(shù)增大而增多。在進(jìn)行圖像分析時，樣品中重元素區(qū)域背散射電子數(shù)量較多，呈亮區(qū)，而輕元素區(qū)域則為暗區(qū)。用背散射電子信號進(jìn)行形貌分析時，其分辨率遠(yuǎn)比二次電子低，主要是因為背散射電子是在一個較大的作用體積內(nèi)被入射電子激發(fā)出來，成像單元大。16當(dāng)電子束入射重元素和輕元素時，其作用體積有何不同?各自產(chǎn)生的信號的分辨率有何特點?當(dāng)電子束射入重元素樣品時，作用體積不呈滴狀，而是半球狀。原子序數(shù)越大，作用的區(qū)域越小，因此射入重元素的信號分辨率要高于輕元素17二次電子像景深很大；樣品凹坑底部都能清楚地顯示

17、出來，從而使圖像的立體感很強，其原因何在?答：二次電子像立體感很強這是因為1）凸出的尖棱，小粒子以及比較陡的斜面處SE 產(chǎn)額較多，在熒光屏上這部分的亮度較大。 2）平面上的SE 產(chǎn)額較小，亮度較低。 3）在深的凹槽底部盡管能產(chǎn)生較多二次電子，使其不易被控制到，因此相應(yīng)襯度也較暗18. 要在觀察斷口形貌的同時，分析斷口上粒狀夾雜物的化學(xué)成分，選用什么儀器?用怎樣的操作方式進(jìn)行具體分析?掃描電鏡；用背散射電子的操作方式進(jìn)行分析，背散射電子產(chǎn)額隨原子序數(shù)增大而增多。在進(jìn)行圖像分析時，樣品中重元素區(qū)域背散射電子數(shù)量較多，呈亮區(qū)，而輕元素區(qū)域則為暗區(qū)。一對半導(dǎo)體硅檢測器，將二者收集到的信號進(jìn)行處理：二者

18、相加，得到成份像；二者相減，得到形貌像19舉例說明電子探針的三種工作方式(點、線、面)在顯微成分分析中的應(yīng)用。答：(1)定點分析： 將電子束固定在要分析的微區(qū)上用波譜儀分析時，改變分光晶體和探測器的位置，即可得到分析點的X射線譜線；用能譜儀分析時，幾分鐘內(nèi)即可直接從熒光屏（或計算機）上得到微區(qū)內(nèi)全部元素的譜線。 (2)線分析：將譜儀（波、能）固定在所要測量的某一元素特征X射線信號（波長或能量）的位置把電子束沿著指定的方向作直線軌跡掃描，便可得到這一元素沿直線的濃度分布情況。改變位置可得到另一元素的濃度分布情況。(3)面分析： 電子束在樣品表面作光柵掃描，將譜儀（波、能）固定在所要測量的某一元素

19、特征X射線信號（波長或能量）的位置，此時，在熒光屏上得到該元素的面分布圖像。改變位置可得到另一元素的濃度分布情況。也是用X射線調(diào)制圖像的方法。20. 電子探針儀與掃描電鏡有何異同?電子探針儀如何與掃描電鏡和透射電鏡配合進(jìn)行組織結(jié)構(gòu)與微區(qū)化學(xué)成分的同位分析?用細(xì)聚焦電子束入射樣品表面，激發(fā)出樣品中各元素的特征（標(biāo)識） X射線，分析特征X射線的波長（或特征能量）即可得到元素的種類（定性分析）；定量分析是分析特征X射線的強度，得到樣品中相應(yīng)元素的含量。電子探針的功能主要是進(jìn)行微區(qū)成分分析，常作為附件安裝在掃描電鏡、透射電鏡鏡筒上，以滿足微區(qū)組織形貌、晶體結(jié)構(gòu)及化學(xué)成分三位一體同位分析。21. 波譜儀

20、和能譜儀各有什么優(yōu)缺點?答：波譜儀：用來檢測X射線的特征波長的儀器能譜儀：用來檢測X射線的特征能量的儀器能譜儀優(yōu)點:1）能譜儀探測X射線的效率高。其靈敏度比波譜儀高一個數(shù)量級；2）在同一時間對分析點內(nèi)所有元素X射線光子的能量進(jìn)行測定和計數(shù)，在幾分鐘內(nèi)可得到定性分析結(jié)果，而波譜儀只能逐個測量每種元素特征波長。在元素范圍分布較大時可能需要更換分光晶體；3）結(jié)構(gòu)簡單，穩(wěn)定性和重現(xiàn)性都很好4）不必聚焦，對樣品表面無特殊要求，適于粗糙表面分析。 能譜儀缺點：1）分辨率低.2）能譜儀因Si(Li)探測器的鈹窗口只能分析原子序數(shù)大于11的元素；而波譜儀可測定原子序數(shù)從4到92間的所有元素。 3）能譜儀的Si

21、(Li)探頭必須保持在低溫態(tài)，因此必須時時用液氮冷卻。22. 某多晶體的電鏡衍射圖中，有八個衍射環(huán)，R從小到大讀數(shù)依次等于628、727、1029、1205、1257、1462、1587、1631mm，若該晶體屬于立方晶系，能否判斷該樣品的點陣類型?23.透射電鏡的電子光學(xué)系統(tǒng)（鏡筒）包括哪幾個部分，分別指出電子槍、聚光鏡、物鏡、中間鏡、投影鏡和照相機各屬于哪個部分；指出物鏡光闌和選區(qū)光闌所在的位置。電子光學(xué)系統(tǒng)通常稱為鏡筒，是透射電子顯微鏡的核心，它又可以分為照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和觀察記錄系統(tǒng)。24.電磁透鏡的像差包括哪幾種，分別說明它們產(chǎn)生的原因及消除的方法。答：像差分為球差,像散,色差.球

22、差是磁透鏡中心區(qū)和邊沿區(qū)對電子的折射能力不同引起的. 增大透鏡的激磁電流可減小球差.像散是由于電磁透鏡的周向磁場不非旋轉(zhuǎn)對稱引起的.可以通過引入一強度和方位都可以調(diào)節(jié)的矯正磁場來進(jìn)行補償.色差是電子波的波長或能量發(fā)生一定幅度的改變而造成的. 穩(wěn)定加速電壓和透鏡電流可減小色差.25.透射電鏡中有哪些主要光闌，在什么位置？其作用如何？答：主要有三種光闌：聚光鏡光闌。在雙聚光鏡系統(tǒng)中,該光闌裝在第二聚光鏡下方。作用:限制照明孔徑角。物鏡光闌。安裝在物鏡后焦面。作用: 提高像襯度；減小孔徑角，從而減小像差；進(jìn)行暗場成像。選區(qū)光闌:放在物鏡的像平面位置。作用:對樣品進(jìn)行微區(qū)電子衍射分析26.試畫一張含有

23、空洞、位錯、層錯（傾斜）和晶界的多晶薄膜衍襯像。27.試分析位錯線像總是出現(xiàn)在它的實際位置的一側(cè)或另一側(cè)的成因。位錯處的畸變量大，不滿足布拉格衍射條件，只有在位錯附近一側(cè)的一定距離才滿足布拉格條件，因此位錯線總是出現(xiàn)在實際位置的一側(cè)或另一側(cè)。28什么是雙光束衍射？電子衍襯分析時，為什么要求在近似雙光束條件下進(jìn)行？答案：雙光束衍射:傾轉(zhuǎn)樣品，使晶體中只有一個晶面滿足Bragg條件，從而產(chǎn)生衍射，其它晶面均遠(yuǎn)離Bragg位置，衍射花樣中幾乎只存在大的透射斑點和一個強衍射斑點。原因：在近似雙光束條件下，產(chǎn)生強衍射，有利于對樣品的分析三、如圖為某一晶體的電子衍射花樣，該晶體為體心立方，晶格常數(shù)為a=0

24、.388nm.經(jīng)測量后得到：RA=，RB=，RC=，RD=，RE=，<AOB>=73°；加速電壓200kV（相應(yīng)的波長為0.0251埃），相機長度800mm，相機常數(shù)為.  下表為與該體心立方物相對應(yīng)的表格的一部分。KU   V  WH1 K1 L1H2 K2 L2R2/R1R3/R1FAI    D1     D211   1  10  

25、60;1  -1-1   0  1      41   0  00  -1  -10   1  -1   82   1  00   0  -2-1   2 &#

26、160;1      93   2  1-1   2 -1-1   0  3    101   1  01  -1   00   0  -2   114  &#

27、160;2  1-1   1  21  -3   2   123   1  00   0  -2-1   3  0   133   1  10   1  -1-1

28、0;  1  2       144   3  2-1   2 -1-2   0  4     155   2  1-1   2  10  -2   

29、4   試對上面花樣用查表法進(jìn)行標(biāo)定，并驗算其正確性，最后用花樣中任意不共線的兩斑點算出花樣的晶帶軸，以驗證晶帶軸的正確性（要求寫出表達(dá)式和過程）。八、如圖為銅晶體的電子衍射花樣，晶格常數(shù)為a=0. 3613nm.經(jīng)測量后得到：R1=mm，R2=9mm，R3=mm，R4=mm，R5=mm，<R1OR2=71°；加速電壓300kV（相應(yīng)的波長為0.0197埃），相機長度100cm，理論相機常數(shù)為mm.請先標(biāo)定該銅晶體的花樣，并校正該電鏡在相機長度為100cm時的相機常數(shù)（該電鏡由于多年沒有校正相機常數(shù)，實際值與理論值相差可能比較大）。附表為

30、與銅晶體有關(guān)的衍射譜的幾何特征表。附表：銅晶體衍射譜幾何特征表序號  U  V   W   H1  K1  L1 H2   K2  L2  R2/R1  R3/R1  FAI     D1     D2    

31、 1   1   1   1   0   2  -2  -2   0   2               2   6   5

32、60;  3  -1   3  -3  -3   3   1          .829   .829     3   6   5   2  

33、;-2   4  -4  -4   4   2          .602   .602     4   4   2   1   0   2

34、  -4  -2   4   0          .808   .808     5   1   1   0  -1   1  -1  -

35、1   1   1                6   1   0   0   0  -2   0   0   0  -2

36、60;               7   5   3   1   2  -2  -4  -2   4  -2         &

37、#160;.738   .738     8   5   2   1   1  -1  -3  -1   3  -1              

38、60; 9   4   3   2   2   0  -4  -2   4  -2          .808   .738    10   4

39、60;  1   1   0  -2   2   1  -3  -1               11   3   3   2   

40、;2  -2   0   1   1  -3               12   6   4   1   2  -2  -4  -2

41、60;  4  -4          .738   .602    13   6   3   1   1  -1  -3  -1   3  -3 &

42、#160;          .829    14   5   4   3   1   1  -3  -3   3   1       &#

43、160;   .829    15   6   2   1   0   2  -4  -2   4   4         .808   .602 &

44、#160;  16   5   4   2   0   2  -4  -4   4   2          .808   .602    17 &#

45、160; 6   3   2  -2   4   0  -2   0   6          .808   .571    18   6  

46、0;5   4   2  -4   2   4   0  -6          .738   .501    19   4   3   3 

47、;  0   2  -2  -3   1   3           .829    20   6   1   1   0   2 

48、0;-2  -1   3   3            .829    21   2   2   1   2  -2   0   2  &#

49、160;0  -4            .808    22   6   4   3   2   0  -4  -4   6   0   

50、      .808   .501    23   2   1   1   1  -1  -1   0   2  -2         &#

51、160;     24   3   1   0   0   0  -2  -1   3   1              25   

52、;3   1   1   0  -2   2   2  -4  -2            .738    26   5   5   2&#

53、160;  2  -2   0   1   1  -5            .695    27   5   5   4  -2   2 

54、  0  -3  -1   5            .611    28   3   2   2   0   2  -2  -4  

55、60;2   4           .602    29   3   3   1   2  -2   0   2   0  -6   &#

56、160;        .571    30   2   1   0   0   0  -2  -2   4   0         

57、60;  .808    31   6   5   5   0   2  -2  -5   3   3            .551   

58、 32   3   2   1   1  -1  -1  -1   3  -3            .82933   5   1   0 

59、  0   0  -2  -1   5   1          .695    34   5   1   1   0  -2   2

60、60;  2  -4  -6           .483    35   4   4   1   2  -2   0   0   2  -

61、8            .438    36   5   2   2   0  -2   2   4  -6  -4       

62、;     .438    37   5   3   0   0   0  -2  -3   5  -1            .611 &

63、#160;  38   4   4   3   2  -2   0   4   2  -8            .394    39   5   3   3   0   2  -2  -6   4   6